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文章回顾了a—Si:H薄膜的发展历程,并介绍了其近10年的研究状况、为提高a—Si:H薄膜的沉积速度,还重点介绍了一种新的微波电子回旋共振等离子体CVD(MWECR—CVD)技术,该技术的特点是:不含电极,可避免电极溅射造成的污染;等离子区离子密度高,对硅烷能高度分解,从而可显著提高薄膜生长速率;改变磁场位形和结构,可改变等离子体分布及轰击基片离子的能量,文章还分析了其制备a—Si:H薄膜存在的问题,提出了今后的研究方向。 相似文献
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设Mn为Riemann流形,给定类空浸入:Mn→Rn,p,如果存在另一个类空浸入:Mn→Rn,p,使与在共形对应之下且对应点的地空间平行,则称类空子流形是可保高斯映射共形形变的.本文给出可保高斯映射共形形变的充要条件.对n=2,p=1的情形,如果上述形变是同向的,我们分类了曲面;如果是反向的,我们用主曲率满足的方程来描述. 相似文献
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本文通过建立复Grassmann流形G2,n中调和曲面的Gauss丛的基本公式,在适当的拓扑条件下给出了G2,n中可兼共形调和曲面的构造定理.推广和改进了Burstall和Wood的低亏格曲面的结果. 相似文献
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莫小欢 《数学年刊A辑(中文版)》1996,(4)
本文建立了Riemann流形之间水平共形映射之能量密度的基本公式.作为应用,得到了水平共形映射是水平相似映射的充要条件;分类了欧氏空间的开子集之间所有具有全测地纤维的水平共形映射;最后导出了由调和morphism的度量形变产生的水平共形映射力调和motphism的等价条件.因而改进和推广了Baird-Eells,Gudmundsson以及Baird的相应结果. 相似文献
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高功率微波运用的圆波导劈形端口辐射器(Vlasov-Nakajima辐射器)的辐射场可视为由平开口圆波导的辐射场和在该辐射场中的劈形圆波导段的散射场叠加而成。运用等效电磁流原理数值求解Kirchhoff-kottler积分获得圆波导TM01模的辐射场,再应用物理光学方法计算劈形段的散射场,并将计算的远场方向图与实验结果比较,获得较满意的一致。 相似文献