弱次-ortho-紧空间的σ-积

本文研究了具有覆盖性质的弱次-ortho-紧空间的σ-积问题,证明存在可数仿紧空间族{X_α:α∈ω_1}满足:(1)空间σ{X_α:α∈ω_1}的每个有限子乘积是弱次-ortho-紧的;(2)空间σ{X_α:α∈ω_1}不是弱次-ortho-紧的.利用拓扑空间乘积性理论,获得了如下结果:设X=σ{X_α:α∈A}是|A|-仿紧空间.如果X的每个有限子乘积是弱次-ortho-紧的,则X也是弱次-ortho-紧的.从而推广了文献[8]的结果.     

On Jordan Biderivations of Triangular Matrix Rings

Let $R$ and $S$ be rings with identity, $M$ be a unitary $(R,S)$-bimodule and $T=\left(\begin{array}{cc}R & M \\ 0 & S\end{array}\right) $ be the upper triangular matrix ring determined by $R$, $S$ and $M$. In this paper we prove that under certain conditions a Jordan biderivation of an upper triangular matrix ring $T$ is a biderivation of $T$.     

圆锥型复合变幅杆优化及动力学特性

针对应用传统解析法设计复合变幅杆过于繁琐的问题,提出采用简便、有效的微积法对圆锥复合变幅杆进行设计,之后通过Ansys软件对其结构进行有限元分析。此外,基于Ansys优化设计功能对变幅杆进行优化修整,对优化前后变幅杆进行阻抗分析和振动性能测试,测试结果表明优化后变幅杆振动效果更佳。最后,应用Ansys软件对变幅杆进行动力学特性分析,得到了不同直径、不同面积系数下变幅杆放大系数、最大应力值,并对仿真结果进行分析后得出了其动力学参数与大端直径及面积系数之间的关系。     

电弧增材成形中熔积层表面形貌对电弧形态影响的仿真

电弧增材成形常采用单道多层或多道搭接的熔积方式,不同的熔积方式下对应的熔积层表面形貌不同,从而影响电弧的形态及其传热传质过程.本文建立了纯氩保护电弧增材成形的电弧磁流体动力学三维数值模型,以及不同表面形貌的熔积层模型,并在保持阳极与阴极之间距离和熔积电流不变的条件下,通过模拟计算获得增材成形特有的单道和多道搭接熔积条件下的不同表面形貌对应的电弧形态以及相应的温度场、流场、电流密度、电磁力、电弧压力分布.数值模拟结果表明:平面基板上起弧情况下电弧中心具有较高的温度、速度、电流密度以及压强;单道多层熔积情况下熔积层数对电弧的各个参量影响较小;多道搭接熔积情况下电弧呈非对称分布,电弧中心温度较前两者低,电流密度、电磁力和电弧压强的分布偏向熔积层一侧.     

Heisenberg型群上的仿积算子

首先给出了Heisenberg型群上一类仿积算子的定义,研究了该算子的L~2→L~2有界性.其次探讨了Heisenberg型群上的Calderon-Zygmund算子,包括该算子的L~p→L~p有界性,L~1→L~(1,∞)有界性以及H~1→L~1有界性.最后证明了仿积算子也是Calderon-Zygmund算子,同时还证明了仿积算子的一些其它重要性质.     

正压缩算子Jordan积的最大最小谱点

主要讨论了正压缩算子Jordan积的谱,刻画了正压缩算子Jordan积的最大最小谱点以及正交投影Jordan积的谱.     

一致可积函数的非标准刻画

设(X,A,μ)是内有限可加测度空间.首先给出了S-可积的等价条件,进而给出了一致可积函数的非标准刻画,即可测函数集{fi)i∈I是一致可积的当且仅当对于任意的i∈*I,fi都是S-可积的.     

广义Taylor中值函数若干分析性质

文[2-8]对微分中值定理及Taylor定理"中间点"的渐近性质进行了研究,本文在此基础上,给出了"广义Taylor中值函数"的定义,对"广义Taylor中值函数"的分析性质进行了系统的讨论,证明了"广义Taylor中值函数"的单调性、可积性、连续性、可微性等分析性质.     

积图Pm×C4n的k-优美性

Let k be a positive integer. The simple graph G=(V, E) is called k-graceful if there exists a injection.     

X光电子能谱研究氧离子束辅助PLD共淀积ZnO薄膜

在ZnO的XPS分析中,ZnLMM俄歇峰能很好地指认氧化锌淀积膜中Zn的价态,结合O1s光电子峰的分析,可表征ZnO中缺氧程度。通过XPS的对比实验,表明采用氧(O)离子辅助PLD共淀积ZnO薄膜,能明显改善淀积ZnO膜的缺氧问题,降低薄膜层中的孔隙率,提高淀积ZnO薄膜质量。XPS深度剖析结果还表明采用O离子辅助PLD共淀积后膜层中Zn的氧化组分和孔隙率随深度变化平缓。