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72.
Summary. Let be a square matrix dependent on parameters and , of which we choose as the eigenvalue parameter. Many computational problems are equivalent to finding a point such that has a multiple eigenvalue at . An incomplete decomposition of a matrix dependent on several parameters is proposed. Based on the developed theory two new algorithms are
presented for computing multiple eigenvalues of with geometric multiplicity . A third algorithm is designed for the computation of multiple eigenvalues with geometric multiplicity but which also appears to have local quadratic convergence to semi-simple eigenvalues. Convergence analyses of these methods
are given. Several numerical examples are presented which illustrate the behaviour and applications of our methods.
Received December 19, 1994 / Revised version received January 18, 1996 相似文献
73.
74.
V. Palyok I.A. Szabó D.L. Beke A. Kikineshi 《Applied Physics A: Materials Science & Processing》2002,74(5):683-687
Surface relief formation at holographic recording on amorphous selenium films was demonstrated and investigated. The presence
of this optical phase modulation component is essential for ensuring significant, stable and erasable optical recording in
a-Se films at 290–320 K temperatures, where conventional photodarkening was known as insignificant and unstable. Photocrystallization
can only be observed in super-exposed a-Se films at the given experimental conditions of hologram recording. Erasing behavior
of surface relief gratings under heat treatment was also investigated in order to reveal further details of the mechanism.
Photoinduced structural transformations within the amorphous phase, connected to local ordering under the condition of light-induced
fluidity, are proposed as an explanation for the relief formation and erasing. The observed reversible optical recording process
may be useful for the various optoelectronic applications of photoconductive a-Se layers.
Received: 12 June 2000 / Accepted: 6 June 2001 / Published online: 30 August 2001 相似文献
75.
Summary In the analysis of discretization methods for stiff intial value problems, stability questions have received most part of the attention in the past.B-stability and the equivalent criterion algebraic stability are well known concepts for Runge-Kutta methods applied to dissipative problems. However, for the derivation ofB-convergence results — error bounds which are not affected by stiffness — it is not sufficient in many cases to requireB-stability alone. In this paper, necessary and sufficient conditions forB-convergence are determined.This paper was written while J. Schneid was visiting the Centre for Mathematics and Computer Science with an Erwin-Schrödinger stipend from the Fonds zur Förderung der wissenschaftlichen Forschung 相似文献
76.
Summary We present an approximation method of a space-homogeneous transport equation which we prove is convergent. The method is very promising for numerical computation. Comparison of a numerical computation with an exact solution is given for the Master equation. 相似文献
77.
采用基于第一性原理的密度泛函理论研究了四角晶相二氧化铪(t-HfO2)体相及 其(001)表面的原子几何与电子结构.理论计算结果表明,t-HfO2(001)表面不会 产生重构现象.与体相电子结构相比, t-HfO2(001)表面态密度明显高于体相态 密度.其次,表面原子的态密度更靠近费米能级(EF),价带往低能量处移动,并 有表面态产生.计算结果表明了t-HfO2表面禁带宽度明显低于体相的禁带宽度. t-HfO2(001)的表面态产生以及表面禁带宽度减小是由于Hf原子与O原子的配位 数减少,表面原子周围的环境发生变化而引起的.
关键词:
密度泛函理论
2(001)')" href="#">t-HfO2(001)
表面电子结构 相似文献
78.
采用化学自燃烧法制备了不同Ag+掺杂浓度的Y2O3:Eu纳米晶体粉末样品([Y3+]∶[Eu3+]∶[Ag+]=99∶1∶X,X=0—3.5×10-2),以及通过退火处理得到了相应的体材料.根据X射线衍射谱确定所得纳米和体材料样品均为纯立方相.实验表明在纳米尺寸样品中随着Ag离子浓度的增加,荧光发射强度随之增加,当X=2×10-2时达到最大值,其发光强度比X=0时提高了近50%.当Ag离子浓度继续增加,样品发光强度保持不变.在相应的体材料样品中则没有观察到此现象.通过对各样品的发射光谱,激发光谱,X射线衍射图谱,透射电镜(TEM)照片和荧光衰减曲线的研究,分析了引起纳米样品荧光强度变化的原因是由于Ag离子与表面悬键氧结合,从而使这一无辐射通道阻断,使发光中心Eu3+的量子效率提高;Ag+的引入所带来的另一个效应是使激发更为有效.这两方面原因使发光效率得到了提高. 相似文献
79.
采用顶部籽晶提拉法(TSSG)生长出Yb:KY(WO4)2(Yb:KYW)激光晶体.对预烧后的原料及晶体进行了XRD分析,结果表明,分别在920℃和600℃预烧8h后的熔质和助熔剂基本上形成一相,抑止了实验中的挥发问题;所生长的晶体为β-Yb:KYW,计算其晶格常数为a=1.063nm,b=1.034nm,c=0.755nm,β=130.75°.测得不同厚度样品的吸收光谱,结果表明样品在933nm和981nm有较强的吸收峰,计算出主峰981nm的吸收截面σ关键词:
Yb:KYW
TSSG法
晶体结构
光谱参数 相似文献
80.
针对VO2薄膜在微测辐射热计上的应用,采用射频反应溅射法,在室温下制备氧化钒薄膜;研究了氧分压对薄膜沉积速率、电学性质及成分的影响.通过调节氧分压,先获得成分接近VO2的非晶化薄膜,再在400℃空气中氧化退火,便可制得高电阻温度系数,低电阻率的VO2薄膜,电阻温度系数约为-4%/℃,薄膜方块电阻为R□为100—300kΩ;薄膜在室温下沉积,400℃下退火的制备方法与微机电加工(micro electromechanic
关键词:
二氧化钒
电阻温度系数
氧分压
射频反应溅射法 相似文献