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61.
62.
Hua Zhang Nabil A. Amro Robert Elghanian Joseph Fragala 《Applied Surface Science》2006,253(4):1960-1963
A method, combining micro-contact printing (μCP), wet chemical etching and reactive ion etching (RIE), is reported to fabricate microstructures on Si and SiOx. Positive and negative structures were generated based on different stamps used for μCP. The reproducibility of the obtained microstructures shows the methodology reported herein could be useful in Micro-Electro-Mechanical Systems (MEMS), optical and biological sensing applications. 相似文献
63.
提出一种波长检测技术实现温度测量的方法,利用FBG传感器对温度等物理量实施监测,具有测试精度高,应用场合不受限制等特点,当环境参数发生变化时,光纤光栅的有效折射率和光栅周期会受到影响,将引起光纤光栅峰值波长的偏移,依据反射光谱结构的变化,可知道其温度的变化趋势。实验测试结果表明,在温度变化0.1°,波长变化1pm,温度和波长具有良好的线性关系。 相似文献
64.
重离子治疗计划系统的构想 总被引:2,自引:1,他引:1
对重离子柬治癌的优势进行简要的回顾,并着重介绍了用于重离子放射治疗的治疗计划系统。治疗计划系统是一套软件系统,不同的硬件设施应有与其相匹配的软件系统,即治疗计划系统。在此基础上,针对兰州重离子加速器的特点提出一些关于治疗计划系统方面的构想。After a brief review concerning the advantages of heavy ions in radiotherapy, more interests are concentrated on treatment planning system (TPS) for heavy ion radiotherapy. Compared to the hardware devices such as accelerator and beam delivery system, the TPS is a set of software system, and different therapy facilities require their corresponding TPSs. Based on the specialities of the Heavy Ion Research Facility in Lanzhou (HIIRFL), some suggestions on the TPS for tumor therapy at HIRFL finally are given. 相似文献
65.
简要说明了三代像增强器的特点,分析了微通道板的离子反馈形成机理,给出有效抑制离子反馈对光阴极造成伤害的2种方法,即一种是减少和清除微通道板的吸附气体,另一种是阻止反馈离子反馈到光阴极上。介绍了国外最新的三代像增强器,以及使用优化改进的高性能微通道板显著减薄甚至彻底去除微通道板离子反馈膜的方法,该方法能维持砷化镓光阴极足够长的工作寿命,还介绍了最新发展的体导电微通道板和硅微通道板。指出高可靠性无膜选通砷化镓像增强器技术的实现,不仅需要微通道板在抑制离子反馈方面取得突破,还需要砷化镓光阴极在耐受离子反馈能力上进一步提高,同时还要结合和拓展选通电源的应用。 相似文献
66.
研究了在Hanbury Brown Twiss探测方式下,非平衡探测系统对光子统计测量的影响。通过记录2个单光子计数器响应的单分子光子源输出的每一个事件,分析具有泊松统计背景的实际单分子光子源的光子统计特性,讨论并给出了非平衡探测系统的单分子光子源Mandel参数。研究表明:非理想的50/50分束器、非理想的线性传输效率和非理想的探测器都会使单分子光子源Mandel参数的实际测量结果小于平衡系统的Mandel参数,最后给出了单分子光子源Mandel参数的非理想探测的校正表达式。 相似文献
67.
本文我们给出一个修正的非线性扩散方程模型,与Cotte Lions和Morel的模型相比该模型有许多实质上的优点。主要的想法是把原来去噪声部分:卷积Gauss过程替代为解一个有界区域上的线性抛物方程问题,因此避开了对初始数值如何全平面延拓的问题。我们从数学上的证明该问题解的存在性和适定性,同时给出对矩形域情况的解的级数形式。最后我们给基于本模型的数值计算差分模型,并且给出几个具体图像在该模型下处理结果。 相似文献
68.
载能离子穿过固体界面引起界面原子迁移使界面原子混合和物质成分变化,从而导致界面发生材料相变。简要介绍了载能离子辐照引起金属/绝缘体界面混合效应及相变现象的主要实验研究进展、低能离子和高能离子辐照引起金属/绝缘体界面现象差异,并对离子辐照引起界面混合及相变的机制进行了初步探讨。When penetrating an interface between two kind of solids, energetic ions can induce atomic diffusion at both sides of the interface and then result in intermixing, atom re-distribution or composition change, as well as phase transformation. Main progress on the study of intermixing and phase change at metal/insulator interface induced by energetic ion irradiations, the difference of phenomena occurred at metal/insulator interfaces induced by high-and low-energy ions were briefly reviewed. Furthermore, the possible mechanisms related to intermixing and phase change at metal/insulator interface produced by energetic ion irradiations were also discussed in short words. 相似文献
69.
Based on scalar diffraction theory, 8-phase-level 256×256 elements diffractive microlens array with element dimension of 50×33 μm2 have been fabricated on the back-side of PtSi(3~5 μm) infrared CCD. The measurement results indicated that the ratio of the signal-to-noise of the infrared CCD with microlens was increased by a factor of 2.8. 相似文献
70.
Cluster ions have been recognized as a superb primary species in time of flight secondary ion mass spectroscopy (ToF-SIMS) compared with monatomic primary ions, as they significantly enhance the secondary ion yields from bulk samples. Self-assembled monolayers provide an important system for studying the fundamental mechanism involved in the yield enhancement.We used a gold cluster ion source to analyze a new type of self-assembled monolayer: a fluorocarbon-grafted polyethylene terephthalate. In addition to the structure details, which helped to understand the grafting mechanism, ToF-SIMS analysis revealed that fluorocarbon secondary ion yield enhancements by cluster ions were due to the enhanced sputter efficiency. A larger information depth may also be expected from the enhancement. Both mathematical definitions of damage cross-section and disappearance cross-section were revisited under a new context. Another cross-section parameter, sputter cross-section, was introduced to differentiate the beam induced sputter process from damage process. 相似文献