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181.
建立了Littlewood—Paley g-函数在Heisenberg群上某些Herz型空间上的有界性. 相似文献
182.
研究了HfN/HfO2高K栅结构p型金属-氧化物-半导体(MOS)晶体管(MOSFET)中,负 偏置-温度应力引起的阈值电压不稳定性(NBTI)特征.HfN/HfO2高K栅结构的等效 氧化层厚度(EOT)为1.3nm,内含原生缺陷密度较低.研究表明,由于所制备的HfN/HfO2 高K栅结构具有低的原生缺陷密度,因此在p-MOSFET器件中观察到的NBTI属HfN/HfO2高K栅结构的本征特征,而非工艺缺陷引起的;进一步研究表明,该HfN/HfO2高K栅结构中观察到的NBTI与传统的SiO2基栅介质p-MOSFET器件中观察 到的NBTI具有类似的特征,可以被所谓的反应-扩散(R-D)模型表征: HfN/HfO2 栅结构p-MOSFET器件的NBTI效应的起源可以归为衬底注入空穴诱导的界面反应机理,即在负 偏置和温度应力作用下,从Si衬底注入的空穴诱导了Si衬底界面Si-H键断裂这一化学反应的 发生,并由此产生了Si+陷阱在Si衬底界面的积累和H原子在介质层内部的扩散 ,这种Si+陷阱的界面积累和H原子的扩散导致了器件NBTI效应的发生.
关键词:
高K栅介质
负偏置-温度不稳定性(NBTI)
反应-扩散(R-D)模型 相似文献
183.
借助于环论的方法研究了具有交换自同构群的有限群,提出了一种新的自同构构作技术,并用之证明了这样的非交换有限群具有非循环的中心子群,以及其每个极大子群的中心子群也都非循环. 相似文献
184.
Curran猜想的解答 总被引:2,自引:0,他引:2
本文确定了能作为有限群自同构群的P-群的最佳下最,彻底解决了Curran在1989年提出的关于此最佳下界的三个猜想。 相似文献
185.
187.
在MP2水平上采用6-311G基组计算了van der Waals复合物X…H2O(X=Li, Na, K)的非线性光学性质(μ, α, β), 讨论了基组效应和电子相关效应对计算结果的贡献. 在MP2/6-311++G(2df, 2pd)水平上计算得到的三个复合物分子X(X=Li, Na, K)•••H2O的非线性光学性质. 结果表明, 三种复合物分子均具有巨大的一阶超极化率, 其中最外层电子的弥散特性对一阶超极化率有很大的影响. 相似文献
188.
研究了In(Ⅲ)和Y(Ⅲ)-1,2-丙二胺四乙酸配合物 ̄1HNMR谱的温度依赖性,其结果显示出8个乙酸质子处于不同的磁环境中,分4组AB谱。AB谱交换现象由氮原子翻转引起,通过全线型分析求得了速率常数及相关热大学参数。对不对称的氮原子,其翻转速率不同,靠近CH_3─基团的氮原子翻转速率要比远离CH_3─的小.活化能与金属离子的离子势呈线性关系。 相似文献
189.
利用1,4-二-(4-羧基吡啶基)丁烷(L)合成了两个新的三维配位聚合物{(CdL2)·4H2O·2ClO4}n 1和{(ZnL2)·4H2O·2ClO4}n 2。单晶X-射线结构分析表明,1和2具有相同的计量式,但其晶体属于不同的空间群(1属于P4n2,2属于P4222)。两种配合物中,每个金属离子分别由配体与四个相邻的金属离子连接,从而形成具有六重穿插的金刚石网络结构,其网络中大的空腔被高氯酸根离子和(H2O)4分子簇所占据。 相似文献
190.
5,7-二取代-2-(2,4-二氯苯氧乙酰亚胺基)-2H-1,2,4-噻二唑并[2,3-α]嘧啶衍生物的合成、晶体结构及除草活性 总被引:1,自引:0,他引:1
设计并合成了5种5,7-二取代-2-(2,4-二氯苯氧乙酰亚胺基)-2H-1,2,4-噻二唑并[2,3-a]嘧啶类化合物5,均为未见文献报道的新化合物.利用1H NMR、元素分析等确定了产物的结构.初步除草活性测定结果表明,化合物5对阔叶植物有优良的除草活性,且有一定的选择性.为了进一步了解该类化合物的结构,也为设计新的除草剂分子提供帮助,对其中一种化合物5b进行了X射线单晶衍射. 相似文献