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111.
众所周知,四阶以上辛群中指数型道路的Maslov指标可以取任意整数.本文给出了二阶辛群中指数型道路的分类及其Maslov指标的取值范围,指出了与高阶情形的不同之处. 相似文献
112.
田兴 《新疆大学学报(理工版)》1991,8(1):53-55
本文分析计算了荧光光纤温度传感器的温敏元件——GsAlAs/GaAs双异质结半导体材料的荧光辐射效率与激励光波长的关系。讨论了温度测量范围及温敏元件GaAlAs层铝含量对激励光源的限制,在0~200℃测温范围内,若采用LED作激励光源,其峰值波长应在0.70~0.76μm之间选择。 相似文献
113.
波罗的海运价指数BD I是综合反应干散货航运市场运价总水平的指标,在众多的运价指数中占有公认的主导地位。本文以BD I运价指数为研究对象,通过协整研究,证明了BD I运价指数与BC I4条样本航线期租价格之间稳定的联动关系,并且给出了它们的误差修正模型。 相似文献
114.
研究了HfN/HfO2高K栅结构p型金属-氧化物-半导体(MOS)晶体管(MOSFET)中,负 偏置-温度应力引起的阈值电压不稳定性(NBTI)特征.HfN/HfO2高K栅结构的等效 氧化层厚度(EOT)为1.3nm,内含原生缺陷密度较低.研究表明,由于所制备的HfN/HfO2 高K栅结构具有低的原生缺陷密度,因此在p-MOSFET器件中观察到的NBTI属HfN/HfO2高K栅结构的本征特征,而非工艺缺陷引起的;进一步研究表明,该HfN/HfO2高K栅结构中观察到的NBTI与传统的SiO2基栅介质p-MOSFET器件中观察 到的NBTI具有类似的特征,可以被所谓的反应-扩散(R-D)模型表征: HfN/HfO2 栅结构p-MOSFET器件的NBTI效应的起源可以归为衬底注入空穴诱导的界面反应机理,即在负 偏置和温度应力作用下,从Si衬底注入的空穴诱导了Si衬底界面Si-H键断裂这一化学反应的 发生,并由此产生了Si+陷阱在Si衬底界面的积累和H原子在介质层内部的扩散 ,这种Si+陷阱的界面积累和H原子的扩散导致了器件NBTI效应的发生.
关键词:
高K栅介质
负偏置-温度不稳定性(NBTI)
反应-扩散(R-D)模型 相似文献
115.
We introduce a feedback mechanism to study the spreading of an epidemic by analytical methods and large scale simulations in exponential networks. It is found that introducing the feedback mechanism can reduce the density of infected individuals, Furthermore, it does not change the epidemic threshold (critical point) λc. These results can help us to understand epidemic spreading phenomena on social networks more practically and design appropriate strategies to control social infections. 相似文献
116.
117.
118.
本文报道了BR水溶性Raman光谱的温度相关性及吸收光谱变化。讨论了导致光谱变化的热诱导引起的结构变化。 相似文献
119.
120.
采用sol—gel法,分别在不同温度下退火2h,制得一系列纳米氧化物La0.68Pb0.32FeO3粉体,并测定了该材料对乙醇的气敏性能。随退火温度的升高,所得样品逐渐向单一钙钛矿结构转化。应用Scherrer公式对退火温度分别为200,400,600,800,1000℃的样品粒径进行了计算,样品粒径依次为11.5,13.6,16.4,20.0,25.3nm。这说明,随着退火温度的升高,样品粒径逐渐增大。对乙醇气敏性能的测定结果表明,随退火温度的升高,材料对乙醇的最佳灵敏度先升高、又降低,退火温度为800℃的样品最佳灵敏度达到51.7。 相似文献