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41.
We investigate the electronic-current-induced heat generation in a double quantum dot connected by two normal leads. The dots are coupled in series with a coupling strength td. It is found that, at zero temperature and weak dot-lead coupling, td affects the heating and current heavily. In particular, the effects on the heat generation and on the current are quite different. For example, at a heating valley the current can exhibit a deep valley, a plateau, or a high peak depending on td. As a result, we can find an ideal working condition, large current while small heating, for the double dots system by tuning the interdot coupling strength. 相似文献
42.
为更清楚地了解阳江35kV服役导线的运行状态,从分析导线断线原因出发,通过对老旧导线的单丝断裂强度、弹性模量、应力应变曲线、拉断力、抗拉强度等综合指标的测试与分析,研究服役导线的力学性能,由试验结果得出:35kV老旧导线钢芯的直径变化对于架空导线的外径变化有直接的影响,老旧导线的铝线直径变化较小,其外径增大1.67%~4.24%;钢单线的拉断应力仍能达到标准中规定值的106%,且伸长率也满足要求;部分铝线的抗拉强度低于95%;绞线拉断力仍能达到95%的计算拉断力。但是相同规格下的老旧导线的抗拉强度比新导线的抗拉强度低2%~18%。结果表明:阳江地区服役三十年以上的老旧导线在力学性能上仍能继续承载。 相似文献
43.
44.
45.
运用拓展的BTK理论研究了拓扑绝缘层上铁磁/铁磁超导隧道结的磁效应和塞曼效应,同时考虑了铁磁体和铁磁超导体之间的费米能级错配效应.研究发现:在该系统中塞曼效应和邻近效应可以共存;铁磁体和铁磁超导体之间的费米能级错配效应能够增强系统中发生在eV=Δ处的Andreev谐振散射过程和邻近效应. 相似文献
46.
47.
LI Xiao-Wei 《理论物理通讯》2008,49(5):1345-1348
We have studied the quasiparticle transport in quantum-wire
/ferromagnetic-insulator/d wave superconductor Junction (q/FI/d) in the
framework of the Blonder-Tinkham-Klapwijk model. We calculate the tunneling conductance in q/FI/d as a function of the bias voltage at zero temperature and finite temperature based on Bogoliubov-de Gennes equations. Different from the case in normal-metal/insulator/d wave superconductor Junctions, the zero-bias conductance peaks vanish for the single-mode case. The tunneling conductance spectra depend on the magnitude of the exchange interaction at the ferromagnetic-insulator. 相似文献
48.
近几年来对纳米器件的研究给各个领域带来了巨大的冲击。文章讨论了纳米器件特别是和信息技术产业密切相关的分子电路的最新进展 ,以及目前对纳米器件的一些主要的应用 相似文献
49.
50.
为了进一步研究纳米导线阵列的排列形状以及阵列数目对其场发射行为的影响,利用镜像悬浮球模型对正方形以及六边形排列的纳米导线阵列的场发射行为进行计算与模拟,近似的得到纳米导线阵列的场发射增强因子满足如下的变化趋势:β=h/ρ(1/1+W)+1/2(1/1+W)2+3,其中h为纳米导线的高度,ρ为纳米导线的半径,W是以R为自变量的函数,R为纳米导线阵列的间距.结果显示纳米导线阵列的排列形状对其场发射性能的影响较小,而阵列间距则是影响场发射性能的关键因素:当R<R0时,场发射增强因子随着阵列间距的减小而急剧减小;当R>R0时,场发射增强因子基本不变,其中R0为导线阵列场发射的最佳间距.进一步研究表明改变纳米导线阵列的数目基本不会改变阵列的场发射性能随间距的变化趋势,但是随着阵列数目的增加,R0会有一定程度的减小,场发射增强因子也会降低.
关键词:
纳米导线
场发射
增强因子
阵列数目 相似文献