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101.
光隔离器     
 光隔离器是光纤通信系统和精密光学测量系统中常用到的一种光学器件。在光路中,它的主要作用是阻止光被其他物体反射回来沿原路的传播,如图1所示,从端口①到②的正向光能顺利通过,而阻图1光隔离器的作用止从端口②到①的反向光。随着光通信技术的进一步发展和光电子材料研究热潮的兴起,光隔离器的用途越来越广泛。与此同时,人们对光隔离器的各项特性指标也提出了更高的要求。1.光隔离器的结构组成和工作原理光隔离器由两个线偏振器中间加一法拉第旋转器构成。它的工作原理如图2所示。方向可以这样决定:不管光的传播方向如何,迎着外加磁场的磁感应强度方向观察,偏振光总按顺时针方向旋转。  相似文献   
102.
双晶单色器弧矢聚焦晶体面形有限元分析   总被引:1,自引:0,他引:1  
简要介绍了弧矢聚焦双晶单色器的基本原理、聚焦晶体的压弯以及鞍形形变的抑制,提出了柔性铰链弧矢聚焦晶体压弯机构,对弧矢聚焦晶体衍射面的子午形变和弧矢弯曲面形进行了有限元分析;用光学追踪程序SHADOW得出了弧矢聚焦晶体衍射面面形对单色器的光通量和分辨率的影响。  相似文献   
103.
研究了原子化器温度、载气流速、KBH4 浓度等条件对流动注射 氢化物发生 原子吸收光谱法 (FI-HG -AAS)测定硒时的影响。建立了FI-HG -AAS测定大米中硒的分析方法。在优化的工作条件下 ,测定硒的最低检测浓度为 0 3 3 μg·L- 1,线性范围为 0~ 5 0 μg·L- 1,相对标准偏差小于 4% ,加标回收率为 94%~ 1 0 2 %。本法克服了传统的间断氢化物发生 原子吸收光谱法分析速度慢、样品耗量大、操作繁琐且因手工进样在进样速度和进样体积上容易带来误差等缺点。方法操作简便、快速 ,灵敏度及自动化程度高 ,已广泛应用于大米及富硒大米中微量硒的测定  相似文献   
104.
消色差谱相位延迟器的光谱特性测试研究   总被引:6,自引:1,他引:5  
本文应用归一化偏振调制原理建立的测试系统,对常规菲涅耳菱体,改进型菲涅菱体,斜入射型以及直角棱镜组合型的消色差相位延迟的光谱特性进行了测试研究,得到了各延迟器的消色差特性曲线,并对测试结果进行了分析。结果表明改进型菲涅耳菱体以及直色棱镜组合型型消色差相位延迟器,是目前较理想的实用型消色相位延迟器。  相似文献   
105.
多元素石墨炉光谱测定方法的实际问题W.Schrader,I.L.Schuttler,G.SchlemmerandF.Portala德国P-E有限公司博登湖厂,邮箱101761,D-88647,乌布林根,德国15年来,随着制造厂家和用户对石墨炉测试设备...  相似文献   
106.
HL—1M托卡马克中的硼化   总被引:2,自引:2,他引:0  
用碳硼烷加氢直流辉光放电,在HL-1M托卡马克内壁上原位涂覆了含碳硼膜,平均厚度50-70nm硼碳比约为1:6。硼化后器壁条件有了本质的改善,对器壁上氧源的抑制特别显著,也增强了石墨表面抗氢离子和氢原子化学蚀刻能力。硼化显著了改善了等主子体性能和提高了等离子体参数。扰动显著减小,放电稳定性和重复性提高。硼化为低混杂波电流驱动实验创造了良好的壁条件。  相似文献   
107.
严瑗  杨帆 《光学学报》1991,11(2):56-160
本文推导了包含自衍射及非线性吸收影响、用以描述空间电荷场建立过程的微分方程组,阐明了周期性的空间电荷场与光强干涉条纹之间的相位差在建立过程中所起的作用,并推导了描述条纹倾斜和弯曲的微分方程。通过数值计算找到了硅酸铋(BSO)晶体中能量转移的规律,讨论了材料特性对过程快慢的影响,提出了用CW激光来探讨瞬态过程快慢的可能性。  相似文献   
108.
本文研究了光滑激光脉冲作用下包含高阶离化的强场自电离过程,导出了其中的基本方程,得到了基态布居和光电子谱的一系列解析表达式。讨论了指数增长脉冲作用时的具体结果,发现高能谱比低能谱更能呈现出光电子谱在脉冲光作用下特有的多峰分裂。  相似文献   
109.
 我是一个农民,曾考上西安交大电信系.由于患严重的风湿性心脏病和眼睛高度近视,体检没过关,未能上大学,回村后,自修理论物理,物理学史,自学英语、俄语、日语、德语、法语,能凭借词典阅读这几种文字的科学资料.我家地处川北山乡,交通不便,信息闭塞,图书资料匮乏,自身贫病交加,生活和学习十分困难.1988年10月,我从《国内报刊简明目录》上知道新创刊的《现代物理知识》,便订了一份.两年来,我是此杂志的热心读者.她以严谨的科学性、丰富的知识性,五光十色的趣味性,改变了我个人生活.为了研究物理学,我已决定终身不结婚,而《现代物理知识》就成了我的终身伴侣.她  相似文献   
110.
本文报道在国内首次采用离子束铣技术研制自集成透镜InGaAsP/InP DH LED的实验结果。采用烘烤正性光致抗蚀剂来形成球状掩膜适合于离子束铣,且重复性很好。为了获得光洁的刻蚀表面,刻蚀条件均已最优化。  相似文献   
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