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101.
We present a study of the growth kinetics of pentacene monolayer islands on SiO2 in the submonolayer regime by using Atomic Force Microscopy (AFM). Two distinct growth modes, namely correlated growth (CG) and non-correlated growth (NCG), have been identified by Voronoi tesselation. These two modes are characterized by different island growth kinetics. In the case of correlated growth, the average island size 〈A〉 scales with deposition time t i.e. 〈A〉 ∝ t whereas for non-correlated growth, 〈A〉 ∝ t2. The CG and NCG regimes are defined by the level of re-evaporation which determines the capture zones around the islands: Wigner-Seitz cells for CG and coronas of width λD (λD is the mean diffusion distance on SiO2 before re-evaporation) for NCG. A simple model is proposed to reproduce the experimental growth kinetics in both modes. 相似文献
102.
利用多靶磁控溅射技术制备了Au/SiO2纳米颗粒分散氧化物多层复合薄膜.研究了在保持Au单层颗粒膜沉积时间一定时薄膜厚度一定、变化SiO2的沉积时间及SiO2的沉积时间一定而改变薄膜厚度时,多层薄膜在薄膜厚度方向的微观结构对吸收光谱的影响.研究结果表明:具有纳米层状结构的Au/SiO2多层薄膜在560 nm波长附近有明显的表面等离子共振吸收峰,吸收峰的强度随Au颗粒的浓度增加而增强,在Au颗粒浓度相同的情况下,复合薄膜
关键词:
2纳米复合薄膜')" href="#">Au/SiO2纳米复合薄膜
多靶磁控溅射
吸收光谱
有效介质理论 相似文献
103.
基于超分子结构共掺杂纳米复合薄膜的制备与荧光特性 总被引:5,自引:0,他引:5
为改善功能分了的特性,提出一种基于金属纳米粒子-偶氮染料复合物共掺杂超分子结构功能材料的设计新方法.并依照此方法制备出复合材料,观测了其显微结构,测量了其紫外-可见光吸收,研究了该超分子结构复合体系的荧光特性.实验发现,由于金属银纳米粒子的掺杂,使得超分子结构复合体系中功能分子甲基橙在溶液态体系的荧光强度增强近5倍,而在两种不同结构(共混结构和包覆结构)的薄膜态超分子结构体系中,其荧光强度分别被猝灭15%和20%.研究结果表明,复合膜中采用超分子结构完全能够改善功能分子的特性. 相似文献
104.
计算机模拟仿真射频磁控溅射实验制备薄膜及离于电池电极,研究了在特定实验条件下薄膜的生长过程,并分析了影响薄膜生长的部分因素。 相似文献
105.
研究了一种新型的覆膜钡钨阴极——双层膜(Os-W/Re膜)钡钨阴极.对这种新型阴极的发射性能进行了测试,重点对其老炼前后表面薄膜的微观形貌进行了分析,表明中间层Re膜的加入使覆膜钡钨阴极的性能得到了改善.通过对Os-W双元合金膜钡钨阴极和Os-W/Re双层膜钡钨阴极发射特性的比较,发现Os-W/Re双层膜阴极的直流发射性能好于Os-W合金膜阴极.对两种阴极激活后发射表面的X射线光电子能谱分析表明,Os-W/Re双层膜阴极激活后表面形成的三元合金膜是其发射特性优于Os-W合金膜阴极的主要原因.应用扫描电子显微镜分析比较两种阴极激活老炼后的表面状态,结果表明:Os-W合金膜阴极在老炼一段时间后,其表面薄膜出现开裂,这会导致阴极发射均匀性下降;而Os-W/Re双层膜阴极在同样老炼条件下,发射表面薄膜均匀并保持完整,从而确保覆膜钡钨阴极发射均匀性和工作可靠性.
关键词:
双层膜钡钨阴极
Os-W/Re膜
Os-W膜
薄膜开裂 相似文献
106.
107.
