啁啾光栅色散及时延特性研究

基于耦合模理论，通过对耦合波方程进行相位共轭变换，将反向耦合波方程变换为Ｒｉｃｃａｔｉ微分方程，利用数值解法对常耦合系数和高斯型耦合系数线性啁啾光栅的反射特性、色散特性和时延特性进行了详细分析，为设计具有理想效果的色散补偿器件提供了有效的理论方法。     

聚合物PMMA/DR1啁啾光栅耦合器的研究

从理论上分析出在一定条件下啁啾光栅输出耦合器具有较好的聚焦衍射光束的作用.实验上采用光漂白方法,利用两束激光在PMMA/DR1平面波导上所形成的干涉条纹来制备啁啾光栅,研究了这种啁啾光栅耦合器衍射光的聚焦效应,观测结果与理论分析基本相符.     

强时间非局域系统中自相位调制诱导的“脉冲镜像”啁啾

非局域非线性是目前非线性光学乃至非线性科学研究领域的热点. 本文研究了时间非局域系统中的脉冲啁啾特性, 发现了一个非常有趣的现象：当系统的时间非局域程度很强时, 由自相位调制引起的非线性啁啾可以近似成为脉冲强度的“镜像”, 并且, 这种特性与脉冲包络的具体形式无关. 利用这种特性, 分析了脉冲在强时间非局域系统中传输的时间演化过程.     

基于多电极单端耦合半导体光放大器的交叉增益调制型波长转换器

提出了一种新型的基于多电极单端耦合半导体光放大器(SOA)的交叉增益调制(XGM)型波长转换方案，并建立了这种波长转换器完整的宽带理论模型.通过数值模拟的方法，比较了基于多电极单端耦合SOA的XGM型波长转换和基于单电极单端SOA的XGM型波长转换的输出特性，结果表明前者的输出消光比优于后者，而且啁啾特性也略有改善. 关键词： 多电极 波长转换 单端耦合半导体光放大器 交叉增益调制 消光比 啁啾     

线性啁啾光纤光栅的优化设计

基于线性啁啾光纤布拉格光栅的色散补偿原理，探讨了不同的准高斯型耦合系数函数曲线对色散补偿特性的影响，建立使该光栅色散补偿曲线既具有高色散系数和宽带特点，同时对边峰还有相对的抑制能力的设计思想。文中讨论了相关参数对色散补偿曲线的影响。     

色散阶变光纤正常色散区啁啾演变特性之讨论

利用傅里叶变换法得到了色散阶变光纤正常色散区群速度色散导致啁啾的解析表达式;而且,采用数值法模拟了色散阶变光纤正常色散区啁啾演变过程。结果表明:色散阶变光纤中啁啾以色散缓变光纤中啁啾为中心跳跃式变化,但远小于常规光纤中啁啾。选择合适入射脉冲初始啁啾会使净啁啾等于零,从而形成暗孤子。     

改进型零附加相位光谱相位相干电场重构系统对啁啾脉冲的测量

现有的基于光谱相位相干电场重构法(SPIDER)的脉冲测量系统,在测量啁啾脉冲时容易出现误差.本文提出一个改进型零附加相位光谱相位相干电场重构系统(MZAP-SPIDER),来解决上述问题.在实验上,利用改进后的SPIDER系统测量了钛宝石飞秒激光器输出的脉冲及其经80mm长的BK7玻璃块展宽得到的啁啾脉冲.结果表明,该系统能胜任啁啾脉冲的相位测量.     

啁啾脉冲放大系统展宽压缩器各阶色散分析

 通过在光程差中增加相位校正项,重新推导了更为完善的压缩器各阶色散解析式。并对压缩器的各阶色散作了光线追迹的模拟计算,得到与解析式完全一致的计算结果,从而验证了解析式的正确性。基于解析式和光线追迹的方法,更加系统完善地对比较常用的Offner展宽器的各阶色散进行了研究,分析了入射角、光栅与凹面镜距离对其各阶色散及剩余各阶色散的影响。同时,还对非匹配的展宽压缩系统的剩余色散的影响因素进行了讨论。     

钕玻璃啁啾脉冲放大器产生百焦耳亚皮秒脉冲

以钕玻璃为增益介质研制了高能啁啾脉冲激光放大器系统,实验演示输出啁啾脉冲能量在百焦耳量级时,光谱宽度保持在4—6 nm.最大能量168 J,相应谱宽5.5 nm,中心波长1054 nm.压缩脉冲宽度最短710 fs. 关键词： 啁啾脉冲放大 钕玻璃 高能拍瓦     

Design and Fabrication of Chirped Mirror

Chirped mirrors （CMs） are designed and manufactured. The optimized CM provides a group delay dispersion （ODD） of around -60fs^2 and average reflectivity of 99.4% with bandwidth 200 nm at a central wavelength of 800nm. The CM structure consists of 52 layers of alternating high refractive index Ta2O5 and low refractive index SiO2. Measurement results show that the control of CM manufacturing accuracy can meet our requirement through time control with ion beam sputtering. Because the ODD of CMs is highly sensitive to small discrepancies between the layer thickness of calculated design and those of the manufactured mirror, we analyze the error sources which result in thickness errors and refractive index inhomogeneities in film manufacture.