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11.
Multipartite entanglement in the interaction system between a single-mode microwave cavity field and superconducting charge qubits 下载免费PDF全文
This paper proposes a method of generating multipartite entanglement through using
d.c. superconducting quantum interference devices (SQUID) inside a standing
wave cavity. In this scheme, the d.c. SQUID works in the charge region. It
is shown that, a large number of important multipartite entangled states can
be generated by a controllable interaction between a cavity field and
qubits. It is even possible to produce entangled states involving different
cavity modes based on the measurement of charge qubits states. After such
superpositions states are created, the interaction can be switched off by
the classical magnetic field through the SQUID, and there is no information
transfer between the cavity field and the charge qubits. 相似文献
12.
太赫兹量子级联激光器(THz QCL)是一种基于超晶格或耦合多量子阱中电子共振隧穿和子带间跃迁的单极光源,其辐射频率可通过能带和波函数设计进行调控,具有响应速度高、体积小、便于集成等优点。近年来,国际上多个科研团队展开了对THz QCL的密集研究,器件性能取得了显著的进展。针对THz QCL的实际应用,目前急切需要解决两个方面的问题:第一方面,受限于严重的大气衰减、光束合成等困难,急需解决THz QCL功率输出提升的问题。第二方面,研制窄线宽、高功率单模输出的太赫兹本振源。 相似文献
13.
对于2阶Duffing系统与3阶单模激光Lorenz系统,用主动控制方法设计了一种同步控制器,实现二者之间的缩阶反同步。依据罗斯 霍维兹判据,给出误差系统在原点处渐进稳定的条件。数值试验证实:在控制器作用下,2阶Duffing系统的状态变量与3阶单模激光Lorenz投影子系统的状态变量振动的幅值相同但方向相反,且在随机噪声干扰下反同步仍能很好地实现。这表明所设计的控制器对于不同阶的Duffing系统与Lorenz系统的缩阶反同步的实现是可行的、有效的,而且具有很好的鲁棒性。 相似文献
14.
为了分析反射面形状对单模光纤照射的光纤位移传感器光强调制特性的影响,建立了反射面不为平面时的光强调制特性函数模型.该模型基于单模光纤出射光场为修正近似高斯分布假设,通过引入反射面形状因子,分析了反射面形状因子对光强调制特性的影响规律.仿真结果表明,随着凹形反射面曲率半径值的增大,传感器特性曲线的前坡无显著变化,而后坡灵敏度增大,线性范围减小;随着凸形反射面曲率半径值的增大,传感器特性曲线的前坡仍无显著变化,而后坡灵敏度减小,线性范围增大;当曲率半径增大的一定值时,反射面的非平面性影响较小,其作用趋近于平面. 相似文献
15.
考虑单个二能级原子穿过2个空间分离的单模腔场,研究原子质心运动的动能、腔长与腔间距对原子透射率的影响。结果表明:当原子的动能比较大时,原子有足够的能量穿透腔场对其的阻挡,此时只有腔长的变化对原子的透射有微小的影响而腔间距的作用则可以忽略;当原子的动能较小时,原子本身的能量小于腔场势垒的能量,此时腔长与腔间距对原子透射率的影响极为明显。 相似文献
16.
本文将无源的不规则波导看作有源的理想波导,求等效极化电流电场,直接得到单一光波导模间耦合和辐射损耗问题的解。用这个方法计算了阶跃单模光纤折射率轴向不均匀变化的损耗。这种方法完全脱离了耦合波的概念,它不但物理意义明确,而且求解问题的方法简洁。最后以单模光纤弯曲和微弯损耗为例,说明等效电流方法还适用于广义耦合波理论才能求解的问题。 相似文献
17.
18.
19.
本文报道一种用单模光纤制作亚微米周期光栅的全息方法,并详细分析和讨论了影响光栅质量的各种因素。实践证明这一方法完全适于制作面积不小于10×10mm~2适于集成光学元件需要的高质量光栅。 相似文献
20.