全文获取类型
收费全文 | 34522篇 |
免费 | 6681篇 |
国内免费 | 9092篇 |
专业分类
化学 | 19163篇 |
晶体学 | 617篇 |
力学 | 5280篇 |
综合类 | 1048篇 |
数学 | 9335篇 |
物理学 | 14852篇 |
出版年
2024年 | 262篇 |
2023年 | 1045篇 |
2022年 | 1348篇 |
2021年 | 1392篇 |
2020年 | 1236篇 |
2019年 | 1197篇 |
2018年 | 834篇 |
2017年 | 1152篇 |
2016年 | 1342篇 |
2015年 | 1526篇 |
2014年 | 2617篇 |
2013年 | 2046篇 |
2012年 | 2036篇 |
2011年 | 2380篇 |
2010年 | 2332篇 |
2009年 | 2435篇 |
2008年 | 2368篇 |
2007年 | 2201篇 |
2006年 | 2142篇 |
2005年 | 2096篇 |
2004年 | 2084篇 |
2003年 | 1961篇 |
2002年 | 1609篇 |
2001年 | 1471篇 |
2000年 | 1271篇 |
1999年 | 990篇 |
1998年 | 842篇 |
1997年 | 912篇 |
1996年 | 795篇 |
1995年 | 772篇 |
1994年 | 748篇 |
1993年 | 547篇 |
1992年 | 532篇 |
1991年 | 491篇 |
1990年 | 447篇 |
1989年 | 440篇 |
1988年 | 128篇 |
1987年 | 76篇 |
1986年 | 94篇 |
1985年 | 26篇 |
1984年 | 22篇 |
1983年 | 23篇 |
1982年 | 14篇 |
1981年 | 1篇 |
1980年 | 2篇 |
1979年 | 2篇 |
1978年 | 1篇 |
1977年 | 1篇 |
1963年 | 1篇 |
1959年 | 5篇 |
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 10 毫秒
81.
随着光伏行业的快速发展, 对硅单晶的品质和长晶装备的稳定性的要求也不断提高。直拉法是生产硅单晶的主要方法,通过提高单晶炉副室的高度以扩大单晶硅的生产规模。由于副室高度的大幅增加,且单晶炉提拉头质心相对于旋转轴心有一定距离,对单晶炉整体稳定性有较大影响,从而降低了单晶硅的生产质量。针对此问题,对单晶炉建立可靠的力学分析模型,采用数值仿真方法,对单晶炉整体进行动力学响应分析,计算得到副室高度增加后的单晶炉工作时中钨丝绳下端晶棒的运动规律以及最大摆动幅度,为改进设计提供依据。数值仿真分析表明提高单晶炉副室高度后,提拉头较大的质心偏心是单晶炉提拉系统发生摆动的主要原因。在此基础上提出在提拉头上添加质心调节装置,通过控制系统调节可保证提拉头质心位置在旋转轴线上以降低提拉系统的摆动。 相似文献
82.
83.
研究了一类分数阶漂移-扩散模型整体解的解析性和衰减率。分数阶漂移-扩散模型是半导体中经典模型Poisson-Nernst-Planck方程组的推广模型,数学形式上表现为分数阶非线性抛物型和二阶椭圆型偏微分方程耦合而成的混合型方程组。利用多线性奇异积分算子理论和Fourier微局部分析,建立了该模型在临界Besov空间中的整体解是Gevrey解析的。作为该结果的直接推论,还得到了此整体解关于时间的衰减率。 相似文献
84.
85.
在高中数学中,应用类问题是常见的考查类型.以社会生活为背景命题,加强同学们对一些重要函数的认识理解和应用,从而体现高中数学知识的应用性.通过对一些试题的观察,可以发现指数函数、对数函数、二次函数以及分段函数模型更为常见.本文主要分析三个不同类型的函数模型实际应用问题,探讨解答该类问题的思路以及需要注意的事项. 相似文献
86.
“十字架模型”是初中几何中一种重要的模型.模型的构建通常以矩形或者正方形为背景,常见的类型有矩形中的十字架模型和正方形中的十字架模型.通过引例分析提炼这两种模型,再进行探究,可以推导出一些比较实用的结论.这些结论有利于巧妙解决一些几何问题. 相似文献
87.
88.
LBO晶体超光滑表面抛光机理 总被引:1,自引:0,他引:1
胶体SiO2抛光LBO晶体获得无损伤的超光滑表面,结合前人对抛光机理的认识,探讨了超光滑表面抛光的材料去除机理,分析了化学机械抛光中的原子级材料去除机理.在此基础上,对胶体SiO2抛光LBO晶体表面材料去除机理和超光滑表面的形成进行了详细的描述,研究抛光液的pH值与材料去除率和表面粗糙度的关系.LBO晶体超光滑表面抛光的材料去除机理是抛光液与晶体表面的活泼原子层发生化学反应形成过渡的软质层,软质层在磨料和抛光盘的作用下很容易被无损伤的去除.酸性条件下,随抛光液pH值的减小抛光材料的去除率增大;抛光液pH值为4时,获得最好的表面粗糙度. 相似文献
89.
本文通过将新型化学气相反应促进剂Zn(NH4)3Cl5引入到热壁外延系统中,以二元素单质Zn和Se为原料,直接在Si(111)衬底上生长了高质量的ZnSe晶体薄膜,薄膜成分接近理想化学计量比。研究了主要工艺参数对薄膜生长形貌和性能的影响。采用SEM、AFM、EDS和PL谱技术研究了生长的ZnSe薄膜的形貌、成分和发光特性。研究结果表明,热壁温度和生长时间是影响ZnSe薄膜形貌的主要因素;气相反应促进剂在薄膜生长和调节成分方面扮演了关键角色,Zn(NH4)3Cl5的存在使得Zn(g)和Se2(g)合成ZnSe晶体的反应转变为气固非一致反应,从而更容易获得近乎理想化学计量比的ZnSe薄膜。ZnSe薄膜在氦镉激光激发下,室温下PL谱由近带边发射和(VZn-ClSe)组合的SA发光组成,而在飞秒激光激发下,仅在481nm处显示出强烈的双光子发射峰。 相似文献
90.