小角散射实验应用成像板探测器测量绝对强度的方法

利用衰减法,设计了以第一电离室的计数归一化入射光束强度,用成像板计数单位记录入射光束强度的方案,并用Si片衰减进行了实验,结果表明本文提出的方案能够获得合理的绝对强度.     

关于变时滞Lur’e间接控制系统的绝对稳定性

本文研究了变时滞Lur’e间接控制系统的绝对稳定性.利用M-矩阵性质及不等式技巧,通过引进可调参数,得到了变时滞Lur’e间接控制系统与时滞相关绝对稳定性新的充分条件.文中的结论推广和改进了已有文献中相应结果.     

HXLiF（X=B,Al）分子几何构型的从头算

用从头算方法研究类硼烯ＨＢＬｉＦ和类铝烯ＨＡ１ＬｉＦ的几何构型，它们均有四种平衡构型，分析各构型的特点，从Ｍｕｌｌｉｋｅｎ集居数和分子间相互作用的角度讨论其稳定性，并与Ｈ２ＣＬｉＦ、Ｈ２ＳｉＬｉＦ和ＨＮＬｉＦ进行了比较。     

关于凸子集和（绝对）收缩核

讨论了线性度量空间中凸子集在什么情况下为该空间的收缩核，以及在什么情况下为绝对收缩核。     

方阱流体的配位数模型

基于格子气体理论，提出了方阱流体及其混合物的新配位数模型和构型能表达式。新模型与Ｌｅｅ等人的ＭｏｎｔｅＣａｒｌｏ计算机模拟结果进行了比较，取得了较好的计算结果。将新模型应用于分子尺寸不同的混合物时，计算结果尤为满意。     

UFsh—O软X光胶片在质子荧光源上的绝对刻度

介绍在Ｋ—４００质子加速器上，以质子激发低Ｚ材料产生的内壳层荧光（波长０．５０～６．８ｕｍ）作为光源绝对刻度ＵＦｓｈ—Ｏ软Ｘ光胶片．给出了该种胶片的三维黑密度曲线并对结果作了讨论．     

多非线性控制项的Luré系统绝对稳定的充要条件

本文对具有多非线性控制项的控制系统，得到了绝对稳定的一般性充要条件，并对其特殊情况给出了构造性充要条件．     

一类二次问题的解法

以下一类系数含参变量的二次问题：已知二次函数在某闭区间上的最大（或最小）值，求参变量的值；已知二次不等式在某闭区间上为绝对不等式，求参变量的取值范围等，是常见的一类二次问题．解这一类问题，通常是通过考察相应的二次抛物线的开口方向以及与所给的闭区间的位置关系，按情况分类讨论，     

自发喇曼成像法在线测量流场组分浓度(II)

 介绍了利用自发Raman散射光谱测量低压气流组分绝对浓度的方法，在流动状态下得到了不同压力下的自发喇曼散射光谱，检测最低压力为133帕；对于含N₂氧气流在已知N₂浓度时实时标定检测了O₂的绝对浓度，测量误差小于8%。     

太阳米粒结构相关哈特曼-夏克波前传感模拟研究

基于互相关因子和绝对差分算法以及相关哈特曼－夏克波前传感器的基本原理，根据室内模拟太阳米料结构研究了低对比度扩展目标情况下应用相关哈特曼－夏克波前传感器探测波前误差的可行性，结果表明，相关哈特曼－夏克波前传感器能够有效探测光学波前误差。