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491.
利用光学显微镜的反射模式观察了升华法生长的6H-SiC单晶(0001)Si-面的生长形貌,应用台阶仪测定了生长台阶高度.实验发现,6H-SiC单晶的生长台阶呈螺旋状,生长台阶呈现出了韵律束合现象.在单晶中间部分,生长台阶稀疏,台面较宽,约80μm左右,台阶高度较小,约20~50nm,比较宽的台面上存在小生长螺旋.外围单晶区域,生长台阶比较密集,其台阶高度较大,约300~700nm,台面宽度较小,约2~5μm.生长台阶在前进过程中受单晶中的微管缺陷影响,在微管的附近出现弯曲. 相似文献
492.
提高载流子复合效率是改善有机发光二极管(OLEDs)发光效率的重要方法。采用真空热蒸发成膜法制作了典型双层结构的OLEDs(ITO/TPD/Alq3/Al)。二极管的性能测试结果表明器件的电流-电压关系与Fow ler-Nordheim场发射载流子注入理论符合得较好。以Fow ler-Nordheim场发射载流子的隧穿注入理论为基础,对OLEDs的电流进行理论分析和数学推导,建立典型双层结构有机发光二极管中载流子传输、复合的理论模型。以此模型为依据,对载流子注入复合进行理论分析,探究载流子注入复合的效率的表达式。在外加电压和器件材料一定下,得出了载流子复合效率与阳极区一侧积累的空穴面密度和阴极区一侧积累的电子面密度的关系表达式。 相似文献
493.
494.
介绍了一种被称为量子点量子阱 (Quantum- dot quantum wells简称 QDQWs)的新型半导体材料 ,并为其建立了合适的计算模型 .再以 B样条为展开基函数 ,采用变分法对其进行了计算 ,得到了量子点量子阱中氢原子能谱 .计算结果表明 ,当 QDQW的半径 (或核半径 )增大时 ,给体能级随之减小并逐步陷入小阱深度内 .因此只要适当地改变这种新材料的周期性 ,则施主粒子的波函数、能量等性质就可以人为控制 ,从而可进一步控制半导体材料的光学性能 .同时 ,B样条基函数对于计算局限在有限范围内量子体系的波函数和能量是十分有效的 相似文献
495.
An effective potential method for the calculation of hydrogen molecule ion energy in a strong magnetic field 下载免费PDF全文
Using the adiabatic approximation and adiabatic variational approximation with an effective potential, the total energies and the equilibrium internuclear separations of H2+ ion in states σg, πu, δg, φu, γg, ηu in strong magnetic fields have been calculated. Our results reproduced those obtained by Vincke and Baye (Vincke M and Baye D 1985 J. Phys. B: At. Mol. Phys. 18 167), which are considered the most reliable. We found a basic function with better convergence than the Landau functions. 相似文献
496.
我们在STO台阶基片上,采用脉冲激光沉积(PLD)和直流磁控溅射法制备出YBCO外延超导薄膜,采用普通的光刻技术得到DCSQUID图形.器件的IV曲线具有RSJ模型描述的上翘特征;三角波调制幅度峰峰值大于4μV,磁场灵敏度优于1pT/Hz(白噪声区);9个不同基片上的样品磁通锁定的成品率达到67%. 相似文献
497.
本文报道关于内部电势对低频交流电压介观电子输运的影响.内部电势的典型特征是保证电荷守恒和规范不变性.在大多数情况下,内部电势很快达到自身平衡,并且系统响应为外部变量.然而,在一些特殊情况下,内势变得自发振荡和随机涨落,在这种情况下系统将变得不稳定. 相似文献
498.
多层"台阶"近似方法是将平板波导中折射率随厚度变化的曲线近似地用N层台阶形的折线来代替,使每一个小区域内折射率成为常数,由此得到电磁场分布和传播常数.本文从理论上给出了层数N与计算精度之间的关系.推导出在分割成N层和2N层两种近似下的计算值精度的改进.本文结果适用于任何渐变折射率平板光波导. 相似文献
499.
500.
为了改善金属氧化物半导体场效应管(MOSFET) 的短沟道效应(SCE)、 漏致势垒降低(DIBL) 效应, 提高电流的驱动能力, 提出了单Halo 全耗尽应变硅绝缘体 (SOI) MOSFET 结构, 该结构结合了应变Si, 峰值掺杂Halo结构, SOI 三者的优点. 通过求解二维泊松方程, 建立了全耗尽器件表面势和阈值电压的解析模型. 模型中分析了弛豫层中的Ge组分对表面势、表面场强和阈值电压的影响, 不同漏电压对表面势的影响, Halo 掺杂对阈值电压和DIBL的影响.结果表明, 该新结构能够抑制SCE和DIBL效应, 提高载流子的输运效率.
关键词:
应变Si
阈值电压
短沟道效应
漏致势垒降低 相似文献