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51.
用重复卷积法求解物理宽化函数吴万国,林嘉 (福州大学中心实验室,福州350002)(中国(福建)对外贸易中心集团,福州350001)关键词X射线衍射,晶粒度,晶格畸变,重复卷积粉末试样的X射线衍射谱线一般具有一定的宽度,引起话线宽化的主要原因有仪器致... 相似文献
52.
V. A. Drebushchak 《Journal of Thermal Analysis and Calorimetry》2005,79(1):213-218
One-point (Mettler) and many-point (Netzsch) heat flow calibration of a DSC is discussed. It is shown that the two types of calibration are the alternative extremes between quick but rough procedure and time-consuming but accurate one. One-point calibration compares a typical function k(T) at the melting point of indium with the measured value for particular DSC and multiplies k(T) by a scaling factor. Many-point calibration is based on general mathematical procedure, namely fitting a set of experimental values of sensitivity to a polynomial. The polynomial coefficients are evaluated by the method of least squares. Based on the relationship between the sensitivity of a thermocouple and calibration coefficient of a DSC sensor made from it, two-point heat flow calibration is suggested. This is an optimal calibration procedure, for the relationship contains only two unknown coefficients. An example of how to perform the two-point calibration with Netzsch-Proteus Software is described in the Appendix. 相似文献
53.
《Surface and interface analysis : SIA》2005,37(10):802-808
B‐doped Si multiple delta‐layers (MDL) were developed as certified reference materials (CRM) for secondary ion mass spectrometry (SIMS) depth profiling analysis. Two CRMs with different delta‐layer spacing were grown by ion beam sputter deposition (IBSD). The nominal spacing of the MDL for shallow junction analysis is 10 nm and that for high energy SIMS is 50 nm. The total thickness of the film was certified by high resolution transmission electron microscopy (HR‐TEM). The B‐doped Si MDLs can be used to evaluate SIMS depth resolution and to calibrate the depth scale. A consistency check of the calibration of stylus profilometers for measurement of sputter depth is another possible application. The crater depths measured by a stylus profilometer showed a good linear relationship with the thickness measured from SIMS profiling using the calibrated film thickness for depth scale calibration. The sputtering rate of the amorphous Si thin film grown by sputter deposition was found to be the same as that of the crystalline Si substrate, which means that the sputtering rate measured with these CRMs can be applied to a real analysis of crystalline Si. Copyright © 2005 John Wiley & Sons, Ltd. 相似文献
54.
55.
56.
In this paper,we are interested in HSS preconditioners for saddle point lin- ear systems with a nonzero(2,2)-th block.We study an approximation of the spectra of HSS preconditioned matrices and use these results to illustrate and explain the spectra obtained from numerical examples,where the previous spectral analysis of HSS precon- ditioned matrices does not cover. 相似文献
57.
58.
同步辐射光源中的高次谐波会使透射光栅衍射效率标定精度变差。为了校正光源中的高次谐波对透射光栅衍射效率标定的影响,提出了一种光源存在弱谐波情况下的透射光栅衍射效率标定方法,通过使用谐波X射线的衍射效率修正基波衍射效率标定中谐波的影响,从而得到更为准确的透射光栅衍射效率。使用该标定方法在北京同步辐射光源上开展了透射光栅相对衍射效率标定工作。实验结果表明:在100~800 eV存在高次谐波能段,修正后透射光栅一级与零级的相对衍射效率与理论模拟结果吻合较好,修正后光栅二级与一级的相对衍射效率更接近理论模拟结果,但与理论模拟结果仍有较大偏差,该偏差主要来源光栅较弱的二级衍射。 相似文献
59.
60.
为获取初级试验平台(PTS)装置分层真空轴向绝缘堆的电压电流,设计、标定了微分型电容分压器和微分环。探头的频响实验表明:绝缘堆电压、电流探头的频响上限分别为270 MHz和100 MHz。两种探头均采用在线标定方法来确定幅值灵敏度系数。电压探头在标定时应当保留绝缘堆外侧的水介质,以保证探头附近电场分布不发生改变。PTS装置的实验结果表明:当装置外围馈入电流基本均匀时,绝缘堆电压电流测量结果与相关测试结果自洽,与理论值基本符合;当馈入绝缘堆的电流分布不均匀时,不同角向探头测量结果的偏差导致总电流计算结果的误差较大。 相似文献