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171.
172.
《光学学报》2010,30(1)
研究了原子层沉积制备氧化铝薄膜的光学性能。以三甲基铝(TMA)和水为前聚体,分别在基板温度为250℃和300℃的K9和石英玻璃衬底上沉积了Al2O3光学薄膜。采用分光光度计,X射线光电子能谱(XPS),X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM),扫描电子显微镜(SEM)等分析手段对薄膜的微结构、表面形貌和光学特性进行了研究。结果表明,原子层沉积法制备的Al2O3薄膜在退火前后均呈现无定形结构,元素成分接近化学计量比,其表面粗糙度小于1.2nm,聚集密度高于0.97,光学非均匀性优于1%。同时在中紫外到近红外均有很好的光学性能,适合作为中间折射率和低折射率材料在光学薄膜中得到应用。 相似文献
173.
采用CS-800型碳硫分析仪对硫回收催化剂的积碳和积硫量进行分析,考察了助熔剂和样品用量对分析结果的影响,同时考察了分析方法的准确性.试验结果表明,碳的回收率为96.8%~100%,硫的回收率为98.9%~100%,相对标准偏差小于3%.分析方法准确可靠,重复性好,硫回收催化剂的称样质量为50.0~70.0 mg,能满足分析要求. 相似文献
175.
176.
177.
将手性的伯胺-叔胺与B酸组成的酸碱对负载到介孔材料SBA-15孔道的内表面,得到了一种非均相双功能催化剂.该催化剂在催化丙酮和不同醛的aldol反应时得到了中等的活性和对映体选择性,重复使用6次后活性没有明显下降.与以硅胶为载体的催化剂相比,以介孔SBA-15分子筛为载体的催化剂ee值更高,这可能是由于介孔孔道限制效应引起的. 相似文献
178.
阐明了van der Waals状态方程与溶液理论间的密切关系。由van der Waals状态方程中的内压力和自由体积简捷地导得Scatchard-Hildebrand正规溶液理论、无热溶液理论和Flory-Huggins聚合物溶液理论。表明这些理论都是建立在van der Waals流体的基础上,为进一步改进这些理论提供了一条切实可行的思路。 相似文献
179.
制作电池前在正极活性物质βNi(OH)2微粒表面沉积5%Co,抑制了γNiOOH的产生,并能有效地防止βNi(OH)2在充放循环过程中粉化,通过对电池充放电曲线的测量、X射线分析,探明了用前处理方法可消除贮氢合金中铝对正极活性物质的影响. 相似文献
180.
用非平衡热力学耦合模型研究了金刚石在CHCl体系中的生长,计算所得CHCl体系的金刚石生长的相图与大量实验结果符合良好.通过热力学分析讨论了氯的添加对提高金刚石薄膜生长速率及其质量的影响以及降低淀积温度的作用. 相似文献