He（2~3s）与CH_nCl_（4－n）（n＝1～4）在束－气条件下的传能解离激发反应

在束－气条件下，通过检测反应产物的化学发光光谱，研究了亚稳态Ｈｅ（２~３ｓ）原子与甲烷、氯代甲烷（ＣＨ_ｎＣｌ_（４－ｎ），ｎ＝１～３）反应中的解离激发动力学过程．观察到反应的主要激发态碎片ＣＨ（Ａ~２Δ）、ＣＨ（Ｂ~２Σ~（－））、ＣＨ（Ｃ~２Σ~＋）、Ｈ和ＣＣｌ（Ａ~２Δ），用参比反应测定了发光碎片的形成速率常数。对ＣＨ（Ａ，Ｂ）光谱的计算机模拟获得了ＣＨ（Ａ~２Δ，ｖ′＝０～２）和ＣＨ（Ｂ，ｖ′＝０）的振转分布。该反应的可资用能绝大部分转移成产物的平动能，且Ｈｅ（２~３ｓ）与甲烷及氯代甲烷反应形成ＣＨ（Ａ~２Δ，ｖ′＝０）的转动分布不同，前者为单Ｂｏｌｔｚｍａｎｎ分布，后者则在低转动能级上转动温度比高转动态低，近似可用双Ｂｏｌｔｚｍａｎｎ分布描述，对上述反应机理进行了讨论。     

H+CH3NO2H2+CH2NO2反应途径和变分速率常数计算研究

采用MP2(FULL)/6-311G**从头算方法, 优化了H+CH3NO2H2+ CH2NO2反应的过渡态结构, 得出该反应的正逆反应的活化位垒分别是82.73和57.14 kJ*mol-1. 沿IRC分析指出该反应是一个H-H键生成和C-H键断裂的协同反应, 而且在反应途径上存在一个引导反应进行的振动模式, 这一反应模式引导反应进行的区间在-0.7～0.2( amu)1/2*a0之间; 在1 000～1 400 K温度范围内, 运用变分过渡态理论(CVT), 计算了该反应的速率常数, 计算结果与实验相一致.     

臭氧与二乙胺和三乙胺气相反应的速率常数

利用自制的烟雾箱系统研究了臭氧与二乙胺和三乙胺的气相反应动力学. 实验过程中保证二乙胺和三乙胺浓度远远大于臭氧浓度, 使得实验在准一级条件下进行. 加入环己烷以消除实验过程中可能产生的OH自由基对反应的影响. 在(298±1) K和1.01×105 Pa条件下, 测得臭氧与二乙胺和三乙胺反应的绝对速率常数值分别为(1.33±0.15)×10^-17和(8.20±1.01)×10^-17 cm³·molecule^-1·s^-1. 与文献中已有的其它胺类的臭氧反应数据比较后发现, 臭氧与胺的反应可以用亲电反应机制来解释. 另外, 通过对比发现, 臭氧与三取代的烷基胺类的反应速率要远远大于其与二取代的烷基胺类的反应速率. 这在一定程度上可有助于解释外场观测到的气溶胶相中二烷基胺盐较多的事实. 利用测得的速率常数和大气中臭氧浓度, 还估算了二乙胺和三乙胺与臭氧反应的大气寿命. 结果显示, 与臭氧的反应是二乙胺和三乙胺在大气中的一种重要的消除途径, 尤其是在污染严重地区.     

2,2′-联吡啶和亚铁氰化钾对乙醛酸化学镀铜的影响

以乙醛酸作还原剂、Na2EDTA为络合剂、2,2′-联吡啶和亚铁氰化钾作为添加剂组成化学镀铜体系,研究了两种添加剂对化学镀铜速率、镀层表面形貌、组成和结构的影响.结果表明:添加适量的2,2′-联吡啶和亚铁氰化钾,不仅提高了镀液的稳定性,而且使沉积速率增加1倍.这两种添加剂的同时使用,使镀层颜色变亮,形貌发生变化.所得镀层是多晶铜,没有发现夹杂Cu2O.     

四氯苯醌自组装膜电子传递机制的研究

2,3,5,6-Tetrachloride-quinone was anchored to a gold surface through the self-assembled monolayers of dithiol [DT HS-(CH2)n-SH n=2,4,6,8,10]. The surface coverage of the anchored TQ was esteminated to be 4.9 ×10-11 mol•cm-2. The electron transfer rate constant Ket associated with the redox process of anchored film decreased from 6.75 s-1 at n=2 to 0.169 s-1 at n=10 with increasing the chain length of the DT SAMs througth the redox potential of TQ. The turning barrier coefficient(β) of the electron transfer was estimated to be 0.82Å-1 from the observed linear relationship between the Ket and the monolayer chain length.     

