磁处理水延缓CaSO4型结垢的机理研究

研究了外加磁场对Ｃａ２＋，ＳＯ２－４结成水垢的影响，通过计算磁场对离子水化半径及溶液粘滞系数的影响，给出了结垢速率与磁场强度、温度及溶液浓度的关系．计算结果表明，外加磁场的作用可以加强离子的水化程度，增大离子水化半径，降低离子的活度，从而减缓了水垢的形成和增长     

光学材料破坏机理

本文综述近三十年来国内外光学材料破坏研究发展状况，详细地阐述了表面破坏，杂质缺陷引起的热破坏，受激布里渊散射激发超声波造成的破坏，雪崩电离击穿和多光子吸收电离破坏，以及自聚焦引起的破坏的机理，及其各自的理论模型。     

美妙的超导应用

 超导态是物质的一种独特状态,它的新奇性,立刻使人想到将它用到技术上。自20年代起,人们对超导应用的热情总比对超导机理研究要高;到80年代高温超导材料问世后,这种热情就更为炽烈。目前超导的应用正在许多领域里迅速发展,其景况十分美妙和诱人。     

La0.5Sr0.5CoO3薄膜的外延生长及其机理研究

利用脉冲激光制膜法,在多种衬底和温度条件下,系统研究了La_0.5Sr_0.5CoO₃(LSCO)薄膜的结构和外延生长特性,在LaAlO₃,SrTiO₃和MgO衬底上实现了LSCO薄膜的外延生长.外延生长的薄膜具有低的电阻率和金属性导电特征.研究表明,外延生长的最佳温度范围为700—800℃,最佳衬底为LaAlO₃.并着重探讨了衬底材料和淀积温度等多种因素对LSCO薄膜的生长与性 关键词：     

Cr（Ⅵ）离子在TiO2表面的光催化还原机理研究

采用ＸＰＳ和ＥＳＲ表征技术研究表明,Ｃｒ离子在ＴｉＯ２表面的光催化还原过程中,有Ｔｉ＾３＋物种生成并参与了Ｃｒ离子的还原反应。实验结果表明,Ｃｒ离子的光催化还原主要以从Ｔｉ＾３＋上得到离子的间接还原为主,同时也存在着从ＴｉＯ２导带捕获光激发电子发生直接还原的可能性。     

纯气体在均质高分子膜中吸着机理——改进的双重式吸着模型

基于双重式吸着概念,将气体在玻璃态高分子膜中的吸着过程理解为溶解和多分子层吸附两个同时发生的过程,将溶解过程理想化,并结合多分子层吸附的ＢＥＴ方程,导出了纯气体在均质高分子膜中的吸着时改进的双重式吸着模型,用文献中报导的ＰＡＮ－Ｈ２Ｏ的实验数据对模型进行了分析和验证,结果表明该模型不仅可用来解释纯气体在玻璃态高分子膜吸着时的各种现象,对纯气体在橡胶态膜中偏离亨利定律的溶解过程也能给予较好的描述。     

化学处理增强光学材料的抗激光破坏强度

报道了用化学处理方法提高光学材料的抗激光破坏强度的实验结果,化学处理使和Ｋ２玻璃的激光损伤阈值分离提高３倍和４倍,对晶体和熔石英的化学处理也得取和较好的工对加固机理作了分析。     

拉曼光谱分析青铜器本体中锈蚀产物

青铜器锈蚀研究能够揭示出青铜器腐蚀机理, 为制定科学的保护措施提供重要的参考资料。目前, 青铜器锈蚀研究主要从其外部锈蚀产物入手, 通过锈蚀组成结构分析, 探讨其腐蚀机理。本文选择了保存较好青铜器本体样品进行了内部锈蚀情况研究。首先采用金相制备技术, 通过打磨、抛光和超声清洗处理后, 制备了断面相组织形态清晰的24件秦早期青铜器青铜本体样品。然后利用共聚焦显微拉曼光谱仪对样品夹杂物进行了光谱学研究, 发现其物相为PbCO3和PbO及Cu2O, 都属于常见的青铜合金腐蚀产物。样品金相组织中圆形或者大面积无规则亮灰色区域为Cu2O, 反映出青铜器表面不仅易于形成一定厚度Cu2O锈蚀层, 在相界之间也容易发生氧化反应生成Cu2O, 存在合金内部和外部同时发生腐蚀生成赤铜矿锈蚀的情况。此外, 拉曼光谱分析显示黑灰色物质主要为铅腐蚀产物——PbCO3和PbO, 反映出铅元素的腐蚀过程: Pb→PbO→PbCO3。在铸造态青铜合金组织中, 铅一般呈近圆形颗粒状态分布在相界之间。青铜器内部分布的铅颗粒在土壤埋藏环境中会发生氧化反应生成PbO, 再与地下水中溶解的CO2－3发生化学反应生成比较稳定的PbCO3。结果表明: 外界腐蚀因素(水、溶解氧和碳酸根等)能够通过合金中相界间通道进入青铜器内部, 在相界表面逐步发生反应形成以金属氧化物为主的腐蚀产物。     

埋藏哈密翼龙化石的雅丹风化的光谱分析——以大海道2号水源地雅丹为例

新疆哈密地区翼龙化石具有极高的科学研究价值.哈密翼龙动物群主要埋藏在早白垩世湖相地层形成的雅丹中,富集在风暴沉积层.化石一旦暴露地表,就会发生不同程度的自然风化破碎,尤其是见水或受潮后风化更为严重.哈密大海道2号水源地附近的雅丹底部由于地下水和间歇性地表水的作用,发生了严重的盐碱析出导致的强烈风化现象,造成雅丹下部剥落...     

脉冲压缩光栅的激光损伤机理及阈值提升技术研究进展

总结了激光辐射条件下脉冲压缩光栅的激光诱导损伤机理,探究了表面形貌、加工方式、结构缺陷以及表面污染等因素对光栅损伤造成的影响,从微观损伤机理的角度阐释了产生损伤的内在原因。在脉冲压缩光栅的激光预处理、加工工艺及表面污染物的去除等方面,分析了实现光栅损伤阈值提升的内在因素,给出了提升光栅损伤阈值的技术措施。根据影响光栅损伤阈值的因素,提出在光栅运行过程中采用多种措施组合的方式来提升光栅的激光诱导损伤阈值。脉冲压缩光栅激光损伤机理和阈值的研究对脉冲压缩光栅系统的稳定运行具有实践意义,为激光装置高能量密度的输出奠定基础。最后,提出了光栅激光诱导损伤研究的科学与技术问题,为脉冲压缩光栅激光诱导损伤阈值的提升提供新的思路,服务于重大科学装置和重要技术领域的发展。