怀念严懋勋教授

严懋勋(William MYEN)教授(美国乔治亚大学)因病,不幸于2008年1月17日逝世。自我国改革开放以来,严教授为推动我国发光学研究的国际化,开展与国际先进研究工作的交流,付出了积极的努力,给予了大力的支持。在他的倡导和支持下,我们先后于1987年和2005年承办和组织了两次国际发光学术会议。多年来,严教授还担任了《发光学报》编辑委员会的国际顾问,对《发光学报》学术质量的提高付出了辛勤。我刊于本期特辟专栏,刊登徐叙2院士、严懋勋教授的同事、合作者和学生们撰写的专文,以永远纪念和缅怀严懋勋教授。     

Fe3+对KDP晶体光学质量的影响

金属离子Fe3+对KDP晶体的生长和光学性质有明显影响.本文在前期研究的基础上[1]系统考察了该杂质离子对KDP晶体光学质量的影响.实验结果表明,三价金属离子Fe3+会降低KDP晶体的透光率,同时对晶体均匀性和光损伤阈值也有明显影响.光损伤阈值降低的主要原因在于杂质诱发缺陷导致的电子崩电离、多光子电离(尤其是双光子电离)等过程的发生.     

Chemical Research in Chinese Universities Guide for Authors

Chemical Research in Chinese Universities＂, sponsored by Jilin University mandated by the Ministry of Education of P. R. China and published by Higher Education Press in China and Elsevier Ltd. overseas, is a comprehensive academic journal in the field of chemistry. The journal contains original papers, research notes, letters and reviews written by faculty members, scientific researchers,     

质量与速度的关系

本文介绍了经典理论中电磁质量概念的由来和从Kaufmann开始的实验验证工作，并围绕质量与速度的关系问题，论述了理论和实验相互依存的辩证关系。     

DF/HF化学激光器HYLTE喷管的副喷管质量流量系数

对DF/HF化学激光器HYLTE喷管的副喷管质量流量进行了数值和理论计算,得出入口滞止压力在0.01~0.4MPa之间、喉道半高度在0.1~0.9mm之间的喷管的氘气,氢气和氦气质量流量系数,总结出质量流量系数随入口滞止压力和喉道高度的变化规律,并给出拟合公式,为副喷管的设计提供依据。     

变质量非线性非完整系统的Gibbs-Appell方程

本文首先将Gibbs-Appell方程推广到最一般的变质量非完整系统.得到变质量非线性非完整系统在广义坐标、准坐标下的Gibbs-Appell方程和积分变分原理,最后给出一个例子.     

谈经济数学教学过程的优化

经济数学教学过程的优化要以系统教学理论为指导，树立全局意识、创新意识、应用意识和质量意识。     

AT&T准则下完全检验的最优设计(英文)

本文研究了完全检验的质量控制问题,将广泛用于X-控制图的AT＆amp;T准则应用于完全检验,并根据完全检验的特点,提出一种新的最优模型,数值实验结果表明AT＆amp;T准则下的完全检验优于传统的完全检验。     

临床试验(Ⅱ)

在本文的第Ⅰ部份，涉及了临床试验的内涵、研究中的偏性、困难与临床试验设计的进展．第Ⅱ部份主要涉及分析中的一些重要问题，其中包括：５，生存质量的测定；６，病人的依从性； ７， Ｍｅｔａ分析．