多光束激光干涉光刻图样

利用电磁理论,研究了多光束激光干涉图样的产生原理,结合计算机数值模拟和相关实验结果,分析了干涉图样的影响因素.研究结果表明:多光束激光干涉图样可以看成是多组余弦分布的平行线条纹的叠加;相干光束的偏振方向、入射方向、光束间相位差是干涉图样的重要影响因素,改变这些因素,余弦分布的平行线条纹的振幅、位置、周期和方向发生变化,...     

Transport in graphene nanostructures

Graphene nanostructures are promising candidates for future nanoelectronics and solid-state quantum information technology. In this review we provide an overview of a number of electron transport experiments on etched graphene nanostructures. We briefly revisit the electronic properties and the transport characteristics of bulk, i.e., two-dimensional graphene. The fabrication techniques for making graphene nanostructures such as nanoribbons, single electron transistors and quantum dots, mainly based on a dry etching ??paper-cutting?? technique are discussed in detail. The limitations of the current fabrication technology are discussed when we outline the quantum transport properties of the nanostructured devices. In particular we focus here on transport through graphene nanoribbons and constrictions, single electron transistors as well as on graphene quantum dots including double quantum dots. These quasi-one-dimensional (nanoribbons) and quasi-zero-dimensional (quantum dots) graphene nanostructures show a clear route of how to overcome the gapless nature of graphene allowing the confinement of individual carriers and their control by lateral graphene gates and charge detectors. In particular, we emphasize that graphene quantum dots and double quantum dots are very promising systems for spin-based solid state quantum computation, since they are believed to have exceptionally long spin coherence times due to weak spin-orbit coupling and weak hyperfine interaction in graphene.     

浅谈Greber对PCB设计制作之应用

尽管Gerber资料格式问世几十年了，但在其使用上问题却时有发生，这种用以描述PCB（印制线路板）结构的电子方式，往往因为人们对资料的属性和最终用户的确切要求理解不全而“卡壳”，本人结合自己在CAM方面的一些初浅认识和经验，对Gerber在用途方面容易遇到的一些问题进行探讨。     

废旧测力计起死回生二则

测力计是中学物理实验教学中的常用仪器和基本仪器.由于在制造工艺和使用方法上存在这样那样的问题,因此测力计在使用过程中的失准率和损坏率都很高.     

张志三的生平和科学贡献(1920-2003年)

张志三先生是光谱学家，早期致力于原子发射光谱应用的研究，建立了较完善的分子光谱实验室，为我国光谱学的发展做出了贡献，他热心进行激光光谱的应用研究，促进了我国激光物理、原子、分子物理的发展，张志三先生因病于2003年9月20日在北京逝世，为表达我们的哀思和怀念，特转载张道中研究员撰写的《张志三先生的生平和科学贡献(1920—2003年)》一文。     

DEA评价与排序的新方法

文章简要回顾了 DEA(Data Envelopment Analysis)方法在先进制造技术 AMT(AdvancedManufacturing Technology)评价以及在其它领域中的研究、应用现状 ;分析了 DEA方法及其改进形式在决策单元有效性评价与排序中存在的问题 ,提出了解决这些问题的新方法     

用现代方法制造光学元件

次波长光学元件 ( SOEs)通常是用某种平版印刷术制造的 (虽然有时采用光刻法 ) ,这类光学元件含有一维或二维形式的阵列结构 ,这些阵列改变折射或反射光而不产生零以外的衍射级。这种次波长的光学元件具有 2 0 0 nm级的周期率 ,偏振能达到 97%的透射率或反射率 ,并具有大于40 d B的透射衰减和大于 2 0 d B反射衰减。这种元件的标准尺寸虽然只有 1 .4× 1 .4mm,但还能制成约 1 0mm大小尺寸。目前它主要用在光纤通信领域。这种次波长光学元件是将一种模型压入衬底上的一层光致抗蚀剂中而制成的。采用反应离子蚀刻工艺在衬底上或淀积在衬底上…     

空间光学系统先进制造技术进展——从非球面到自由曲面

以中国科学院长春光学精密机械与物理研究所的相关研究成果为代表,系统总结了我国近十几年来在光学反射镜材料,非球面光学系统设计、加工与检测,空间相机集成与测试等方面取得的最新进展,结合典型在轨应用实例,展现技术进步带来的优势,同时也展望了光学系统先进制造技术的发展趋势。     

喷墨印刷有机电致发光显示材料与器件进展

随着有机电致发光显示（OLED）技术的不断发展,OLED在智能手机、智能手表和电视等市场应用不断扩大。尤其是在小尺寸智能手机市场,OLED已成为主流的显示技术,并有望逐步替代LCD技术。但在中大尺寸显示产品如平板电脑、笔记本、显示器、电视等应用领域,受限于目前真空蒸镀工艺的高成本及可靠性问题,发展较为缓慢,但市场对其需求依然很高。相比于真空蒸镀技术,通过喷墨印刷技术制备显示器件,可极大地提高材料利用率,降低设备成本,且由于其是一种增材制造方式,可减少资源消耗和环境污染,更有利于实现大面积、轻、薄、柔的显示屏制造。本文介绍了用于喷墨印刷OLED的各功能层材料研究进展,并对印刷OLED器件结构、制备工艺及器件性能进行了讨论,最后对印刷OLED的发展前景进行了展望。     

3．5MeV注入器绝缘支撑设计

介绍了在注入器设计中目前常见的三种绝缘支撑，即电阻分压形式的绝缘支撑、整体式绝缘支撑和分块式绝缘支撑。详细介绍了三种绝缘支撑的制造工艺及各自的优缺点。指出了在设计中首先考虑了三相点的处理。