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51.
Volker Elling. 《Mathematics of Computation》2006,75(256):1721-1733
A particular case of initial data for the two-dimensional Euler equations is studied numerically. The results show that the Godunov method does not always converge to the physical solution, at least not on feasible grids. Moreover, they suggest that entropy solutions (in the weak entropy inequality sense) are not well posed.
52.
用密耦方法计算了非对称同位素替代分子与氦原子碰撞(He-HD,HT,DT)转动激发,当入射能量E=0.3 eV时,得到了上述碰撞体系的微分散射截面或角分布.基于上述理论计算,讨论了原子与双原子分子碰撞的同位素效应. 相似文献
53.
应用不可约张量理论构造了三角对称晶场中3d2/3d8态离子的45阶可完全对角化的微扰哈密顿矩阵,研究了CsNiCl3晶体的光谱精细结构、晶体结构、零场分裂参量、Jahn-Telller效应以及自旋单重态对Ni2+离子基态能级的影响,理论与实验相符合.在此基础上,进一步研究了以前工作中被忽略的自旋-自旋耦合作用和Trees修正对CsNiCl3晶体的光谱精细结构和零场分裂参量的影响,发现有四种机理会影响零场分裂参量:1)自旋-轨道耦合机理,2)自旋-自旋耦合机理;3)自旋-轨道与自旋-自旋联合耦合机理;4)自旋-轨道与Trees修正联合耦合机理,其中自旋-轨道耦合机理是最主要的,其他三种机理也是不可忽略的.
关键词:
基态能级
精细结构
零场分裂
自旋-自旋耦合 相似文献
54.
通过固相反应法制备了Er3+/Yb3+共掺杂ZrO2-Al2O3粉末的样品,并对样品在980nm激光激发下的上转换发光特性进行了研究.从发射光谱可以发现,在可见光范围内有3个强的发光带,一个位于654nm附近的红光带和两个分别位于545nm、525nm附近的绿光带,分别对应于Er3+离子的以下辐射跃迁:4F9/2→4I15/2、4S3/2→4I15/2、2H11/2→4I15/2.其中又以Er3+离子的4F9/2→4I15/2跃迁产生的红色荧光辐射最强.对其上转换发光机制进行了分析,发现这三个发光过程都是双光子过程.对样品粉末进行了XRD检测,发现ZrO2主要以立方相为主,并且计算得到了这种立方结构的晶格常数.Al2O3固溶于ZrO2中,Al3+嵌入ZrO2后产生氧空位,导致ZrO2晶体的对称性降低,这种结构变化更有利于提高上转换效率,即上转换发光强度增强. 相似文献
55.
56.
在长距离无线光通信中,接收点光功率密度与光束发散角平方呈反比关系,为了获得小的发散角和大的功率耦合效率,要求准直系统有较大的数值孔径(NA),但数值孔径过大会增加像差,因此合理设计功率耦合效率与准直系统的数值孔径就非常重要。该文对半导体激光器光束准直系统中功率耦合效率进行了研究,给出了半导体激光器光束功率耦合效率与k(孔径半径与孔径处等效光束半径之比)的关系表达式,并结合激光器光束准直系统,给出了半导体激光器光束功率耦合效率与准直系统数值孔径的关系表达式。该研究结论对于半导体激光器光束准直系统设计具有参考作用。 相似文献
57.
The structural properties of polycrystalline silicon films, prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition system, with different flow rates of SiH4/SiF4 mixtures at 300 °C were investigated. This study indicates that the low hydrogen coverage on the growing surface, under optimum fluorine radicals, will be leaded to an improvement of crystallized area as compared with case of high hydrogen coverage surface. Moreover, the studies of the role of SiH4 and SiF4 radicals show that the SiH4 radicals are important in the nucleation and growth of grains. However, SiF4 radicals are effective in the structural change of grain boundaries regions and by this way, in the present system, establish the growth of grains under the dominant 〈1 1 0〉 direction. The stress investigation indicates that addition of high flow rate of SiF4 in amorphous film, results in the nearly stress free films. Finally, we found that the changes in g-value reflect the changes in the intrinsic compressive and tensile stress in the both polycrystalline and amorphous silicon films. 相似文献
58.
以金属钇和异丙醇为原料,以HgCl2/I2为复合催化剂,通过对金属钇的机械加工以增加其比表面,并将异丙醇脱水使其含水量降低至0.05%,体系在82℃回流5h,经过滤、减压蒸馏,得到了白色海绵状异丙醇钇,其产率高达83%,合成时间比文献报道的缩短了19h,产率提高了8%。文章确定了催化剂的最佳用量为20gY加入60mg HgCl2/I2,研究了合成产率与HgCl2/I2催化剂和HgCl2催化剂的依赖关系及异丙醇中含水量对合成产率的影响,并对HgCl2/I2的催化作用机理进行了初步探讨。 相似文献
59.
A simple simulation scheme that simultaneously describes the growth kinetics of SiO2 films at the nanometer scale and the SiOx/Si interface dynamics (its extent, and spatial/temporal evolution) is presented. The simulation successfully applies to experimental data in the region above and below 10 nm, reproduces the Deal and Grove linear-parabolic law and the oxide growth rate enhancement in the very thin film regime (the so-called anomalous region). According to the simulation, the oxidation is governed mainly by two processes: (a) the formation of a transition suboxide layer and (b) its subsequent drift towards the silicon bulk. We found that it is the superposition of these two processes that produces the crossover from the anomalous oxidation region behavior to the linear-parabolic law. 相似文献
60.