非晶合金Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9的激波晶化及其特征

 研究了非晶合金Fe_73.5Cu₁Nb₃Si_13.5B₉（FINEMET）的激波晶化。与退火晶化比较,激波晶化具有一系列鲜明特征,这些特征是固态下扩散性相变理论难以解释的,有深刻的物理内涵。     

Sr2准分子吸收离化及混合跃迁的研究

Ｎｄ－ＹＡＧ激光器三倍频泵浦的染料激光激发Ｓｒｌ原子,热二极管探共振离化信号,获得Ｓｒｌ高Ｒｙｄｂｅｒｇ５ｓｎｄＤ２系列双光子激光共振电离谱。实验发现激光汉长调４４０ｎｍ附近时,存在一Ｓｒ２准分子吸收光谱带,同时还观测到了５ｓ５ｐ＾１Ｐ１－５ｓ１１ｄ＾１Ｄ２,５ｓ５ｐ＾１Ｐ１－４ｄ＾２３Ｐ１混合共振跃迁现象。并对这种瞬态准分子的连续吸收光电离背景的形成和混合共振跃迁的机制作了初步探讨,同时对缓冲气     

三胶子张量算符反常量纲的计算

计算了两个与量子数为J^PC=1^－+的胶球流算符密切相关的三胶子张量算符Ωαβ1=Gαa,μ Gμb,ν Gνβc f_abc和Ωαβ2=gαβ Gσa,μ Gμb,ν Gνc,σ f_abc的重整化矩阵和反常量纲矩阵.     

超光滑表面及其制造技术的发展

超光滑表面制造技术是超精密加工技术的一个重要分支。通过介绍超光滑表面的特征、应用及其制造技术的发展,希望给出超光滑表面技术的整体轮廓。在介绍超光滑表面的概念及其主要特征的基础上,通过典型例证指出了超光滑表面的软X射线光学、激光陀螺等科技领域的重要应用。回顾了超光滑表面制造技术的发展过程,对各种超光滑表面加工原理与方法进行了简单描述与评价。最后提出了对超光滑表面制造技术的发趋势的观点。     

场冷和零场冷过程中磁化强度的模型化与数值模拟

通过采用蒙特卡罗模拟方法和磁通运动的热激活模型（ＴＡＦＭ） ,本文计算了在场冷（ＦＣ）和零场冷（ＺＦＣ） 过程中的磁场位形及磁化强度．基于简单的ＫｉｍＡｎｄｅｒｓｏｎ 模型的Ｕ（ｊ） 依赖关系,主要的实验结果都可以较好的被模拟．计算表明,在零场冷中,磁场位形非常接近Ｂｅａｎ 临界态模型,而在场冷中则相反,表现的是磁通冻结的图象．零场冷和场冷中的磁化强度都很强的依赖于钉扎势和临界电流密度,而只微弱的依赖于温度变化的速度     

多组分金属催化剂表面漫反射紫外可见光谱研究

研究了二氧化碳加氢甲烷化二组分、三组分担载型金属催化剂表面漫反射紫外可见光谱（ＤＲＵＶＳ）。根据ＤＲＵＶＳ提供的信息,揭示了催化剂组分间相互作用结果对催化活性的影响;不同助剂量催化剂ＤＲＵＶＳ特征强度与催化活性间定量关系也得到合理确定 。     

酸碱染料离子的缔合及等色化

本文阐述了等色染料离子对形成的实验方法,等色染料离子对的缔全机理及其形式,用吸收光谱的能级图,从电子理论角度论述了等色染料离子对的缔合效应等色化,溶剂效应等以化机理。列表示出等色染料离子对的高灵敏度,从而证明了等色染料离子对的萃取光度,浮选光度及萃取荧光光度法是高灵敏度和超灵敏度的新体系,为金属痕量和超痕量分析开辟了更为宽广的前景。     

非晶、纳米晶材料的历史与现状

 一、非晶金属的发现人类使用了八千多年的金属(从青铜开始)且一直都是多晶态金属,1934年,克拉默在真空中把金属蒸发到冷基底(玻璃)上,经X射线测定,发现这种金属膜中原子的周期性消失了,这是人们第一次发现非晶金属.此后不久,布伦纳(1937)用电解沉积法得到了Ni-P非晶合金.     

多层结构的阴极修饰层对有机电致发光器件的性能改善

为提高有机电致发光器件（OLEDs）的阴极电子注入效率,我们设计了新型的阴极杂化修饰层,其结构为Bphen∶LiF/Al/MoO₃,将其应用到器件ITO/NPB/Alq₃/Al中,参考器件的电子注入层选用传统材料LiF。实验研究表明,与传统的阴极修饰层LiF相比,基于这种杂化结构的阴极修饰层非常有效。测试了器件的电致发光光谱（EL谱）,其峰值位于534 nm,发光来自于Alq₃,实验中我们可以观察到明亮的绿色发光。将其与传统参考器件的EL谱进行对比,在电流密度40 mA·cm-2下,两个器件的电致发光光谱是一致的。在0～100 mA·cm-2范围内,对器件的EL谱进行了测试。实验结果表明,随着电流密度的增加,器件的发光增强,但是EL谱的形状和谱峰的位置是固定不变的。与参考器件对比,基于杂化修饰层的器件的发光性能更好。研究表明,杂化修饰层的最佳参数为Bphen∶LiF(5 nm; 6%)/Al(1 nm)/MoO₃(5 nm),在测试范围内,器件的最大电流效率和最大功率效率分别为4.28 cd·A-1和2.19 lm·W-1,相比参考器件提高了25.5%和23.7%。器件的电流密度-电压特性曲线表明阴极杂化修饰层可以增强电子的注入,使器件中的载流子更加平衡,从而提高了器件的发光性能。从两个角度对器件效率的增强进行了理论方面的论证。一方面利用阴极杂化修饰层的作用机制来解释。在HML中,LiF能填充Bphen的电子陷阱,增强电流的注入,同时HML也能限制空穴的传输,减小空穴电流。另一方面从电荷平衡因子的角度,HML增强了电子的注入,使得器件的电荷平衡因子增大,空穴和电子的平衡性更好。实验研究表明,阴极杂化修饰层很好地增强了器件的效率。     

用于高功率系统的掺镱石英光纤研究进展及发展趋势

掺镱石英光纤是掺镱光纤激光器及放大器的重要基础元件.掺镱光纤性能提升是促进掺镱光纤激光器系统功率进一步攀升的关键.本文回顾了高功率掺镱光纤激光器系统功率攀升情况及功率限制性问题,简述了针对激光功率攀升的瓶颈问题所提出的改善性方案.重点阐述了掺镱光纤制备技术、光纤材料、结构性设计在改善功率限制性方面所取得的研究进展,并对未来掺镱石英光纤的研究及发展趋势进行了展望.