臭氧与二乙胺和三乙胺气相反应的速率常数

利用自制的烟雾箱系统研究了臭氧与二乙胺和三乙胺的气相反应动力学. 实验过程中保证二乙胺和三乙胺浓度远远大于臭氧浓度, 使得实验在准一级条件下进行. 加入环己烷以消除实验过程中可能产生的OH自由基对反应的影响. 在(298±1) K和1.01×105 Pa条件下, 测得臭氧与二乙胺和三乙胺反应的绝对速率常数值分别为(1.33±0.15)×10^-17和(8.20±1.01)×10^-17 cm³·molecule^-1·s^-1. 与文献中已有的其它胺类的臭氧反应数据比较后发现, 臭氧与胺的反应可以用亲电反应机制来解释. 另外, 通过对比发现, 臭氧与三取代的烷基胺类的反应速率要远远大于其与二取代的烷基胺类的反应速率. 这在一定程度上可有助于解释外场观测到的气溶胶相中二烷基胺盐较多的事实. 利用测得的速率常数和大气中臭氧浓度, 还估算了二乙胺和三乙胺与臭氧反应的大气寿命. 结果显示, 与臭氧的反应是二乙胺和三乙胺在大气中的一种重要的消除途径, 尤其是在污染严重地区.     

ADSORPTION OF PHENOL AND NITROPHENOLS ON A HYPERCROSSLINKED POLYMERIC ADSORBENT

The adsorption of phenol and nitrophenols on hypercrosslinked polymeric adsorbent wasstudied as a function of the solution concentration and temperature. Adsorption isotherms of phenoland nitrophenols on hypercrosslinked resin were determined. These isotherms were modeledaccording to the Freundlich adsorption isotherm. The isotherms for phenol and nitrophenols onhypercrosslinked resin were assigned as L curves. Thermodynamic parameters were calculated for allphenol and nitrophenols. The kinetics experiment results showed that the adsorption rates were of thefirst-order kinetics. The rate constants at 303K were calculated.     

离子交换树脂吸附镉的动力学研究

实验采用离子交换法吸附氯盐体系中的镉,用动态法对2017型强碱性阴离子交换树脂的工作条件进行了优化,在最佳反应体系下,用批式离子交换法研究了温度、溶液浓度和树脂粒径对交换过程的影响,并用动边界模型描述交换过程的动力学,确定了离子交换行为的速度控制步骤为颗粒扩散,并推算出了交换过程的表观活化能、反应级数、速率常数和动力学总方程式。     

一种陀螺稳定平台瞄准线漂移的惯性补偿方法

针对陀螺稳定平台系统中地球自转引起的瞄准线漂移问题，提出一种基于惯性姿态信息的瞄准线漂移补偿方法。该方法根据惯导系统解算得出的平台地理坐标和姿态信息计算出地球自转角速率在光电稳定平台坐标系上的投影，稳瞄控制单元利用该投影信息自动补偿平台上的速度反馈数据，消除由地球自转造成的瞄准线漂移。试验结果显示，使用该补偿方法后的方位漂移及俯仰漂移分别是1.69 mrad/h和1.84 mrad/h，远小于不加该补偿方法时的方位漂移6.89 mrad/h及俯仰漂移7.32 mrad/h，证明该方法可有效补偿瞄准线漂移。     

Iron trichloride as oxidizer in acid slurry for chemical mechanical polishing of Ge2Sb2Te5

The effect of iron trichloride （FeC13） on chemical mechanical polishing （CMP） of Ge2Sb2Te5 （GST） film is inves- tigated in this paper. The polishing rate of GST increases from 38 nm/min to 144 nm/min when the FeC13 concentration changes from 0.01 wt% to 0.15 wt%, which is much faster than 20 nm/min for the 1 wt% H2O2-based slurry. This polish- ing rate trends are inversely correlated with the contact angle data of FeCl3-based slurry on the GST film surface. Thus, it is hypothesized that the hydrophilicity of the GST film surface is associated with the polishing rate during CMP. Atomic force microscope （AFM） and optical microscope （OM） are used to characterize the surface quality after CMP. The chemical mechanism is studied by potentiodynamic measurements such as Ecorr and Icorr to analyze chemical reaction between FeCl3 and GST surface. Finally, it is verified that slurry with FeCl3 has no influence on the electrical property of the post-CMP GST film by the resistivity-temperature （RT） tests.