裂纹或气泡对熔石英损伤修复坑场调制的近场模拟

建立了含有裂纹或气泡的高斯型修复坑的3维模型, 用3维时域有限差分方法研究了熔石英后表面该类缺陷对355 nm入射激光的近场调制. 研究表明, 裂纹的调制明显大于气泡或者高斯坑本身, 因此为了抑制修复元件的初始损伤, 应尽量避免任何未修复的裂纹存在, 尤其是与入射光呈夹角约25°的裂纹, 同时应避免尺寸大于5 λ 的气泡存在. 当裂纹或气泡位于近表面层3 λ 以内且靠近修复坑环边缘时, 对场的调制最明显. 随着侧移的增加, 近表面区缺陷诱导场叠加, 强点总数涨落较大且易形成极大峰值, 特别是含有裂纹的情形; 远表面区强点总数逐渐增大并趋于稳定. 随着嵌深的增加, 强点的数目大体呈减弱趋势, 当嵌深大于3 λ 时, 逐渐趋于平缓振荡. 如果裂纹或气泡位于坑点正下方几个波长内, 激光辐照下其效果相当于延长了高斯坑的深度.     

不同溶剂下制备B_2O_3/SiO_2纳米复合材料对其室温磷光的影响

本文通过对比不同溶剂制备的B2O3/SiO2纳米复合材料室温磷光光谱,并结合FTIR及XRD的表征结果,研究溶剂对该材料磷光性能的影响。结果表明,不管用何种溶剂制备B2O3/SiO2室温磷光材料,均存在两个磷光发射峰,一个是位于520-540nm之间,该发光可能是与氧化硼有关的二氧化硅杂质缺陷发光,另一个位于470-780nm处,该磷光峰推测是二氧化硅的结构缺陷发光。但是在制备过程中溶剂将影响氧化硼在二氧化硅结构中的掺杂,进而影响其发光中心的相对发光强度。     

Influence of reaction parameters on the structure of in situ rubber/silica compounds synthesized via sol–gel reaction

In situ silica was synthesized in three non‐vulcanized rubber matrices, namely natural rubber, styrene‐butadiene rubber, and EPDM (ethylene‐propylene diene ter‐polymer), using the sol–gel method with tetra‐ethoxysilane (TEOS) as silica precursor and hexylamine as catalyst. The effect of the reaction parameters such as the amount of TEOS, the reaction time (15–120 min), and the type of rubber was explored. Transmission electron microscopy was used to study the gradient in silica content and particle size over the sample thickness. The diffusion gradient of TEOS and catalyst solution in the rubber matrix responsible for the gradient was studied with Fick's law. An excellent dispersion of silica was obtained for all rubbers, even for the very non‐polar EPDM, without the use of any additives to improve the dispersion. © 2014 Wiley Periodicals, Inc. J. Polym. Sci., Part B: Polym. Phys. 2014 , 52, 967–978     

光固化环氧丙烯酸酯有机-无机杂化体系

二氧化硅杂化体系;溶胶-凝胶法;光固化环氧丙烯酸酯有机-无机杂化体系     

模板法合成六方介孔SiO2

模板法合成六方介孔SiO2;六方结构;低聚表面活性剂     

小角x射线散射方法研究甲基改性氧化硅干凝胶的孔结构

以正硅酸乙酯［Si(OC2H5)4，TEOS］为前驱体制备SiO2悬浮液，分别以甲基三乙氧基硅烷［CH3Si(OC2H5)3，MTES］和二甲基二乙氧基硅烷［(CH3)2Si(OC2H5)2，DDS］为前驱体制备硅氧烷聚合物溶液，通过混合法得到两种不同的甲基改性氧化硅凝胶-测量了凝胶的散射强度，计算了凝胶的孔径分布、平均孔径DSAXS、界面层厚度E等参数，结合氮气吸附实验，分析了凝胶的孔结构-发现SiO2一次簇团被MTES聚合物或DDS聚合物连接为二次簇团时产生微孔，同时甲基随聚合物连接于凝胶骨架上形成与 关键词： 小角x射线散射 甲基改性氧化硅 干凝胶 孔结构     

以硅溶胶和三氯化钛为原料合成Ti-MCM-41分子筛 Ⅰ. Ti-MCM-41分子筛的合成

 以硅溶胶和TiCl3水溶液为原料,采用水热合成方法制备了结晶度和长程有序性较高的中孔Ti－MCM－41分子筛．钛的加入提高了中孔分子筛的长程有序性．辅助模板剂的选择对分子筛的合成很重要,其中以四甲基氢氧化铵和四乙基氢氧化铵作辅助模板剂的效果较好．四甲基氢氧化铵的用量对分子筛的结晶度和长程有序性也有影响,用量过高和过低都会降低分子筛的结晶度．合成的分子筛中的钛含量（摩尔分数）可以达到3．75％,进一步增加钛的含量,将不能合成得到中孔结构的分子筛．     

Electrochemical Behavior of Copper in CuCI2 Silica Sol and Aqueous Solutions

采用循环伏安法和计时安培法研究了CuCl2硅溶胶和水溶液中铜在玻碳电极上的电沉积和电结晶行为．结果表明在两种CuCl2电解质中,铜的电沉积分两个步骤完成,Cu^2＋还原为Cu^＋在硅溶胶中较水溶液中容易;采用吸附一成核模型解析电流一时间暂态曲线,并确定铜的电结晶机理为扩散控制下的连续成核三维生长（3DP）,Cu^2＋在水溶液中的扩散系数较硅溶胶中的大,但相同电位下在硅溶胶中的饱和成核数密度高于水溶液中．