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71.
详细介绍用等效折射率概念设计短波通滤光片的原理和计算方法。根据原理和方法,选择二氧化钛(TiO2)作为高折射率材料、二氧化硅(SiO2)作为低折射率材料。首先从理论上计算出用这2种材料设计的波长λ=950~1150nm的短波通滤光片所需要的周期数,然后给出短波通滤光片的主膜系和光谱曲线。由于据此周期数设计出的膜系光谱曲线在750~810nm处的透过率不符合要求,因此对该膜系进行了改进。依照改进的设计进行多次制备,最终制备出了符合要求的短波通滤光片,找到了最佳制备工艺和方法。最后,对制备出来的短波通滤光片薄膜进行了各种环境实验。实验结果表明,膜层的各项指标符合设计要求。 相似文献
72.
73.
74.
红外目标模拟器由红外目标图像发生器和投影光学系统组成。该红外光学系统是一个要求与2个导引光学系统的光学技术参数相匹配的长焦距、大视场和具有像方远心光路的中红外光学系统。叙述用于红外目标模拟器的红外耦合光学系统的设计原理,提出它与导引光学系统一起可组成放大倍率M=4.5×的红外投影光学系统,并指出IR CRT产生的图像通过红外投影光学系统可成像在导引接收器上。针对给出的红外耦合光学系统的设计特点和技术要求,光学材料选取硅(Si) 锗(Ge) 硅(Si),采用简单的柯克三片式结构完成光学系统设计。设计评价结果表明,该系统的光学性能和成像质量均满足设计指标要求。 相似文献
75.
76.
李永琪 《高校应用数学学报(A辑)》1991,6(3):431-440
本文提出了因素混杂设计的理沦,通过加倍试验法,对各因素进行效应分析,并给出了当k≤m/2时的数据分析公式。 相似文献
77.
从美国防部、参联会颁发的“构想”类、“4年防务审查”类和“军事转型”类文件中可以看出,美军信息化建设顶层设计主要有5项内容。 相似文献
78.
均匀设计及其应用(二) 总被引:3,自引:0,他引:3
均匀设计及其应用(二)方开泰第二章均匀设计的应用由于均匀设计要求的试验数较少,我们无法直接估计出各因素的主效应和交互效应,只能通过回归模型来建立试验指标(Y)和各因素之间的关系,利用这种关系来寻求最优工艺条件或最优配方.试验设计的目的通常主要有二个,... 相似文献
79.
光学光刻是目前超大规模集成电路(VLSI)制备中主要的微米和亚微米的图形加工技术,这一技术将继续保持其主导地位成为90年代VLSI发展的关键。本文综述了近年来光学光刻工艺的发展,主要介绍了G线(436nm)、Ⅰ线(365nm)和准分子激光光刻的现状,并对实现高的光学光刻分辨率所必须解决的透镜设计、套准精度和像场面积等问题作了详细描述。最后展望了发展方向、 相似文献
80.
阳本傅 《高校应用数学学报(英文版)》1994,9(3):291-297
The concept of t-PBIB design was introduced by Wei Wandi and Yang Benfu as a generalization of G-design and PBIB design. In this paper, a number of 3-associntion schemes and 3-PBIB(2) designs are constructed on the bases of the finite vector space over Fq and the finite unitary geometry over Fq2. Then a number of 3-designs are constructed on the bases of the finite orthogonal geometries over Fq. The parameters of all these designs are computed. 相似文献