具有扩散的Lotka-Volterra系统的持续性

利用最大值原理结合上、下解的方法，讨论了一类具有扩散的竞争－捕食的Lotka-Volterra系统静态解的存在性与持续生存。     

时变线性系统特征根判稳的推广

本文研究了二维时变线性系统零解的稳定性，给出了一些允许系数矩阵主对角元变号，系数矩阵特征根变号的判定稳定性的充分条件。     

一致Banach空间中非扩张映象的弱收敛定理

设犈是一致凸Ｂａｎａｃｈ空间，满足Ｏｐｉａｌ条件或具有Ｆｒｅｃｈｅｔ可微范数，犆是犈的非空闭凸子集，且犜：犆→犆是非扩张映象．又设对任何初始数据狓１ ∈犆，序列｛狓狀｝由下列修改了的Ｉｓｈｉｋａｗａ迭代程序生成：狓狀＋１ ＝狋狀犜狀（狊狀犜狀狓狀＋ （１－狊狀）狓狀）＋ （１－狋狀）狓狀，　狀≥１， （Ｉ）其中，数列｛狋狀｝与｛狊狀｝满足下列条件（ｉ）和（ｉｉ）之一：（ｉ）狋狀∈ ［犪，犫］且狊狀∈ ［０，犫］；（ｉｉ）狋狀∈ ［犪，１］且狊狀∈ ［犪，犫］，这里，常数犪，犫满足０＜犪≤犫＜１．作者证明了，犜有不动点的充要条件是，｛狓狀｝ 弱收敛且｛‖狓狀－犜狓狀‖｝收敛到０．而且，由此即知，若犜有不动点，则｛狓狀｝弱收敛到犜的一个不动点．     

具连续时滞Liénard方程概周期解的存在唯一性

结合Liapunov泛函，研究了具连续时滞Lienard方程概周期解的存在唯一性和安全一致渐进稳定性。     

具有开发的非自治单种群生态系统研究

研究了具有开发的单种群非自治周期系统．利用非自治微分方程理论．以及变分法理论和泛函极值的Euler方程方法,得到了该开发系统的持续生存性．周期解存在性，全局渐近稳定性．研究了在开发情况下的最大收获量问题，以及取得最大经济效益下的收获问题等．     

2004年全国高考理综物理选择题速解方法谈

选择题大都可以从题干出发，通过求解对照来做出选择，这是最常用的方法，与求解常规解答题几乎没什么区别，因而也就不能体现选择题自身的特点，反映不出解选择题的策略．一般说来，解选择题要充分利用题目本身所提供的新信息，把常规题变为有特殊技巧的快速解答题，避免“小题大做”．迅速完成选择题，意味着可以有更多的时间思考后面的大题而获得更     

Fiberings with Fiber RP（κ）

Let κ be non-negative integer. The unoriented bordism classes, which can be represented as [RP（ξ^κ）] where ξ^κ is a k-plane bundle, form an ideal of the unoriented bordism ring MO.. A group of generators of this ideal expressed by a base of MO. and a necessary and sufficient condition for a bordism class to belong to this ideal are given.     

一个线性约束优化问题的广义梯度投影法

本文对线性约束优化问题提出了一个新的广义梯度投影法，该算法采用了非精确线性搜索，并在每次迭代运算中结合了广义投影矩阵和变尺度方法的思想确定其搜索方向．在通常的假设条件下，证明了该算法的整体收敛性和超线性收敛速度．     

Recursion Relations of Radial Wavefunctions of the Hartmann Potential

We obtain exact bound state solutions of the radial Schroedinger equation with the Hartmann potential, as well as two kinds of recursion relations of radial wavefunctions by using Laplace transformation. Those results are expressed only in terms of the principal and angular-momentum quantum numbers.     

薄铝埋点等离子体K线光谱半定量诊断

高温等离子体系统中存在等离子体流体力学运动演化过程、离子的离化分布演化动力学过程、高剥离态离子谱发射过程及发射芬光辐射输运过程等，而且高温等离子体系统通常是非平衡系统，所以定量研究高温等离子体系统的发射X光谱和高温等离子体对X光的吸收是一个非常复杂的问题。为了模拟和解释实验测得的激光等离子体发射光谱，提出了一种薄埋点靶：直径为φ200μm厚度为0．1μm的铝点埋在20μm厚的CH膜底衬中，表面再覆盖0．1μm厚CH膜。