光学偏振实验仿真设计

采用计算机工具软件，成功地设计和编制了偏振现象实验的仿真程序，用于计算机辅助教学     

Multiple—Scattering of Near—Edge x—ray Absorption Fine Structure of Sulphur—Passivated InP（100） Surface

We use the multiple-scattering cluster method to calculated the sulphur 1s near-edge x-ray absorption fine structure (NEXAFS) of S-passivated InP(100) surface.The physical origins of the resonances in the NEXAFS have been unveiled.It is shown that the most important resonance is attributed to the photoelectron scattering between the central sulphur and the nearest indium atoms.The studies show that two S-S dimers with the bond lengths of 2.05A and 3.05A coexist in the surface,meanwhile the bridge and antibridge site adsorption of single S could not be ruled out.We support the scanning tunnelling microscopy result that the S-passivated InP(100) surface exhibits significant discorder.     

厚高阶光学非线性介质Z扫描的变分法分析

利用变分法对具有五阶光学非线性介质的Z扫描特性进行了研究。通过比较，发现当介质在具有较大的五阶非线性系数或较大光强的情况下，五阶非线性项的作用是不可忽略的。这对光限制器的设计和Z扫描实验都具有一定的指导意义。     

高斯光束计算平板波导自由传输区远场分布及其修正

对近轴近似条件下求解亥姆霍兹方程得到的高斯光束显式传播公式做了分析，同时，基于基尔霍夫衍射理论，在菲涅耳近似的条件下给出了相应的高斯光束在远场的传播公式，在此基础上，对近轴近似条件做出了定量分析，给出了这个近似条件引入的误差，提出了一种计算高斯光束远场分布的修正方法，并采用有限差分-光束传播方法(FD-BPM)来检验各种方法的准确性。把这种修正方法应用到平面光集成波导器件，如阵列波导光栅(AWG)、蚀刻衍射光栅(EDG)等器件的设计和模拟中，可以大大降低工作的复杂性，同时可以得到精确的结果。     

蓝光相变光盘的多层膜结构设计

为了使光盘获得优良的记录／读出性能并能够长期稳定地使用，必须优化设计相变光盘的多层膜结构。采用自行设计的模拟分析相变光盘读出过程设计软件，从光学角度出发模拟计算了蓝光(405nm)相变光盘的膜层结构，研究了多层膜系的反射率和反射率对比度等光学参量与各层膜厚度和槽深的关系。研究得出的最佳多层膜结构为：下介电层／记录层／上介电层／反射层的厚度对于台记录为100nm／10nm／25nm，／60nm，而对于槽记录则为140nm／15nm／30nm，／60nm，槽深为50nm。模拟计算结果对于将来高密度蓝光相变光盘的制备具有一定的指导意义。     

Structural Evolution of Nanostructured γ—Ni—28Fe Alloy Investigated by Using the Internal Friction Technique

The structural evolution of nanostructured γ-Ni-28Fe alloy(n-Ni-Fe)(grain size d-30nm),synthesized by the mechno-chemical method,was investigated by using the internal friction technique combined with differential scanning calorimetry(DSC) in the temperature range from 300K to 670K.An internal friction peak with typical characteristics of the first-order phase transition was observed in the vicinity of 620K,which corresponds to a broad exothermic process revealed by using DSC.Theses results can be explained as the structural changes from the disordering to the ordering transition in the n-Ni-Fe sample.     

全国第11次光纤通信暨第12届集成光学学术大会在南京召开

20 0 3年 10月 8～ 10日在“六朝古都”南京胜利召开了全国第 11次光纤通信暨第 12届集成光学学术大会。本次会议由中国通信学会光通信专业委员会 ,中国电子学会通信学分会 ,中国光学学会纤维光学与集成光学专业委员会主办。由南京邮电学院和南京富士通通信设备有限公司共同承办。并且得到江苏中天科技有限公司、江苏永鼎股份有限公司、长飞光纤光缆有限公司和康宁 (中国 )有限公司的赞助。大会安排了如下特邀报告 :“2 0 0 2～ 2 0 0 3年光纤通信技术的进步” (赵梓森院士 ) ,“光传送网 (OTN )的保护倒换技术”(毛谦高级工程师 ) ,“智…     

Theoretical Studies on the Si（001）-SiO2 Interface Structure

1 INTRODUCTION Silicon and its alloy have been widely applied in such fields as electronic industry, high-temperature structural ceramics, etc. In addition, the researches on silicon and its relevant materials greatly promote the rapid development of modern optics and infor- mation technology. Therefore, more and more at- tention is focused on the structure of silicon, oxide of silicon and the interfaces between silicon and metal or nonmetal. As an ideal passive film on the Si surface, S…     

三包层WⅠ和WⅡ型单模光纤波导色散特性的研究

研究了三包层WⅠ和WⅡ型单模光纤的波导色散特性。结果发现在相同条件下，三包层WⅠ和WⅡ型单模光纤零色散点的调节范围比传统的双包层W型单模光纤明显增大。详细分析了几何参量P、Q和光学参量R1、R2对单模传输时的波导色散特性和低次模截止频率的影响。所得的研究结果为获得更为理想的色散补偿、色散平坦光纤及设计新型无源光器件提供了重要的依据。计算波导色散的方法可推广到多包层光纤。