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本文用振幅矢量作图法来分析衍射问题,推导出+1级衍射效率公式,物理图象清晰、直观。 相似文献
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衍射光学元件的反应离子束蚀刻研究 总被引:3,自引:1,他引:2
本文提出了一种制作衍射光学元件的新方法——-反应离子束蚀刻法.对此技术研究的结果表明:反应离子束蚀刻法具有高蚀刻速率、蚀刻过程各向异性好、蚀刻参数控制灵活等特点,对于衍射光学元件和微光学元件的精细结构制作十分有利.本文详细总结了反应离子束蚀刻过程中各工艺参数对蚀刻速率的影响,并在红外材料上制作了Dammann分束光栅. 相似文献
64.
折射型微透镜列阵的光刻热熔法研究 总被引:8,自引:1,他引:7
研究了制作折射型微透镜列阵的一种新方法光刻胶热熔成形法,获得了20×20的折射型微透镜列阵,单元微透镜相对口径为F/2,单元透镜直径为90μm,中心间隔100μm,透镜的波像差小于1.3波长。本文详细阐述了光刻热熔法的基本原理及微透镜设计方法,并讨论了工艺参数对微透镜列阵质量的影响。 相似文献
65.
1.06μm连续激光辐照TiO_2/SiO_2/K_9薄膜元件温升规律研究 总被引:1,自引:1,他引:0
利用1.06μm连续激光在不同强度下辐照TiO2/SiO2/K9薄膜元件,实验中用红外热像仪测量激光辐照在TiO2/SiO2/K9元件表面引起的温升随时间的变化,通过数据处理,获得激光辐照区域最高温度随辐照时间的增加而增加。同时,给出材料温升随材料发射率的变化关系。并用程序模拟不同激光强度下薄膜温度场的分布,通过实验测量数据校正数值模拟计算结果,给出TiO2/SiO2/K9薄膜元件温度随激光辐照强度和辐照时间的变化规律。并且获得在薄膜厚度方向:薄膜表面温度最高,基底与薄膜接触处温度最低;沿径向:激光辐照中心温度最高,边沿温度最低。 相似文献
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电容、电感、电阻是三个基本电路元件.它们各自和正弦交流电源连接,分别构成纯电容、纯电感、纯电阻交流电路.它们都是理想的电路模型.纯电容电路中电压uc滞后电流icπ/2,纯电感电路中电压uL超前电流iLπ/2, 相似文献
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1引言
大学物理实验中,“用霍尔效应法测量磁场”实验是工科各专业必做的实验之一,笔者已给学生上这个实验许多年,深感这个实验装置必须改进;因为在实验中,虽然笔者再三强调不要把励磁电流接至霍尔元件上,仍然有部分学生因接错线路而导致霍尔元件被烧毁.由于上大学物理实验课的学生多,仪器的使用率特别高,所以一个学期下来总有六七台甚至更多台霍尔效应实验仪中的霍尔元件被烧毁而需更换. 相似文献
70.