分子图形微机处理程序

一、前言分子图形学是计算机在化学上应用的一个重要的分支。国外采用高速图形工作站及相应开发的软件,在分子图形学方面已达到很高的     

烟叶样品在进行近红外分析测试前的样品处理方法

本发明涉及烟叶样品在进行近红外分析测试前的样品处理方法，属烟草样品的近红外光谱分析测试技术领域。本发明的烟叶样品在进行近红外分析测试前的样品处理方法包括干燥粉碎及压样三步骤，其中：a．粉碎步骤为：将干燥的样品取出并静止10S后放入家用食物搅拌器中进行粉碎处理，粉碎时间为20-30S，粉碎粒度达375μm以下；b．压样步骤为：将质量为300g的重锤自然平稳置入装有粉碎后样品的样品杯中，取出重锤，随后将样品杯放入仪器样品池内进行测量10min就能完成一个烟叶样品的测试工作。本发明具有操作简单、节省时间、成本低、效率高等优点。     

一种可以观测化学反应过程中物质形态的分析测试装置以及方法

本发明公开了一种可以观测化学反应过程中物质形态的分析测试装置以及方法，包括充满电解质溶液的液池、光学棱镜、镀金属载波片、激光发生器、信号接收器及计算机处理系统；液池底面设置载波片，其上表面设有金属薄膜，待测样品设置在金属薄膜上；光学棱镜固定设置在液池底部下表面处；激光发生器和信号接收器分别设置在光学棱镜两侧，液池内还设有电极和扫描器以及串连设置在扫描器和电极之间的电流表和电压表，扫描器的下端部固定连接有探针；计算机处理系统与信号接收器、电流表、电压表电气连接，本发明不仅能够在线监测物质的形貌特征，而且可以测试物质的厚度，具有结构简单，使用方便、检测灵敏度高等优点。     

《毛细管电色谱理论基础》

毛细管电色谱作为一种新型微分离分析技术，其分离过程具有多种机理协同作用的特征。对于毛细管电色谱的理论研究不仅要考虑系统的电属性，还要兼顾溶质的两相分配特征。该书系统地阐述了毛细管电色谱的基本理论，讨论了分离过程中影响峰展宽的因素及其规律。基于作者发展的弛豫理论和唯象的输运过程处理方法，阐述了毛细管电色谱中的动力学和热力学问题，分别就不同的分离模式的选择性规律和柱内富集理论与技术、梯度洗脱的溶质输运特征加以说明。     

水中硝酸盐氮稳定同位素比值测定前处理方法的优化

水体中过量的硝酸盐导致会严重的水生生态恶化和环境污染问题。氮稳定同位素技术为水体污染来源的判断及水生系统氮素转化机理研究提供了强有力的工具。在前人基础上,通过开发Cu2+-Cd复合催化结合超声波辅助加速反应,优化硝酸盐氮同位素比值测定前处理方法。考察了Cu2+添加量,超声功率以及反应时间变化对NO3--N转化生成N2O气体及其氮同位素比值的影响,在单因素实验基础上采用正交实验优化得到了最佳反应条件,并采用不同15N同位素比值的KNO3标准溶液结合气体预浓缩装置与稳定同位素质谱仪联用系统对新方法进行了验证。新方法单次反应体系中氮最低量为1.0 μg,其中自然丰度和高丰度样品δ15N分析精度小于1‰,富集样品的15N分析精度可达0.1 atom%以内(CV<1%);且所有标准样品的15N测定值与参考值基本一致。将优化后的方法应用于不同来源水样中硝酸盐氮稳定同位素比值测定,均可获得较好的精度,较原方法提高了前处理效率,且精度更优。综上,建立的方法准确可靠,操作简单,耗时短,适用于水中硝酸盐氮稳定同位素比值测定的批量、快速前处理。     

链格孢霉毒素样品处理及分析方法研究进展

综述链格孢霉毒素样品处理及分析方法。样品处理方法主要有液液萃取法、固相萃取法、逆流色谱法和基于QuEChERS原则的处理方法等。在固相萃取技术的基础上,又发展了分散固相萃取法和分子印迹固相萃取法。主要分析方法包括液相色谱–质谱联用法、加压毛细管电色谱法和表面增强拉曼光谱法等仪器检测技术以及酶联免疫法、化学发光免疫分析法、生物传感器技术、快速检测试纸和试剂盒等快速检测技术。最后对链格孢霉毒素样品处理及分析方法的发展趋势进行了展望。     

Ag/Zn共掺杂TiO2薄膜的制备及其光学性能

采用溶胶-凝胶旋涂法制备本征TiO2、Ag单掺Ag-TiO2及Ag/Zn共掺Ag/Zn-TiO2的薄膜样品.测试结果表明:所有TiO2薄膜样品的主要晶面是(101)且没有其他杂质晶面.Ag的掺杂使得样品的晶粒尺寸减小,样品的吸收边出现红移,带隙能减小,最小值为3.476 eV.与本征TiO2和Ag-TiO2相比,随着Z...     

旋转导向钻井工具姿态测量陀螺仪故障估计与处理方法

针对旋转导向钻井工具姿态测量系统陀螺仪故障问题,提出一种陀螺仪加性故障估计与处理方法.首先将陀螺仪故障增广为状态变量,融合加速度计测量信息建立非线性测量模型;然后针对由于模型线性化、陀螺仪漂移、钻井过程的高温、高压、强振动等因素导致卡尔曼滤波算法估计精度变差的问题,将测量误差等效为幅值有界但分布未知的误差,提出了一种自...     

6H-SiC衬底片的表面处理

相比于蓝宝石,6H-SiC是制作GaN高功率器件更有前途的衬底.本文研究了表面处理如研磨、化学机械抛光对6H-SiC衬底表面特性的影响.用显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱、卢瑟福背散射谱表征了衬底表面.结果表明经过两步化学机械抛光后提高了表面质量.经第二步化学机械抛光后的衬底具有优异的表面形貌、高透射率和极小的损伤层,其表面粗糙度RMS是0.12nm.在该衬底上用MOCVD方法长出了高质量的GaN外延膜.     

BiHom-Lie共形代数的上同调与形变

本文首先引入BiHom-Lie共形代数的概念并研究它的上同调理论.随后,讨论正则BiHom-Lie共形代数的形变理论并给出一些具体应用.最后,引入BiHom-Lie共形代数的导子并研究它的性质.