全文获取类型
收费全文 | 3669篇 |
免费 | 526篇 |
国内免费 | 211篇 |
专业分类
化学 | 192篇 |
晶体学 | 3篇 |
力学 | 541篇 |
综合类 | 108篇 |
数学 | 1787篇 |
物理学 | 1775篇 |
出版年
2024年 | 29篇 |
2023年 | 84篇 |
2022年 | 64篇 |
2021年 | 80篇 |
2020年 | 66篇 |
2019年 | 92篇 |
2018年 | 67篇 |
2017年 | 95篇 |
2016年 | 130篇 |
2015年 | 109篇 |
2014年 | 292篇 |
2013年 | 164篇 |
2012年 | 237篇 |
2011年 | 230篇 |
2010年 | 218篇 |
2009年 | 219篇 |
2008年 | 278篇 |
2007年 | 208篇 |
2006年 | 204篇 |
2005年 | 196篇 |
2004年 | 156篇 |
2003年 | 200篇 |
2002年 | 128篇 |
2001年 | 124篇 |
2000年 | 106篇 |
1999年 | 95篇 |
1998年 | 72篇 |
1997年 | 56篇 |
1996年 | 66篇 |
1995年 | 67篇 |
1994年 | 47篇 |
1993年 | 54篇 |
1992年 | 50篇 |
1991年 | 43篇 |
1990年 | 29篇 |
1989年 | 33篇 |
1988年 | 2篇 |
1987年 | 7篇 |
1986年 | 4篇 |
1985年 | 1篇 |
1984年 | 1篇 |
1982年 | 2篇 |
1959年 | 1篇 |
排序方式: 共有4406条查询结果,搜索用时 46 毫秒
111.
冯明春刘文清徐亮高闽光魏秀丽童晶晶李相贤陈军 《光学学报》2015,(4):352-357
从迈克耳孙干涉仪干涉原理出发,分析了圆形镜面抛光面形误差对干涉调制度的影响。由于存在镜面面形误差,干涉调制度不能达到理想情况下的100%,但其干涉调制度不能低于理想情况下的90%。通过分析和讨论,镜面面形误差最好控制在λ/14以内,干涉调制度才可能不低于90%,这样干涉仪才能保持比较满意的性能。同时,使用Zygo干涉仪对5组平面镜的平面度进行了测量,得到了这5组平面镜的峰-峰值和其他一些参数,通过分析测量结果,这5组平面镜的平面度都能达到干涉调制度的要求。通过对迈克耳孙干涉仪中平面镜面形误差的研究,这对于干涉光谱仪的设计、研制和性能的分析都具有一定的指导意义。 相似文献
112.
为了更精确地预言转动量子数J ≥ 100时双原子分子R支和Q支的振转跃迁谱线, 本文在考虑了转动能级展开式中高阶小项Hv的前提下重新推导出能更好地预言R支和Q支跃迁谱线的物理解析公式. 另一方面, 通过对差分收敛法计算过程的细致分析, 从物理误差的角度提出了一个在没有实验数据作为参照时仍然能有效收敛的重要物理判据. 应用这些新公式和新判据对TiF和CO分子R支振转跃迁谱线和TiF分子Q支振转跃迁谱线进行了研究. 结果表明: 包含高阶小项Hv的新公式的预言结果精度比原有不含Hv的公式的结果提高了一个数量级; 新判据的使用能更有效地减小预言谱线的可能误差, 提高预言结果精度. 最后通过与最小二乘法计算结果的对比, 进一步说明新公式和新判据在预言R支和Q支振转跃迁谱线数据方面的有效性和准确性. 相似文献
113.
为了提高光谱偏振调制器的探测精度,提出了光谱偏振调制器的高精度装调方法。首先,分析了光谱偏振调制器的调制原理,提出了采用三片多级相位延迟器加线偏振器的装调方案;然后,建立了调制器装调的数理模型,设计了校准多级相位延迟器的厚度;最后,对成像过程进行了计算机仿真实验验证,并模拟了成像系统的装调过程。结果表明:利用该方法能够灵敏检测偏振器件间的微小相对旋转角度误差,可实现调制器的高精度装调,在输入本文设定的校准光谱条件下,绝对精度可达0.2°。该方法保留了传统光谱调制器充分利用通道带宽的优势,保证了复原光谱的分辨率,为强度调制型光谱偏振成像系统的精密装调提供了一定的理论参考。 相似文献
114.
在复杂电磁场的背景下,捕获良好短波电台的信号是人们研究的重要议题。在研究短波跳频电台的的干扰特点的基础上,利用最小均方误差(Least Mean Squares,LMS)算法对干扰进行抵消。基于LMS算法的研究提出的变步长LMS算法函数建模;基于短波跳频电台的研究对,在Simulink环境下进行电台仿真建模。将新算法嵌入自定义模块中并与加干扰的电台模型联合仿真。仿真结果表明,新算法模块的加入可以有效对短波跳频电台的干扰进行抑制。自定义的LMS算法模型的建立对新算法的开发应用打下了基础、在复杂战场环境下有效保障短波跳频电台正常工作提出了新思路。 相似文献
115.
116.
117.
118.
针对磁流变抛光过程中抛光轨迹会引入迭代误差的问题,设计了步长和行距随光学表面梯度自适应变化的光栅线抛光轨迹。首先根据光学元件的表面误差分布,利用标准五点法获得面形各点的梯度值,再基于聚类离散思想将所有面形点根据梯度值大小进行了归类,从而得到轨迹步长和行距随面形误差变化的自适应轨迹。在自研的磁流变加工机床上进行了实验研究,将一块直径50mm的微晶玻璃,从峰谷值为65nm、均方根值为12nm收敛到峰谷值为21nm、均方根值为2.5nm,并且在加工后的表面功率谱密度曲线上没有出现明显的尖峰误差。实验结果表明,这种自适应轨迹能有效抑制中高频误差。 相似文献
119.
120.