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61.
62.
The polycrystalline ruthenium films are grown on TaN substrates by atomic layer deposition (ALD) using bis(cyclopentadienyl) ruthenium [RuCp2] and oxygen as ruthenium precursor and reactant respectively at a deposition temperature of 330℃. The low-energy Ar ion bombardment and Ru pre-deposition are performed to the underlying TaN substrates before ALD process in order to improve the Ru nucleation. X-ray diffraction, x-ray photoelectron spectroscopy, scanning electron microscopy and atomic force microscopy are carried out to characterize the properties of ALD Ru films. The results show that the nucleation density of Ru films with Ar^+ bombardment to the underlying TaN substrates is much higher than that of the ones without any pretreatment. The possible reasons are discussed.  相似文献   
63.
应用自行建立的阵列参比电极技术,原位测量316不锈钢焊接样品在12%FeCl3溶液中腐蚀电位分布.同时借助电化学极化曲线、交流阻抗技术和扫描Kelvin探针对316不锈钢焊缝腐蚀进行跟踪检测.结果表明,经焊接的316不锈钢样品在12%FeCl3溶液中,最初时刻焊缝区发生优先腐蚀,而在母材区保持钝化状态;随着浸泡时间延长...  相似文献   
64.
用俄歇能谱仪对比研究了添加0.2%Y对高硅不锈钢在93%H2SO4介质中所形成的钝化膜中各元素浓度分布的影响,添加0.2%Y增大了SiO2在不锈钢钝化膜中的比例,从而使合金中Si可充分形成富SiO2的钝化膜。  相似文献   
65.
66.
67.
利用聚二甲基硅氧烷(PDMS)对有机物的富集功能,通过在金纳米粒子单层膜(Au MLF)表面旋涂薄层PDMS膜制备PDMS-Au MLF复合表面增强拉曼光谱(SERS)基底.研究了SERS增强性能与旋涂液浓度及稀释溶剂间的关系,考察了复合基底增强活性的均匀性.研究发现,采用叔丁醇为稀释溶剂,浓度为2%(质量分数)的旋涂液时所得复合基底表面多环芳烃(PAHs)的SERS信号强度最高,且此基底SERS信号强度偏差小于10%.分别以PDMS-Au MLF复合材料和Au MLF作为基底,对比研究了对萘、蒽、菲和芘4种多环芳烃的SERS检测能力.结果表明,PDMS-Au MLF复合基底对以上4种有机物的检出限分别为10~(-6),10~(-7),10~(-8)及10~(-7)mol/L,相比于单一Au MLF基底,其检测限至少降低了1个数量级,这主要源自于PDMS对PAHs的富集作用,且此类复合基底可用于多种多环芳烃混合物的特征识别.  相似文献   
68.
表面增强拉曼散射(SERS)是公认的超灵敏的光谱工具.和传统的优化SERS基底材料或构筑完美的结构策略相比,我们提出了一种极其简单和灵敏的方法,该方法被命名为状态转变增强拉曼光谱(STERS).这种STERS检测方法可广泛的应用于毒品安全检测、食品安全和环境保护等方面.如果我们把这种方法和便携式拉曼光谱仪结合,这种应用...  相似文献   
69.
刘守江  李莉 《光谱实验室》2011,28(4):1873-1876
利用光电直读光谱仪测定不锈钢中铬含量,对其在测量过程中不确定度产生的原因进行了分析,并对测量结果的不确定度进行了评定。  相似文献   
70.
 为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物增透膜,研究了基底和不同氟化物材料组合对氟化物增透膜的影响。在熔石英基底上,将挡板法和预镀层技术相结合,采用热舟蒸发方式制备了不同氟化物材料组合增透膜,对增透膜的剩余反射率和光学损耗等光学特性,以及表面粗糙度和应力等特性进行了测量和比较。在分析比较和优化的基础上,设计制备的3层1/4波长规整膜系AlF3/LaF3增透膜在193 nm的剩余反射率低于0.14%,单面镀膜增透膜的透射率为93.85%,增透膜表面均方根粗糙度为0.979 nm,总的损耗约为6%。要得到高性能的193 nm增透膜,应选用超级抛光基底。  相似文献   
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