首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   9285篇
  免费   1552篇
  国内免费   4561篇
化学   10124篇
晶体学   166篇
力学   138篇
综合类   252篇
数学   679篇
物理学   4039篇
  2024年   78篇
  2023年   239篇
  2022年   316篇
  2021年   307篇
  2020年   246篇
  2019年   320篇
  2018年   202篇
  2017年   300篇
  2016年   361篇
  2015年   390篇
  2014年   677篇
  2013年   614篇
  2012年   682篇
  2011年   688篇
  2010年   629篇
  2009年   689篇
  2008年   816篇
  2007年   669篇
  2006年   730篇
  2005年   590篇
  2004年   635篇
  2003年   554篇
  2002年   534篇
  2001年   466篇
  2000年   349篇
  1999年   397篇
  1998年   328篇
  1997年   315篇
  1996年   302篇
  1995年   334篇
  1994年   268篇
  1993年   244篇
  1992年   268篇
  1991年   219篇
  1990年   222篇
  1989年   192篇
  1988年   82篇
  1987年   36篇
  1986年   38篇
  1985年   21篇
  1984年   18篇
  1983年   25篇
  1982年   3篇
  1981年   1篇
  1980年   1篇
  1979年   1篇
  1959年   2篇
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 15 毫秒
41.
利用硅团簇Si+n(n=1-3)注入Si单晶, 在Si单晶内形成一些单空位和双空位, 通过其光吸收谱观察到了带电状态为V02的双空位缺陷, 以及团簇效应对缺陷的影响, 正电子湮灭及TRIM程序模拟计算都表明团簇效应的存在.  相似文献   
42.
43.
苏昉  苏骏  金嗣炤 《物理学报》1992,41(3):448-458
对两种非晶态B2O3-0.7Li2O-0.7LiCl-xAl2O3-0.1V2O5(x=0.05和0.15),用差热分析、电导率测量、X射线衍射和电子自旋共振进行研究,发现:1)V2O5不仅作非晶网络形成剂,而且改变了晶化过程;2)对B2O3-Li2关键词:  相似文献   
44.
在水热晶化合成一系列NASICON型化合物的基础上,应用固体高分辨31P和29Si MAS NMR,研究了几种NASICON化合物的结构,观察其骨架原子P和Si在结构中的状态及分布,并解释了由于在结构中发生取代作用而引起,Si或P的化学位移的变化.  相似文献   
45.
电子与原子、离子碰撞过程的相对论效应   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
屈一至  仝晓民  李家明 《物理学报》1995,44(11):1719-1726
在玻恩近似下,建立了高能电子与原子、离于非弹性碰撞过程的相对论性理论计算方法,并以类Li等电子系列为例,阐明了电子与原子、离子非弹性碰撞过程的相对论效应.它包括:1.靶原子的相对论效应,它随原子序数的增加而增大.低z靶(如Li)的相对论效应可以忽略;对Au~(+76)靶的2_3—3p跃迁,广义振子强度相对论性计算值比相应的非相对论性值小27.1%.2.入射电子的相对论效应,它随入射电子能量的增加而增大.对高能入射电子,在特殊角度,要考虑广义振子强度横场项对微分截面的影响.在极端相对论情况下,如入射电子动能 关键词:  相似文献   
46.
“Г—环中存在强诣零根”的命题是错误的   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文针对Coppage与Luh的论文中定理5.4,用一个实例有力地指出该定理是错误的,这个实例指出,尽管任何一个结合环都有一个诣零根,但推广到Г-环中,并不是任何一个Г-环都有强诣零根,因而Г环决不是结合环的平行推广.  相似文献   
47.
Hydrogen ions were implanted into separation by implantation of oxygen (SIMOX) silicon-on-insulator (SOI) wafers near the oxygen-implantation-induced damage peak under different conditions of energy and dose. It was found that the implanted hydrogen ions not only accelerate the diffusion of oxygen atoms from the annealing ambience into the wafer but also cause an outward diffusion of oxygen atoms in the buried oxide (BOX) layer. Thus, greatly broadened buried oxygen-rich (BOR) layers were formed in our experiments, which are 18%-79% broader than the BOX layer of standard SIMOX SOI wafers under the same conditions of oxygen implantation. The mechanism was discussed. A potential low cost method to fabricate SIMOX SOI wafers is proposed.  相似文献   
48.
Yb:FAP和Yb:C3S2-FAP晶体光谱的温度特性和选择激发   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
关键词:  相似文献   
49.
50.
盛勇  蒋刚  朱正和 《物理学报》2002,51(3):501-505
类氢类氦类锂镁离子经中间双激发态进行的双电子复合过程在研究惯性约束聚变电子温度中占有很重要的地位.用准相对论方法计算了双电子复合经不同Rydberg态跃迁通道的复合速率系数,并给出不同离化度离子的双电子复合速率系数随电子温度的变化规律.显示出离子的相关能对峰值的电子温度有很大影响,当类氢离子跃迁通道的旁观电子角动量为1时双电子复合系数最大,而类锂离子是旁观电子角动量为3时最大. 关键词: 双电子复合 镁离子 角动量  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号