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从分析影响注入器低能强流电子束稳定传输的主要因素出发,提出了注入器二极管区约束磁场匹配设计条件:阴阳极间足够高的磁场梯度和阴极面零磁场发射。阐述了满足匹配条件的磁场配置的设计方法,并利用数字模拟对设计方法进行了验证。 相似文献
994.
《高能物理与核物理计算国际会议公报》2001,(1):125-128
Three synchrotron radiation beam lines have been built on DAΦNE,the Frascati electron-positron accelerator.It is Possible to monitor and control all the elements on the beam lines using a modular network distributed I/O system by National Instrunments (FieldPoint) with Bridge VIEW/Lab VIEW programs,Two of these beam lines have radiation safety problems solved by two independent and redundant systems,using mechanical switches ,and S7-200 PLC‘s by Siemens.In this article our solution will be described in details. 相似文献
995.
Using the reference hypernetted chain (RHNC) integral equation theory and a rigorous stability analysis method, we investigate the phase behavior of a mixture of hard-sphere dipoles and neutral hard spheres based on the correlations of the homogeneous isotropic phase. Lowering the temperature down to the points where the RHNC equations fail to have a solution, several ttuctuations strongly increase. At low densities our results indicate the onset of / chain formation, which is similar with the pure DHS system. At high densities, the results indicate the appearance of isotropic-to-ferroelectric transitions (small neutral hard spheres concentrations) and demixing transitions (large neutral hard spheres concentrations). 相似文献
996.
997.
998.
999.
在GaAs(110)衬底上生长的半导体材料有诸多优良性能,使得在非极性GaAs(110)衬底上获得高质量各类异质结材料,成为近年来分子束外延生长关注的课题.考虑GaAs(110)表面是Ga和As共面,最佳生长温度窗口很小;反射式高能电子衍射的(1×1)再构图案对生长温度和V/Ⅲ束流比不敏感,难于通过观察再构图案的变化,准确地找到最佳生长条件.作者在制备GaAs(110)量子阱过程中,观察到反射式高能电子衍射强度振荡呈现出的单双周期变化.这意味着不同工艺条件下,在 GaAs(110)衬底上量子阱有单层和双层两种生长模式.透射电子显微镜和室温光致荧光光谱测量结果表明:在双层生长模式下量子阱样品光学性能较差,而在单层生长模式下量子阱光学性能较好,但是界面会变粗糙.利用这一特点,我们采用反射式高能电子衍射强度振荡技术,找到了一种在GaAs(110)衬底上生长高质量量子阱的可行方法.
关键词:
反射高能电子衍射
量子阱
分子束外延 相似文献
1000.
用分子束外延设备(MBE)在GaAs(100)衬底上生长了InSb型界面的AlSb/InAs超晶格,界面生长过程中采用了As保护下不同的中断时间.运用掠入射X射线反射技术(GIXRR)对样品进行了测量,并对测量结果进行了模拟和分析,发现As保护下生长中断20 s能获得最平整的AlSb/InAs界面.结合分析显微镜下观察到的样品形貌,过短的界面中断时间会导致界面富In并形成In点,而过长的中断时间会导致AlAs型界面的形成,两者都使界面变得粗糙.另外,还讨论了生长中断在分子束外延生长中的应用.
关键词:
分子束外延
生长中断
超晶格
掠入射X射线反射 相似文献