热化学循环

恒温,确定反应的始态(A)和终态(B)后,反应的焓变和过程无关.如图1中ΔH1=ΔH2+ΔH3+ΔH4,若已知其中任意3个ΔH,可得第4个ΔH.热化学循环可被用于计算无法或很难用实验方法得到的数据.本文讨论几个和教学有关的问题.     

关于-RTlnK_c~■=Δ_rG_m~■(c~■)的讨论

在等温等压条件下,通过pB=cBRT关系转换,所得关系式证明了-RTlnK—cΟ=ΔrG—mΟ(c—Ο)。还分析推证出ΔrG—mΟ(c—Ο)和ΔrG—mΟ(p—Ο)、ΔrH—Οm(c—Ο)和ΔrHΟ—m(p—Ο)、ΔrSΟ—m(c—Ο)和ΔrSΟ—m(p—Ο)、ΔrUΟ—m(c—Ο)和ΔrHΟ—m(cΟ—)以及ΔrG—Οm(c—Ο)和ΔrA—mΟ(c—Ο)之间的几个关系式,进一步证实了-RTlnK—cΟ=ΔrGΟ—m(c—Ο)。     

高频介质阻挡放电烟气脱硫研究

采用高频介质阻挡放电的方式产生低温等离子体,研究在不加入NH₃的情况下流动态SO₂的去除情况.实验表明,在输入电压为12 kV,SO₂浓度为5400 mg/m³,气体流量为0.36 m³/h,相对湿度为55%时,脱硫率可达到70%以上;水气的存在对SO₂的去除有较大的促进作用,升高电压和增加O₂量对脱硫率的促进作用有限.对实验结果进行了解释,并提出了反应机理.     

侧链对聚对苯撑乙炔溶解性和光谱性能的影响

利用钯催化反应合成了一类侧链含不同烷氧取代基(甲氧基，辛烷氧基，十二烷氧基)的聚时苯撑乙炔，讨论了侧链烷氧取代基对聚对苯撑乙炔的分子量和溶解性的影响，比较了聚合物的紫外吸收光谱和荧光光谱特征。     

电化学STM技术在金属腐蚀科学中的应用及研究进展

本文介绍了电化学STM在金属腐蚀电化学研究领域的技术优势.其最大特点是可以在金属腐蚀环境中和原子/分子水平上,实时、原位、三维空间观察,并可以通过电位控制表面电极过程.综述了电化学STM在钝化膜结构、缓蚀剂的自组装膜、金属表面原子的活性溶解等揭示腐蚀缓蚀机理的研究领域中所起的重要作用以及最新研究进展.     

Resolution of 2-Octanol via Lipase-catalyzed Enantioselective Acetylation in Organic Solvents

The lipases from different sources were screened for their ability to catalyze the resolution of 2-octanol in organic solvents with vinyl acetate as the acylating reagent. The medium effect has been studied on the irreversible transesterification with varying water activity(aw). The influence of vinyl acetate concentration on it has also been investigated. Under the optimal conditions, the enantiomeric ratio(E value) of pseudomonas fluorescence lipase (PFL) exceeded 200 with an enantiomeric excess (e. e. ) of S-2-octanol above 99% at a 51% degree of conversion.     

硫化态K—MoO3／γ—Al2O3催化剂表面物种的XPS研究

采用Ｘ光光电子能谱及曲线氦合手段对硫化态Ｋ－ＭｏＯ３／Ａｌ２Ｏ３合成醇催化剂进行了研究，分别考察负载量及硫化前不同条件预处理对催化剂表面的Ｓ、Ｍｏ组分的物种形式及各物种相对含量的影响，以及表面不同组分的相对组成。结果表明，根据其电子结合能变化，Ｓ组分可区分为ＳＯ＾２－４、ＳＯ３、Ｓ＾０、ＭｏＳ２、ＭｏＳ２－ｘ等六种存在形式不同的物种；Ｍｏ组分可分为Ｍｏ＾６＋、Ｍｏ＾５＋、ＭｏＳ＾２＋、ＭｏＳ２、Ｍ     

分子态氧在Ag(110)面上的吸附构型、吸附态和吸附能的CM和DAM从头算研究

本文分别用原子簇模型(CM)浸入吸附原子簇模型(DAM)的从头算方法, 研究了分子态氧在Ag(110)面上的化学吸附构型, 吸附态和吸附能。以Ag6O2为模型体系,对O2在Ag(110)表面长桥位(LB)化学吸附的研究表明: 二个最低能态是^1A1和^3A2,它们分别对应在[110]槽位吸附的过氧分子O2^2^-和在[001]方向吸附的超氧分子O2^-, 理论优化的吸附构型的实验测量分析结果非常一致。由于CM方法忽略了金属本体的影响, 所得吸附能明显低于实验值(甚至是负值), 而DAM方法得到正的吸附能, 且相当接近于实验值38.9kJ/mol, 其中[110]槽位吸附更为稳定。     

高分辨双晶XRF研究酞菁化合物中硫杂质的化学态

酞菁化合物是一种大π键共轭体系的平面分子结构，它以颜色鲜艳、化学稳定性和价格便宜等特点，已在颜料工业上得到了广泛地应用．随着高科技的发展，酞菁化合物的应用进入静电复印的领域．研究中发现：酞普化合物的晶体结构直接影响它的色泽、耐热性、稳定性以及光电导性．在诸多的酸苦晶型中，β-型酞菁是比较稳定的一种，其它晶型届亚稳态型．近年来，光敏性较好的X-型用于激光印刷机感光鼓的载流子产生层［1］．用作静电复印中的酞育粗颜料，一般多为a一型，且含有大量的有机和无机杂质[2]，经高温真空升华提纯后，转变为卢一型．有趣…