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71.
高斯光束在克尔型非线性介质中的演化特性 总被引:2,自引:1,他引:1
由光束在克尔型吸收介质中传输的非线性薛定谔方程,推导了高斯光束注入介质后满足的耦合方程,并分别在不考虑吸收和高阶展开项的情况下,对脉冲的腰斑半径的演化进行了理论分析。发现当注入脉冲满足一定的条件时,脉冲可以以“孤波”的形式传播。当考虑吸收和高阶展开项时,脉冲不存在“孤波”形式,且存在一个阈值,低于阈值的输入,脉冲发生自聚焦;对高于阈值的输入,腰斑半径随着距离的增加而增加,聚焦趋势根本就不存在。 相似文献
72.
Huai-Chun Zhou Yu-Bo HouDong-Lin Chen Chu-Guang Zheng 《Journal of Quantitative Spectroscopy & Radiative Transfer》2002,74(5):605-620
A parallel-plane space filled with absorbing, emitting, isotropically scattering, gray medium is studied in this paper. The boundary intensity and boundary temperature profiles are calculated for the inverse analysis. For the simultaneous estimation of temperature, absorption and scattering coefficient profiles in the medium, the sum of residuals of boundary intensity and temperature after being weighted by a balance factor is minimized through using a Newton-type iteration algorithm and the least-squares method. To avoid over-updating for the parameters, the relative updating magnitude during the iteration process is constrained not to be >0.5. It is shown that the boundary intensity measurement alone is not enough to estimate simultaneously the temperature (source) and the radiative properties (both absorption and scattering coefficients) when the measurement data contain sensitive random errors. The boundary temperature measurement can serve as a necessary supplementation to the boundary intensity to make this kind of inverse radiative transfer problem resolvable. It was shown that a compensation relationship between absorption and scattering coefficients makes it difficult to fix them accurately. Parabolic profiles for the three parameters are used to validate the estimation method. When the optical thickness approaches 4.0, the results for the radiative properties are not acceptable, although the result for temperature profile is reasonable. This means the method needs further improvements. 相似文献
73.
用斜坡电压法(Voltage Ramp, V-ramp)评价了0.18μm双栅极 CMOS工艺栅极氧化膜击穿电量(Charge to Breakdown, Qbd)和击穿电压(Voltage to Breakdown, Vbd). 研究结果表明,低压器件(1.8V)的栅极氧化膜(薄氧)p型衬底MOS电容和N型衬底电容的击穿电量值相差较小,而高压器件(3.3V)栅极氧化膜(厚氧)p衬底MOS电容和n衬底MOS电容的击穿电量值相差较大,击穿电压测试值也发现与击穿电量
关键词:
薄氧
可靠性
击穿电压
击穿电量 相似文献
74.
75.
利用多靶磁控溅射技术制备了Au/SiO2纳米颗粒分散氧化物多层复合薄膜.研究了在保持Au单层颗粒膜沉积时间一定时薄膜厚度一定、变化SiO2的沉积时间及SiO2的沉积时间一定而改变薄膜厚度时,多层薄膜在薄膜厚度方向的微观结构对吸收光谱的影响.研究结果表明:具有纳米层状结构的Au/SiO2多层薄膜在560 nm波长附近有明显的表面等离子共振吸收峰,吸收峰的强度随Au颗粒的浓度增加而增强,在Au颗粒浓度相同的情况下,复合薄膜
关键词:
2纳米复合薄膜')" href="#">Au/SiO2纳米复合薄膜
多靶磁控溅射
吸收光谱
有效介质理论 相似文献
76.
计算机模拟仿真射频磁控溅射实验制备薄膜及离于电池电极,研究了在特定实验条件下薄膜的生长过程,并分析了影响薄膜生长的部分因素。 相似文献
77.
利用溶胶凝胶法在SiO2Si衬底上沉积高取向的V2O5薄膜,在压强低于2Pa,温度高于400℃的条件下,对V2O5薄膜进行真空烘烤,获得了电阻率变化3个数量级以上、弛豫宽度为62℃的VO2多晶薄膜.以X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)图和电阻率转换特性等实验结果为依据,详细分析了溶胶凝胶薄膜在真空烘烤时从V2O5向VO2的转化,它经历了从VnO2n+1(n=2,3,4,6)到VO2的过程.实验证明,根据选择合适的成膜热处理条件和真空烘烤条件是实现溶胶凝胶V2O5结构向VO2结构成功转换的关键
关键词:
溶胶-凝胶法 氧化钒薄膜 VO2膜转换特性 相似文献
78.
79.
80.
Christian Erich Zybill Mahmoud Abdel-Hafiez Sami Allam Tharwat El Sherbini 《Progress in Solid State Chemistry》2007,35(2-4):469-480
Ferroelectric thin films form an equilibrium domain structure compatible with their respective crystallographic symmetry. In tetragonal (111) PZT, 90° domains prevail; in (pseudo-tetragonal) (100) SBT both 90° and 180° domains are present. The size of 90° domains has been measured for e.g., PZT as slabs of 15 nm width. Domain size is a result of stress minimization in the film during the paraelectric (PE) → ferroelectric (FE) transition. A precise and regular domain pattern for (111) PZT and (100) SBT films has been investigated in detail by TMSFM. Single domains can be addressed mechanically with the tip of an AFM. Such single domain switching corresponds to a data storage density of 200 Gbit/inch2. Applications of ferroelectric and high- paraelectric materials for e.g., non-volatile data storage replacing DRAM devices or as sensors in infrared cameras are increasingly becoming popular. 相似文献