ITER屏蔽包层屏蔽块热工水力分析

通过ANSYS CFX对ITER屏蔽块进行了热工水力分析,对同一计算模型给出了两套不同的网格,分析了网格对计算精度的影响,结果表明两套网格都有较好的计算精度。通过数值模拟分析了壁面粗糙度对流动及传热的影响,结果表明壁面粗糙度是影响传热的一个非常重要的因素。     

基于不同粗糙度表面反射的液晶屏显示 信息泄漏研究

针对不同粗糙度表面反射光泄漏问题,对Torrance-Sparrow模型进行修正,建立了双向反射分布函数数学模型,数值计算了影响双向反射分布函数的各个因素,通过实验对建立的数学模型和数值计算结果进行了验证.结果表明:影响反射信息的主要因素有镜面反射,漫反射和介质的吸收,镜面反射包括反射面反射率、反射面上微面元倾斜角概率分布函数、入射光入射到反射面的微面元入射角和反射角引起的遮蔽因子,其中,主要影响因素是镜面反射;若选定入射角和粗糙度,随着反射角从0到π/2变化,反射面双向反射分布函数是以镜面反射角为均值的高斯分布,当反射角大于1.4rad,反射面双向反射分布函数值急剧增加,高斯分布发生变形;若选定镜面反射角方向接收反射信息,随着反射面粗糙度的增加,反射面双向反射分布函数值单调下降,且变化较快;当粗糙度大于0.3时,双向反射分布函数接近0.     

节理抗剪强度综合评价的试验研究

选取不同吻合度自然节理试样,进行干燥状态和饱和状态的JRC-JCS模型和JRC-JMS模型试验研究。结果表明,在节理粗糙度系数的定向统计测量和尺寸效应分析,以及剪切过程衰减折减的基础上,运用JRC-JCS模型综合评价节理抗剪强度可靠性较好,考虑吻合度系数的JRC-JMC模型比JRC-JCS模型具更好的预测能力。     

复杂地形下的近地层风沙运动模拟

本文利用FLUENT软件模拟了奇华胡安沙漠复杂微地形的流场,发现风速模拟精度优于QUIC软件的结果.为了进一步研究复杂地形下的沙粒运动规律,在甘肃民勤某沙丘迎风面上测量了脉动风速、输沙强度和输沙量,并模拟计算了沙丘风场、沙丘不同位置处的单宽输沙率及输沙量,结果表明沿着沙丘基线的输沙率从沙丘的右角开始逐渐增加,在沙丘纵剖面与丘基线的交点处达到最大,而后又逐渐减小.     

金属基及涂层表面粗糙度的测量方法研究

本文用干涉显微镜法，触针法，总体积分散身镜向反射光强法对未抛光铝基。抛光微粗糙铝基，微粗糙不锈钢基，微粗糙钢基和涂漆表面的粗糙度进行了实验测量和对比分析，从粗糙面激光散射角度讨论了各种方法的适用范围和局限性。     

化学淀积银膜上的吡啶表面增强喇曼散射效应——银膜结构的影响

本文考察了由化学淀积法制得的不同厚度银膜上吸附的吡啶产生的SERS效应。结果表明金属银膜层的几何结构对增强效应产生极大影响,且增强效应不仅取决于银颗粒的大小,而且还与它们的间隔有关。我们借用了Wirgin提出的波导共振理论对实验现象作了定性解释,计算结果与实验结果基本相符。     

基于灰度共生矩阵的表面粗糙度研究

介绍了激光散斑的形成及其统计性质,拍摄大量不同加工工艺、不同表面粗糙度标准样块的散斑图像,基于激光散斑图像的灰度共生矩阵及惯性矩、角二阶矩、熵、相关性4个参量,对图像进行了纹理分析.分别绘制了不同加工工艺、不同表面粗糙度标准样块的4个参量与表面粗糙度关系的特性曲线.最后将实验结果和未知表面粗糙度工件的实验数据进行比对,准确估算出了工件的表面粗糙度.     

直流磁控溅射制备AlN薄膜的结构和表面粗糙度

采用直流磁控反应溅射法,在Si(111)基底上成功制备了多晶六方相AlN薄膜.研究了溅射过程中溅射气压对薄膜结构和表面粗糙度的影响.结果表明:当溅射气压低于0.6 Pa时,薄膜为非晶态,在傅里叶变换红外光谱中,没有明显的吸收峰;当溅射气压不低于0.6 Pa时,薄膜的X射线衍射图中均出现了六方相的AlN(100)、(11...     

直流磁控溅射制备AlN薄膜的结构和表面粗糙度

采用直流磁控反应溅射法,在Si(111)基底上成功制备了多晶六方相AlN薄膜.研究了溅射过程中溅射气压对薄膜结构和表面粗糙度的影响.结果表明:当溅射气压低于0.6 Pa时,薄膜为非晶态,在傅里叶变换红外光谱中,没有明显的吸收峰;当溅射气压不低于0.6 Pa时,薄膜的X射线衍射图中均出现了六方相的AlN(100)、(110)和弱的(002)衍射峰,说明所制备的AlN薄膜为多晶态,在傅里叶变换红外光谱中,在波数为677 cm-1处有明显的吸收峰;随着溅射气压的增大,薄膜表面粗糙度先减小后增大,而薄膜的沉积速率先增大后减少,且沉积速率较大有利于减小薄膜的表面粗糙度;在溅射气压为0.6 Pa时,薄膜具有最小的表面粗糙度和最大的沉积速率.     

书讯

由王之江院士作序,徐德衍、高志山等编著,科学出版社出版的《现行光学元件检测与国际标准》一书(B5开本、302页、38.6万字、定价50元),自2009年7月出版发行以来,受到广大读者们的欢迎和认可。第一次印刷量已销售无几,2010年12月出版社已决定,将于2011年第一季度加印并在全国发行。该书重点介绍了光学元件检测领域的近期进展、方法、技术和需求。全书共10章,主要内容是:论述了现代光学的发展对光学元件检测的需求;计量概念与误差及精度的必要知识;光学元件检测基础;光学