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61.
严梭 《大学物理实验》2002,15(3):54-55,59
本文介绍了晶体元件特性参数变异所致软故障分析判断。  相似文献   
62.
韩良凯  周进 《大学物理》1995,14(10):36-37,43
本文用振幅矢量作图法来分析衍射问题,推导出+1级衍射效率公式,物理图象清晰、直观。  相似文献   
63.
衍射光学元件的反应离子束蚀刻研究   总被引:3,自引:1,他引:2  
杨李茗  虞淑环 《光子学报》1998,27(2):147-151
本文提出了一种制作衍射光学元件的新方法——-反应离子束蚀刻法.对此技术研究的结果表明:反应离子束蚀刻法具有高蚀刻速率、蚀刻过程各向异性好、蚀刻参数控制灵活等特点,对于衍射光学元件和微光学元件的精细结构制作十分有利.本文详细总结了反应离子束蚀刻过程中各工艺参数对蚀刻速率的影响,并在红外材料上制作了Dammann分束光栅.  相似文献   
64.
折射型微透镜列阵的光刻热熔法研究   总被引:8,自引:1,他引:7  
许乔  包正康 《光学学报》1996,16(9):326-1331
研究了制作折射型微透镜列阵的一种新方法光刻胶热熔成形法,获得了20×20的折射型微透镜列阵,单元微透镜相对口径为F/2,单元透镜直径为90μm,中心间隔100μm,透镜的波像差小于1.3波长。本文详细阐述了光刻热熔法的基本原理及微透镜设计方法,并讨论了工艺参数对微透镜列阵质量的影响。  相似文献   
65.
1.06μm连续激光辐照TiO_2/SiO_2/K_9薄膜元件温升规律研究   总被引:1,自引:1,他引:0  
利用1.06μm连续激光在不同强度下辐照TiO2/SiO2/K9薄膜元件,实验中用红外热像仪测量激光辐照在TiO2/SiO2/K9元件表面引起的温升随时间的变化,通过数据处理,获得激光辐照区域最高温度随辐照时间的增加而增加。同时,给出材料温升随材料发射率的变化关系。并用程序模拟不同激光强度下薄膜温度场的分布,通过实验测量数据校正数值模拟计算结果,给出TiO2/SiO2/K9薄膜元件温度随激光辐照强度和辐照时间的变化规律。并且获得在薄膜厚度方向:薄膜表面温度最高,基底与薄膜接触处温度最低;沿径向:激光辐照中心温度最高,边沿温度最低。  相似文献   
66.
连续表面微透镜列阵元件检测   总被引:4,自引:4,他引:0  
邓启凌  杜春雷  王长涛 《光子学报》2004,33(11):1317-1320
系统分析了连续表面微透镜列阵的几何参量和光学性能的检测方法和评价标准,针对典型的折射型聚焦列阵元件,给出其结构尺寸及光学性能的测试结果,两者结果一致.从而建立了一套通过测试元件的几何参量、加工误差及光学性能指标来综合评估微光学元件性能的方法.  相似文献   
67.
电容、电感、电阻是三个基本电路元件.它们各自和正弦交流电源连接,分别构成纯电容、纯电感、纯电阻交流电路.它们都是理想的电路模型.纯电容电路中电压uc滞后电流icπ/2,纯电感电路中电压uL超前电流iLπ/2,  相似文献   
68.
本文报导了一种新的用于测量非线性元件伏安特性的实验电路,该电路采用的是以电流为信号变量的电流模式测量电路,并分析与比较了该电路与传统的以电压作为信号变量的电压模式测量电路的不同.  相似文献   
69.
陆金男 《物理通报》2005,(11):46-47
1引言 大学物理实验中,“用霍尔效应法测量磁场”实验是工科各专业必做的实验之一,笔者已给学生上这个实验许多年,深感这个实验装置必须改进;因为在实验中,虽然笔者再三强调不要把励磁电流接至霍尔元件上,仍然有部分学生因接错线路而导致霍尔元件被烧毁.由于上大学物理实验课的学生多,仪器的使用率特别高,所以一个学期下来总有六七台甚至更多台霍尔效应实验仪中的霍尔元件被烧毁而需更换.  相似文献   
70.
刘白鸽  何真 《物理实验》1998,18(3):44-44
组成全息照相的光路,一般都是用分束镜、反射镜和扩束镜等光学元件.这些光学元件易受损伤,且价格也较昂贵,因而普遍开设实验扩大实验内容就受到一定限制.我们提出用光纤构成的全息照相系统见图1.该系统是用一根Y形光纤取代所有的光学元件组成的.激光由Y形光纤一端直接耦  相似文献   
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