全文获取类型
收费全文 | 1670篇 |
免费 | 0篇 |
专业分类
化学 | 1670篇 |
出版年
2023年 | 1篇 |
2020年 | 64篇 |
2019年 | 142篇 |
2018年 | 27篇 |
2017年 | 131篇 |
2016年 | 30篇 |
2015年 | 43篇 |
2014年 | 35篇 |
2013年 | 34篇 |
2012年 | 83篇 |
2011年 | 86篇 |
2010年 | 28篇 |
2009年 | 27篇 |
2008年 | 85篇 |
2007年 | 85篇 |
2006年 | 97篇 |
2005年 | 81篇 |
2004年 | 78篇 |
2003年 | 70篇 |
2002年 | 58篇 |
2001年 | 90篇 |
2000年 | 93篇 |
1999年 | 61篇 |
1998年 | 47篇 |
1997年 | 39篇 |
1996年 | 28篇 |
1995年 | 24篇 |
1980年 | 3篇 |
排序方式: 共有1670条查询结果,搜索用时 31 毫秒
81.
82.
83.
84.
《Angewandte Chemie (Weinheim an der Bergstrasse, Germany)》2017,129(24):6853-6856
A new resist material for electron beam lithography has been created that is based on a supramolecular assembly. Initial studies revealed that with this supramolecular approach, high‐resolution structures can be written that show unprecedented selectivity when exposed to etching conditions involving plasmas. 相似文献
85.
86.
87.
88.
89.
90.