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941.
在物理化学的化学热力学部分,有关标准态问题,各种教材中都有较详细的叙述。但是,在化学动力学的过渡态理论中,大部分物理化学教材、甚至一些动力学专著、对标准态的关注甚少,以致出现一些意义模糊、量纲有误、难以 相似文献
942.
本文考虑到超塑变形具有强的结构敏感性,直接根据双拉应力状态的m-log曲线用函数模拟法求解定义m值的微分方程,首次给出了超塑胀形的变m值本构方程。文中指出,用负幂函数模拟m-log曲线所建立的本构方程,不但反应了m值变化的特征,而且既可用表达σ,也可用σ表达.由于方程中包含了mm,mk和η三个常数,而且当mm和η越大,mm/mk越接近于1,材料的超塑性越好,这就把材料胀形的超塑性指标与m-log曲线的形状联系起来,从而解答了为什么只用单向拉伸测得的mm不能描述超塑胀形的变形规律和材料胀形的超塑性指标的症结所在,最后就ZnAl22和ZnAl4Cu1两种超塑性板材实测的m-log曲线给出对应的超塑胀形变m值本构方程。 相似文献
943.
944.
沉积在液相基底表面磁性薄膜的形成机理和特性研究 总被引:2,自引:0,他引:2
采用气相沉积方法在硅油基底表面成功制备了一种具有近似自由支撑的新型铁薄膜系统,并研究了其生长机制、内应力分布以及低温磁特性.实验发现,此类铁薄膜的生长机制与沉积在液相基底表面非磁性薄膜的情况类似,即服从二阶段生长模型.在固定基底温度的条件下,当沉积速率较小时,可制得近似透明的连续铁薄膜,薄膜中呈现明显的特征尺寸达10^2μm数量级的带状准周期有序结构,它是由铁薄膜样品中内应力释放时所引起的薄膜板块间相互挤压而逐渐形成的.当沉积速率较大时,制得的连续铁薄膜呈金属色.实验发现,在临界温度Tc=10—15K附近,具有金属色的铁薄膜样品的矫顽力Hc有一明显的极大值峰.研究表明,这一奇异的矫顽力特性与液相基底表面铁薄膜中的原子团簇尺寸分布、无序的薄膜表面磁各向异性以及团簇间的磁性相互作用等因素有关. 相似文献
945.
采用空心阴极等离子化学气相沉积方法,以NH3/H2的混合气体及CH4气体为原料反应气体,成功地制备了非晶的CHN薄膜,研究了CHN薄膜的沉积速率与直流电压及反应气体流量的关系。同时用X射线光电子能谱(XPS)确定了不同条件下薄膜中N原子的百分比,用原子力显微镜(AFM)对薄膜的表面粗糙度及表面形貌进行了测量和表征。结果表明:薄膜中N原子的百分比最大为12%,薄膜的表面结构光滑、致密,表面粗糙度小于1 nm。 相似文献
946.
对SiH4+ H→H2+SiH3反应体系应用SVRT模型进行了4维的量子动力学计算.将得到的速率常数与实验数据以及其他理论方法进行比较,得出了一些有意义的结论,并与CH4+H→H2+CH3反应在同种理论模型下做了对比,较好的与实验相吻合.最后验证了理论方法以及势能面的正确性. 相似文献
947.
948.
亚微米尺寸元件的离子束刻蚀制作 总被引:3,自引:3,他引:0
采用软光刻技术中的微接触印刷(μCP)技术、表面诱导的水蒸气冷凝、表面诱导的去湿行为,在金基底上制作出了亚微米的环状周期结构聚合物掩膜.通过对离子束刻蚀过程中各个参量对刻蚀元件的表面光洁度、轮廓保真度和线宽分辨的影响分析,结合掩膜的实际情况选择出了合适的离子束入射角、离子能量、束流密度和刻蚀时间等参量.依照这些参量刻蚀出了高质量的亚微米尺寸环状周期结构元件.通过对刻蚀出的元件的检测发现,刻出的元件表面光洁度、轮廓保真度和侧壁陡峭度都非常好. 相似文献
949.
950.
本文对频域光存储中影响存储密度和读写速率的因素进行探讨,对实现高密度存储和高速数据传输所要求的材料特性和读写条件进行深入的分析,得到的最佳参量空间将为频域光存储的系统研究提供理论依据。 相似文献