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二元光学元件衍射效率的逐层分析法研究 总被引:5,自引:0,他引:5
提出了一种有效的分析二元光学元件衍射效率的新方法-逐层分析法,并对四台阶二元器件,就蚀刻深度误差和横向对准误差对器件衍射效率的影响进行了详细的分析和讨论,证明了用该方法分析含有横向对准误差的二元光学元件的衍射效率非常简便有效。 相似文献
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恒温发热PTC热敏元件达到国际先进水平张喜哲,何青(中国科学院金属研究所,沈阳110015)中国科学院金属研究所在PTC材料的研制、开发和生产过程中,经过几年坚持不懈的努力,现在已能大规模生产高性能PTC热敏元件。其性能达到国际先进水平。PTC即英文... 相似文献
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二元光学元件制作误差分析与模拟 总被引:13,自引:1,他引:12
从标量衍射理论出发,首先从理论上计算出多台阶二元化学元件发生深度误差时衍射效率的解析式,然后以4台阶和8台阶闪耀光栅为例,对二元光学元件套刻制作中的主要误差及其这些误差之间的相互影响进行了系统的分析和计算机模拟研究,模拟结果给实际制作提供了重要理论指导和实验参数。 相似文献
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针对ICF系统要求,提出了一种基于统计理论的大口径光学元件功率谱密度测量方法。该方法将大口径波前划分成足够多个子区域,分别求得每个子区域波前的功率谱密度,根据统计理论可将大口径波前功率谱密度表示为各个子区域波前功率谱密度的加权平均,其权重因子是各子区域对应的面积。模拟计算和实验结果验证了统计法测量的有效性,并表明当子区域个数大于等于8×8时,统计法测量和子孔径拼接测量得到的功率谱密度吻合较好。统计法测量对平台移动精度和环境稳定性要求不高,可应用于大口径光学元件功率谱密度的过程检测。 相似文献
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