平面研磨中影响工件起动力矩的因素

本文针对平面研磨过程中工件运动的随机性，从理论上求出了在机床起动瞬间磨具作用于工件上的合力矩；探讨了影响这个力矩的主要因素，偏心距和工件几何尺寸的作用规律；为选择研磨参数提供一理论依据。     

锁相电子散斑系统

电子散斑干涉计量在变形量检测¹、无损探伤、振动分析^(2,3)等领域具有广泛的应用前景,目前它之所以未能实用化,最重要的原因就是该系统对环境的要求过高,特别是物体的振动和空气的扰动对测量结果影响很大,甚至会导致测量失败,因而国内外学者在不断寻找解决此问题的锁相技术。本文提出了一种简易的切实可行的锁相方法-光学锁相法,消除了物体的振动和空气扰动对电子散斑测量的影响。     

光学双稳性临界点的相变行为

本文详细地讨论了光学双稳性(OB)的临界现象。理论分析主要以忽略量子涨落的Fokker-Plank方程的静态解为基础。结果发现,OB的临界现象可以纳入Landau二级相变理论的框架,并且有关临界指数之间的关系也服从标度律。 关键词：     

光学活性环氧化物的酶催化合成

光学活性环氧化物的酶催化合成①夏仕文尉迟力沈润南李树本②（中国科学院兰州化学物理研究所羰基合成与选择氧化国家重点实验室，兰州７３００００）关键词光学活性环氧化物酶催化不对称合成动力学拆分１前言光学活性环氧化物含有两个手性碳，通过选择性开环和官能团转换...     

双甲基丙烯酰氧苯基丙烷与苯乙烯共聚物的光学性能

标题共聚物的耐冲击性与丙烯酸酯均聚物相比有明显改善,但随着双烯单体含量的降低,共聚物的耐热性和表面硬度有所下降。丙烯酸酯含量为70%的共聚物的吸收紫外光能力最强(<370nm全吸收),含量为5%～10%的共聚物耐吸水性、耐酸耐碱性及耐冲击性最好。     

三维超分子配合物[MoO_2(OCH_2C_5H_4N)_2]制备、晶体结构及三阶非线性光学性质

Na_2MoO_4·2H_2O和2-氯甲基吡啶在水中反应得到了超分子化合物：[MoO_2 (OCH_2C_5H_4N)_2]。其单晶结构测试表明：该化合物含有两种均为6配位的但化学 环境不同的Mo(1)和Mo(2)原子；由此两种钼原子构成的中性配合物[Mo(1)O_2 (OCH_2C_5H_4N_2)]和[Mo(2)O_2(OCH_2C_5H_4N)_2]分别通过氢键O…H-C及吡啶环 间的π-π堆积作用形成了二维的A层和B层，A层与B层之间又在层间氢键的作用下 交错形成了三维的网状固态结构。用Z-scan法在DMF溶液中测试了该化合物的三阶 非线性光学性能，发现它有强的非线性吸收(α_2 = 1.92 * 10~(-9) m·W~(-1)) ，非线性极化率X~((3)) = 1.21 * 10~(-12) esu。     

非线性光学材料──水草酸铵

一水草酸铵（简称ＡＯＭ）是一种优良的电光晶体￣［１］。文献￣［１，２］报道了该晶体的晶体结构，化学式为（ＮＨ＿４）＿２Ｃ＿２Ｏ＿２·Ｈ＿２Ｏ，属正交晶系，Ｐ２２２空间群，晶胞参数ａ＝０．８０３５ｎｍ，ｂ＝１。０３１ｎｍ，ｃ＝０．３８０１ｎｍ，ｚ＝２。本文拟报道ＡＯＭ单晶生长，热化学分析，透过波段以及非线性光学性质的初步研究。     

含吩噻嗪金属配合物的合成及非线性光学性质研究

本文报道了一种新的配体:10-乙基-3-甲酰吩噻嗪缩肼基二硫代甲酸甲酯(HL)及其金属配合物的合成。采用了元素分析、质谱、核磁共振、红外光谱对配体及其金属配合物进行了表征。此外,并应用紫外、荧光和Z-扫描技术,测定了配体及其金属配合物的荧光最佳发射波长(λ_max^em)、荧光量子产率(Φ_f)、寿命(τ)和非线性光学性质。结果表明它们在DMF溶液中都能发射出较强的橄榄色荧光,配体及其金属配合物都有双光子吸收,并且金属配合物的非线性光学效应比配体明显增强。用半经验量子化学方法(RHF/PM3)计算结果与实验值较为吻合。     

光学活性化合物的工业合成

本文介绍了光学活性化合物研究现状及发展趋势。并从技术和经济角度论述了工业合成光学活性化合物的可能性     

胆甾液晶／聚合物多组分体系的结构与性能研究（Ⅲ）──ChN／poly（MMA－CO－BMA）混合体系的形态结构

应用Ｘ射线衍射、偏光显微镜及电子显微镜研究了胆甾液晶与甲基丙烯酸甲酯（ＭＭＡ）─甲基丙烯酸丁酯（ＢＭＡ）无规共聚物共混体系的形态结构。研究了体系的结晶态及液晶态的行为和共聚物含量及组成对光学织构的影响。