平面研磨加工中工件转速的理论分析

平面研磨加工中工件转速决定了磨具与工件间的相对运动速度分布,并进而影响磨具和工件的面形精度。在考虑了磨具上金刚石丸片的实际排列以及接触区压强的实际分布的前提下,运用力学和运动学的方法,模拟分析了在固着磨料平面研磨加工中镜盘所受的摩擦力矩。在此基础上,根据稳定加工时力矩平衡原理得出了包含转速的数学公式,并重点探讨了工件半径和偏心矩对工件转速的影响。结果表明,工件转速并不总是等于磨具转速,而是随着偏心矩的增大而逐渐增高,随着工件半径的变化发生起伏波动。     

同时具有点和区间半径序列收敛性的免导迭代法的进一步讨论

1 引 言 传统的求零点的迭代法只讨论迭代序列{xn}的收敛阶,近年来,G.Alefeld和F.A.Po-tra研究了含零点的区间半径序列的收敛性[2][3],而我们提出了同时具有点和区间半径序列均平方收敛的免导迭代法[1],即当n充分大时,序列{xn}和含零点区间的半径序列{(bn-an)}都是平方收敛的.通过进一步的分析,我们发现,文[1]中的结果仍可改进,并且,不需     

再论奇异积分方程组直接解法的可解条件

在［１—４］基础上，用统一观点处理ｄｅｔ［ａ（ｚ）±ｂ（ｘ）］有多种零点的一般情形，并给出［１－４］中奇点积分方程组直接解法可解条件的合理提法．     

傅里叶自函数的维格纳分布及应用

傅里叶变换是现代光学发展的重要理论工具。自1991年Caola首次定义傅里叶自函数以来1,它在光学领域的应用研究日趋活跃。本文首先对傅里叶自函数定义进行扩展,再讨论其维格纳分布函数及其矩,研究它们在光学中的应用。最后推导出傅里叶自函数应用于光学变换器成象时的变换矩阵。     

矩底拱面状微透镜阵列的氩离子束刻蚀

在ＺｒＯ２、ＩｎＰ、Ｓｉ及ＳｉＯ２即融凝石英衬底上用氩离子束刻蚀制作面阵矩底拱面状微透镜阵列，给出了氩离子束在不同的入射角度下刻蚀器件的速率与离子束能量之间的关系。实验表明，用国产ＢＰ２１２紫外正型光刻胶制作的光致抗蚀剂掩膜图形在经过优化的工艺条件下可以通过氩离子束刻蚀将预定图形转移到衬底材料中。     

不同分布NA序列加权和的完全收敛性

本文讨论了不同分布NA随机变量序列加权和的完全收敛性，获得了较[7]中的定理1及定理A更为一般的安全收敛性，并得到了完全收敛速度与矩条件之间的等价关系。     

联系Butterworth滤波器的双正交小波

联系Butterworth滤波器的双正交小波称为Butterworth小波,它们具有很好的性质:包括对称性,插值性及消失矩．本文定义了离散空间L~2(Z)中的双正交小波并给出一个易于验证的充分条件．利用这一条件,重新得到Butterworth小波;进一步,构造了一类双正交小波．它们不仅具有Butterworth小波的前述所有性质,而且具有最短可能的支集．     

应变、温度对λ/4相移光栅反射光谱特性的影响

利用矩阵法和编程计算，对λ/4相移光栅在外界应变或温度的影响下，其反射光谱特性进行研究，得出一些规律性的结论.这些理论结果将对相移光栅在传感中的应用及其制作有参考作用.     

广义Hausdorf矩中基函数的唯一性

本文通过定义左连续单调函数的广义反函数，讨论了形式为ａｎ＝∫ｂａΨ（ｘ）ｆｎ（ｘ）ｄｘ，ｎ＝１，２，３，…（１）的广义Ｈａｕｓｄｏｒｆ矩的基函数ｆ（ｘ）的唯一性问题。在Ψ（ｘ）为Ｌｅｂｅｓｇｕｅ正可积的条件下，我们证明了当ｆ（ｘ）为单调函数时，满足（１）式的基函数ｆ（ｘ）是唯一的     

NA、PA样本下密度核估计的相合性

设{Xn,n≥1}为同分布的NA或PA随机变量序列，f(x)为X1概率密度函数，基于样本X1，X2，…，Xn，本对密度函数（f(x)的核估计进行了讨论，在适当条件下证明了其强相合和r阶矩相合。