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951.
用晶体旋光法测量液晶薄层的预顺角,文献[1]介绍了测出光强透过率曲线T(i),据“对称”极值点ix由a=1/2Arcsin 2nosinix/(nx no)[(n^20-sin^ix)的平方根]计算出α。 相似文献
952.
赝三元热电烧结体材料制作技术的研究 总被引:3,自引:0,他引:3
本文以区熔法生长的Bi2Te3-Sb2Se2Te3高估值系数赝三元半导体致冷晶体为原料,采用冷压成型,在380-440℃条件下,经5h烧结处理,可获得高致密度和高强度的半导体致冷器用烧结体材料。这种材料从根本上克服了取向晶体沿生长轴方向发生劈裂和解理现象。 相似文献
953.
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955.
应用双晶衍射仪对MOCVD外延生长所得到的一个GaAlInP双异质结(DH)的单晶多层结构进行测试与分析。应用双晶衍射的动力学理论模拟此样品的摇摆曲线,并结合界面的融合、晶格崎变与缺陷的散射来解释测试结果。对衍射谱的展宽提供了合理的解释,比较肯定地确定了此样品的结构与晶体质量。涉及缺陷对衍射FWHM的展宽的解释与关于缺陷的半动力学衍射理论相比,简单明了,实用于实际的生产检测。并根据分析结论对晶体质量的改进提供技术方案,改进了晶体质量。 相似文献
956.
6LiI:Eu晶体是一种重要的热中子探测闪烁材料,研究了不同掺杂浓度和取样位置对6LiI:Eu晶体光学和闪烁性能的影响。以6LiI (6Li丰度大约95%)和EuI2为原料,在真空气氛下生长制备出Eu2+离子的初始掺杂浓度分别为0.01%, 0.02%, 0.03%, 0.04%和0.05%(摩尔分数)的6LiI:Eu晶体。通过测试室温下的透射光谱、发光光谱、闪烁衰减时间、伽玛射线和中子激发下的脉冲高度谱,研究了6LiI:Eu晶体性能的影响规律。研究发现Eu2+的掺杂浓度从0.01%~0.04%时,6LiI:Eu晶体在中子激发下的能量分辨率先提高后下降;当掺杂浓度为0.03%时,晶体具有最佳的均匀性和中子响应能力。由于掺杂离子的分凝,同一晶体从籽晶端至尾端存在明显的性能不均匀现象。 相似文献
957.
958.
959.
960.
使用旋涂法在多孔α-Al2O3载体上获得了b-&h0h-取向的silicalite-1晶种层。在无模板剂存在条件下进行二次生长,通过改变合成液的碱度(OH-/Si)、水量(H2O/Si)和晶化温度等,调节膜表面的形貌和晶体取向。SEM和XRD检测结果表明,对于1SiO2:4EtOH∶xNaOH∶yH2O合成体系,x与y值的选取与分子筛膜的形貌和晶体取向紧密相关。当x=0.56时,增加y值将促进分子筛膜从随机取向到b-轴取向的转变,晶粒形貌也发生了较大变化;当y=270时,可以得到厚约为4 μm、连续且择优b-轴取向的MFI型分子筛膜。 相似文献