HL—1装置SiC涂层辐照实验的表面分析

本文应用表面分析技术研究HL-1装置中SiC涂层的等离子体辐照性能。结果表明,SiC材料应用于孔栏和壁涂层有利于减少杂质和提高等离子体品质。     

有机硅耐磨透明涂层的固化分析

ＦＴＩＲ、ＴＧ、ＴＢＡ等对有机硅耐磨涂料（有机硅溶胶）的热固化过程研究表明有机硅胶体中缔合羟基间的脱水缩合速率很高；羟基脱水程度与固化温度有关，温度越高，达平衡时羟基的浓度越低，在１０５～１３０℃间羟基的浓度变化最大，加入适当的固化剂，对羟基的脱水交联有促进作用，在较高的固化温度下，反应体系中出现了环氧环异构化产生的酮羰基的吸收峰     

电沉积羟基磷灰石/TiO2复合涂层

结合强度;电沉积羟基磷灰石/TiO2复合涂层     

水溶液中痕量游离氯的气动电流法测定

气动电流法是适用于水溶液中痕量溶质分析的一种新方法。在试样被酸化的同时,通过氮气使游离氯转入气相,并在覆膜电极检定器上还原为Cl~-加以测定。检定池的电解质为9NH_2SO_4。厚0.5-Mil的聚四氯乙烯膜由表面粗糙化和用聚合物质处理以后,覆膜电极检定器的电流响应一般增加100倍以上。使用处理过的膜其寿命可达六个月。游离氯的检定极限在2ml试样中估计为1.0μg     

JD树脂刻蚀及涂层的XPS研究

ＪＤ光学树脂表面刻蚀过程的ＸＰＳ研究表明，引进树脂遥ＣＯＨ，Ｃ＝Ｏ，Ｃ－ＳＯ３Ｈ，ＣＯＯＨ等基因随刻蚀温度的提高或时间的延长而增加，对其相对含量进行了计算，固化后的耐磨涂层具有ＳｉＯ２结构，ＪＤ板材的最佳刻蚀条件为２０℃，２０ｍｉｎ。     

自制苯乙烯-丙烯酸乙酯共聚物与PEG20M复合萃取涂层用于洗涤制品中1,4-氧杂环己烷的测定

采用顶空固相微萃取-毛细管气相色谱联用技术测定了洗涤制品中的1,4-二氧杂环己烷.使用自制的萃取头(苯乙烯-丙烯酸乙酯共聚物与PEG20M复合)于顶空平衡温度80℃下萃取样品40 min.萃取物用内壁涂有SE-30固定液的石英毛细管柱分离,外标法定量.1,4-二氧杂环己烷含量为0.35～120 μg/g时,其峰面积与含量呈良好的线性关系(r=0.999 8);回收率为98.7%～102%;相对标准偏差(n=5)为9.33%.     

对石墨管内锆涂层作用的初探

对石墨管表面进行难熔碳化物涂覆处理,是原子吸收分析中一种操作简单、成本低廉的石墨管改进技术。通常认为,管内的锆涂层可以减少试液及原子蒸气通过管壁的渗透、阻止某些待测元素与管壁直接接触生成难熔碳化物,并可能参与管内的化学反应。我们对涂锆与非涂锆管进行了电子显微形貌观察,并选择锑、锡在涂锆管与非涂锆管中进行了原子吸收测定的对比,以期对试验现象及锆涂层在石墨管内的主要作用做一些初步的探讨。     

用CR传输线模型研究涂层/金属体系阻抗谱

根据CR传输线模型和QR电路之间的关系,建立了拟合其初值的计算方法,借助Z-View软件,可求得各元件精确值.根据电容（Ci）和电阻（Ri）随特征频率（f*）的分布,推导了元件相对增量与恒相位角元件（Q）指数参数n的关系. 结果表明, 当n小于0.5时,Ci比Ri增加得更快,从新的角度说明了n的物理意义及其和界面脱层之间的关系.作为应用实例,拟合了不同特征的电化学阻抗谱,分析了有机涂层/金属腐蚀体系阻抗变化的具体过程,区分了点蚀和脱层因素对阻抗谱的影响,从高阻抗体系同时得到了与不同空隙率有关的涂层电容和电阻值,并根据涂层体系的不均匀特征探讨了模型结构的物理意义.