基于视觉辐条图案识别方法的蓝宝石引晶机制研究

工业生产蓝宝石晶体过程中,引晶步骤有着至关重要的地位。引晶必须在温度梯度较小,温度分布趋于稳定的条件下进行。目前,工业生产蓝宝石主要依靠人工经验操控籽晶杆实现引晶操作,但是人工引晶操作的准确性不高会导致成品品质不佳、资源浪费。为此,本文提出一种基于蓝宝石视觉辐条图案识别方法来检测蓝宝石熔体状态自由液面状态,从而实现一种高效率引晶的机制。此方法利用经典骨架化算法细化辐条图案,Harris算子实现特征信息的提取,提取的特征信息放入运动轨迹模型中判断熔体稳定性,分析液面温度分布稳定性从而实现引晶。结果表明,此算法具有有效性,蓝宝石晶体引晶效率大大提高,生产出的成品良率也有提升,可有效指导蓝宝石的工业生产。     

偏最小二乘法结合傅里叶变换红外漫反射光谱快速测定煤质

发热量、挥发分和灰分等是衡量煤质的质量指标。通常,烟煤的发热量、挥发分和灰分是按行业标准方法[1]分别进行测定的,操作过程繁琐,速度慢,且费用高。随着化学计量学多元校正方法的发展与广泛应用,董庆年采用最小二乘法结合红外光谱成功测定了灰分[2];而应用偏最小二乘法[3](P     

热声波数值模拟的虚假振荡研究

采用可压缩流动的SIMPLE算法对一维封闭空腔内由边界突然加热所引起的非稳态热声波进行了数值模拟,对流-扩散项采用了中心差分、一阶迎风差分、QUICK、及MIJSCL等不同格式。计算表明各种格式均存在不同程度的虚假振荡现象,其大小与热声波的强度及离散格式的形式等多种因素有关。这些结果对热声波的进一步研究及高效可靠的对流差分格式的开发具有重要意义。     

粒子群算法优化中药化学成分的毛细管电泳分离条件

建立了一种基于粒子群优化算法的毛细管电泳条件辅助优化方法。以丹参为研究对象,将改良的色谱指数方程用于评价酚酸类成分的电泳分离性能,用粒子群优化算法对分离条件进行全局寻优,获得最佳的区带电泳分离条件(5.0 mmol/L硼砂,18.5 mmol/L磷酸二氢钠,6.1%乙腈,运行电压18.2 kV)。为进一步改善分离,在所获优化条件下添加50.0 mmol/L SDS,在胶束电动毛细管色谱分离模式下使酚酸类成分(原儿茶醛、丹参素、丹酚酸B等)得到更好分离。本方法准确可靠,可推广应用于其他复杂化学体系的毛细管电泳分离条件优化。     

对经典隐马尔可夫模型学习算法的改进

改进经典隐马尔可夫模型(HMM)的状态转移和输出观测值的假设条件,并在经典隐马尔可夫模型的基础上导出新模型的学习算法.新算法避免了经典隐马尔可夫模型中状态转移概率和输出观测值概率计算时只考虑当前状态而不考虑历史的简单做法.     

SIMCA分类法与PLS算法结合近红外光谱应用于卷烟纸的质量控制

应用SIMCA分类法与PLS算法结合卷烟纸的傅里叶变换近红外光谱(FT-NIR)建立了卷烟纸的分类模型,用于卷烟纸的判别分类,效果良好;同时,建立了测定卷烟纸定量、厚度、透气度、水分和灰分等性质的校正模型,其相应的相关系数分别为0.976 8,0.966 4,0.947 0,0.956 3和0.975 9;全交互校验均方残差分别为0.561 4,0.096 0,1.274 1,0.096 7和0.260 3。校正模型应用于样品实测,结果准确,令人满意。     

体全息存储系统读出图像的放大率的补偿算法研究

在1∶1体全息存储系统的读出过程中,保证图像的不失真和降低误码率是最关键的问题。提出了一种新颖的放大率补偿算法,定量分析了放大率偏移误差对图像的影响,并通过理论推导和实验模拟证明了这一算法的可行性。     

基于DIGNET网络的数据融合方法

针对数据融合和目标识别的特点,提出了基于DIGNET自组织聚类人工神经网络的数据融合方法。考虑到多传感器系统测量多个参量的特点,用并行的子网络结构代替中间隐层,实现了基于决策层的信息融合目标识别。利用仿真数据对基于DIGNET的数据融合方法进行了实验研究。实验结果表明,该方法具有数据正确分类率高和抗噪能力强等优点,有效地实现了融合识别。将该方法应用于前视红外和可见光双传感器目标跟踪系统的数据融合识别是可行的。     

10 Gb/s光纤通信系统一阶偏振模色散动态补偿系统反馈控制的实现

在偏振模色散(PMD)自动补偿技术中,如何根据反馈信号得到相应的控制信号,使补偿速度跟随偏振模色散变化始终是该技术的一个核心问题。提出了一种新颖的自适应抖动跟踪算法,完成了以微波信号为反馈的多自由度的一阶偏振模色散自动反馈补偿系统的跟踪补偿实验。算法成功地解决了传统算法在跟踪搜索过程中易陷入局部极值的问题,有效地克服了系统中的重要控制器件偏振控制器的磁滞现象以及动态补偿时跟踪搜索过程中易出现的瞬间恶化现象。实验结果表明该算法在对出现突发偏振模色散扰动后自动进行补偿的响应速度在ms量级,最快能达到1~2 ms。     

厚胶光刻非线性畸变的校正

利用厚胶光刻技术制作大深度微结构元件是一种有效的途径,但厚胶光刻过程中的非线性畸变对光刻面形质量的严重影响限制了该技术的应用,基于此,提出了一种对掩模透射率函数进行校正的方法。分析空间像形成及其在光刻胶内传递、曝光、显影等过程中非线性因素的影响,利用模拟退火算法对掩模透射率函数进行校正,以提高光刻面形质量,并以凹面柱透镜为例,给出了校正前后的显影轮廓模拟结果,其校正后浮雕面形的体积偏差仅为2.63%。该方法在有效改善面形质量的同时,并没有引起掩模的设计、制作难度及费用增加,这对于设计、制作高质量的微结构元件有重要意义。