采用反应射频磁控溅射方法,在Si (100) 基片上制备了具有高c轴择优取向的ZnO薄膜.利用 原子力显微镜、透射电子显微镜、X射线衍射分析、拉曼光谱等表征技术,研究了沉积温度 对ZnO薄膜的表面形貌、晶粒尺度、应力状态等结晶性能的影响;通过沉积温度对透射光谱 和光致荧光光谱的影响,探讨了ZnO薄膜的结晶特性与光学性能之间的关系.研究结果显示, 在室温至500℃的范围内,ZnO薄膜的晶粒尺寸随沉积温度的增加而增加,在沉积温度为500 ℃时达到最大;当沉积温度为750℃时,ZnO薄膜的晶粒尺度有所减小;在室温至750℃的范 围内,薄膜中ZnO晶粒与Si基体之间均存在着相对固定的外延关系;在沉积温度低于500℃时 ,制备的ZnO薄膜处于压应变状态,而750℃时沉积的薄膜表现为张应变状态.沉积温度的不 同导致ZnO薄膜的折射率、消光系数、光学禁带宽度以及光致荧光特性的变化,沉积温度对 紫外光致荧光特性起着决定性的作用.此外,探讨了影响薄膜近紫外光致荧光发射的可能因 素.
关键词:
ZnO薄膜
表面形貌
微观结构
光学常数 相似文献
108.
For the methylsilsesquioxane film whose optical birefringence is almost zero, it was recently reported that its vertical thermal expansion coefficient (CTE) was approximately one order of magnitude larger than the lateral CTE. Though the birefringence is not an absolute predictor of anisotropic behavior, the discrepancy in both the CTEs was so remarkable that it was essential to investigate whether the anisotropy was intrinsic property or not. If the effect of Poisson's ratio is considered in the calculation of the vertical CTE and when elastic modulus measured by surface acoustic wave spectroscopy is used in the assessment of the lateral CTE, both the CTEs are coincident with each other. Therefore, it can be concluded that the discrepancy in the CTEs can be attributed to a higher in‐plane polymer chain orientation but it can also arise from the misleadingly assumed modulus and Poisson's ratio. © 2006 Wiley Periodicals, Inc. J Polym Sci Part B: Polym Phys 44: 3109–3120, 2006 相似文献
109.
利用溶胶凝胶法在SiO2Si衬底上沉积高取向的V2O5薄膜,在压强低于2Pa,温度高于400℃的条件下,对V2O5薄膜进行真空烘烤,获得了电阻率变化3个数量级以上、弛豫宽度为62℃的VO2多晶薄膜.以X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)图和电阻率转换特性等实验结果为依据,详细分析了溶胶凝胶薄膜在真空烘烤时从V2O5向VO2的转化,它经历了从VnO2n+1(n=2,3,4,6)到VO2的过程.实验证明,根据选择合适的成膜热处理条件和真空烘烤条件是实现溶胶凝胶V2O5结构向VO2结构成功转换的关键
关键词:
溶胶-凝胶法 氧化钒薄膜 VO2膜转换特性 相似文献
110.
Takuya Hashimoto Koichi Kitazawa Masaaki Nakabayashi Tadashi Shiraishi Youichi Suemune Takakazu Yamamoto Hideomi Koinuma 《应用有机金属化学》1991,5(4):325-330
For low-temperature deposition of oxide films relating to Bi-Sr-Ca-Cu-O superconductors, photo-absorption and -decomposition properties were examined with respect to copper and alkaline-earth ß-diketonates. It was confirmed that all ß-diketonates examined were promising as source materials for photochemical vapour deposition (photo-CVD) using a low-pressure mercury lamp, in view of their large light absorption coefficients at wavelength 254 nm. The light irradiation was effective for the formation of highly crystalline oxide films at temperatures below 600 °C. By combining two sources, Ca2CuO3 and SrCuO2 films were prepared. Photo-CVD of c-axis oriented Bi2Sr2CuOx film was achieved by the irradiation of ternary sources of Bi(C6H5)3 and strontium and copper ß-diketonates at 500 °C. 相似文献