制冷机高精度活塞气缸制造工艺与统计分析

本文介绍了制冷机中铝合金活塞气缸的加工工艺,通过运用ANSYS分析软件进行人工时效及温度冲击对零件变形影响的分析,优化了工艺设计,并用Minitab16软件对优化后的工艺流程的工艺能力进行监控和分析,验证优化后工艺设计的正确性及小批量生产的适用性。     

Bi系超导体制备工艺与其物性之间关系的研究

本叙述了Ｂｉ系高温超导体的制备工艺对其超导性能的影响，以及对样品进行电击穿实验等。结果表明，高温烧结，液氮淬火，低温退火，缓慢降温有利于生成高温超导体相；超导样品是由一些颗粒连接而成，样品Ｔｃｄ越高其击穿电压越低，而其伏安特性曲告诉我们在超导样品中有一类似半导体结存在。     

Tb^3＋：YAG单晶荧光层中掺杂Ga^3＋的荧光敏化作用

采用液相外延工艺成功制备了Tb^3 ：YAGG单晶荧光层，研究了Tb^3 激活YAG主晶格外延层中Ga^3 掺杂的荧光敏化效应，可以看到在Tb^3 荧光得到显著增强的同时，外延荧光层发光的饱和特性也有所改善。实验中观察到了Ga^3 掺杂后基质晶体吸收边缘向长波方向展宽，并与Tb^3 的^7Fe6-^9E、^7E典型吸收峰发生交叠的现象，用基质与Tb^3 之间的声子耦合解释了上述Tb^3 ：YAGG外延层中所存在的能量传递、荧光敏化现象。基质与掺杂激活中心间能量传递机制的建立将会为基于YAG主晶格的高效荧光材料研究提供一个新的思路。     

一步法紫外曝光制备TiO2光敏凝胶光栅的初步研究

 以钛酸丁酯和苯甲酰丙酮为原料，经sol-gel工艺，获得具有负性光刻胶性质的TiO₂光敏凝胶薄膜。它的敏感波长在360nm附近，与反应生成的螯合环有关。结合掩模曝光和显影工艺，将条状或网格状的光栅图形引入光敏凝胶表面，获得光敏凝胶光栅。     

ITER 718�Ͻ���˨����ԭ����������ոĽ�

通过化学成分检测、金相组织分析、氢含量的测定、断口的宏微观观察、大直径高强螺栓的原型件拉伸试验以及有限元分析等手段从材料、结构、制造工艺三个方面上探究了ITER磁体支撑718螺栓低强度断裂的原因。材料分析结果表明,国产718螺栓材料的性能满足要求。工艺分析结果表明,螺栓低强度断裂的主要原因为滚压螺纹后的热处理导致螺纹根部脆性。结构分析结果表明,由于应力集中的影响,718螺栓的强度低于原材料强度,而且随着螺栓直径的增大而降低。基于以上分析结论,提出了能显著提高718螺栓强度的新工艺。通过原型件的拉伸试验,新工艺螺栓可以有效地提高螺栓的强度160MPa,达到1230MPa。     

退火工艺对制备二硼化镁超导薄膜的影响

采用了化学气相沉积法(CVD),在低真空环境下制备出Mg B_2超导薄膜,并探索了退火温度、退火时间、降温速率对Mg B_2薄膜性能的影响。采用X射线衍射仪、扫描电镜和低温电导率测试系统对样品的晶体结构、表面形貌和超导电性进行了系统分析。研究表明:退火温度在780℃,退火时间为120min,退火后的降温速率控制在16℃/min左右,制备出的Mg B_2薄膜超导转变温度T_(c(onset))为39.5K,超导转变宽度ΔT_c为2K,表现出最优的超导性能,同时薄膜的成品率显著提高。证明了通过优化后,退火工艺可以显著提高Mg B_2的超导性能。     

有机/无机薄膜凝胶动态过程的实时光学二次谐波产生研究

采用实时光学二次谐波产生(SHG)测量方法,以两亲性分子半花菁为掺杂探针分子,对溶胶-凝胶技术制备的玻璃薄膜的凝胶干燥的动态过程进行了研究.结合紫外—可见吸收光谱的测量,发现：因两亲性分子在膜中的自取向性可诱导出二阶光学非线性,溶胶-凝胶技术制备的有机/无机复合膜的凝胶干燥过程可通过薄膜SHG强度的变化半定量地反映.凝胶干燥收缩导致有序掺杂分子数减少,膜片的光学非线性减弱.该过程随薄膜处理温度的升高而急剧缩短;另外,有机分子在膜中的聚集程度随膜片处理温度的增加而很快减少. 关键词：     

ECR-PECVD制备Si3N4薄膜沉积工艺的研究

由偏心静电单探针诊断了电子回旋共振等离子体增强化学汽相沉积(ECR-PECVD)反应室内等离子体密度的空间分布规律．结果表明在轴向位置Z=50cm处,直径Φ12cm范围内等离子体密度分布非常均匀．分析了等离子体密度径向均匀性对沉积速率均匀性和薄膜厚度均匀性的影响．讨论了沉积制备一定薄膜厚度的Si₃N₄薄膜的工艺重复性．研究了各种沉积工艺参数与Si₃N₄薄膜沉积速率的相互关系．得到了ECR-PECVD技术在沉积薄膜时的工 关键词：     

等离子体技术在工程上的应用

 等离子体(plasma)这个词于1929年由朗缪尔(Langmuir)引自生物学,用来描述带电粒子的集体行为.作为一门独立的学科是从50年代开始的.     

Formation of epitaxial Tl_2Ba_2Ca_2Cu_3O_(10) superconducting films by dc-magnetron sputtering and triple post-annealing method

For obtaining pure phase T12Ba2Ca2Cu3O10 （T1-2223） films with good superconducting properties, the growth technique is improved by dc magnetron sputtering and a triple post-annealing process. The triple post-annealing process comprises annealing twice in argon and once in oxygen at different temperatures. In the first low-temperature annealing phase in argon, T12Ba2CaCu2O8 （T1-2212） is obtained to effectively minimize evaporation in the next step. With the increase of temperature in the second annealing stage in argon, the previously prepared T1-2212 inter-phase is converted into T1-2223 phase. An additional annealing in oxygen is also adopted to improve the properties of T1-2223 films, each containing an optimal oxygen content value. The results of X-ray diffraction （XRD） θ-2θ scans, 09 scans and rotational φ scans show that each of the T1-2223 films has a high phase purity and an epitaxial structure. Smooth films are observed by scanning electron microscopy （SEM）. The critical temperatures Tc of the films are measured to be about 120 K and the critical current densities Jc can reach 4.0 MA/cm2 at 77 K at self field.