H_2及H~ 对C_xH_(1-x)薄膜表面状态的影响

系统研究了 H2 流量和 H 原位处理 Cx H1-x薄膜的时间对 Cx H1-x薄膜的稳定时间、表面悬挂键密度和表面电子局域化程度的影响 ,表明 Cx H1-x薄膜的长时间 H 原位处理是减小 Cx H1-x薄膜表面悬挂键密度的有效途径。     

电子束固化技术的现状和发展

概要介绍了国内外电子束（ＥＢ） 固化技术的现状；重点讨论了我国ＥＢ固化技术的发展方向及发展之路     

Method to accurate calibrate deposition rates of EUV multilayer coatings

Random thickness error is an important factor which effects the calibration accuracies of deposition rates for extreme ultraviolet （EUV） multilayer coatings fabricated by sputter deposition techniques. A least square fitting method is proposed to determine deposition rates and extract random thickness errors accurately. The validity of this method is shown by evaluating two deposition systems with control abilities of -0.1 nm and better than 0.01 nm respectively.     

光盘用2P胶应用研究进展

对光盘用２Ｐ胶的应用研究进展情况进行了评述，其中光盘制备用光聚合浮雕成型２Ｐ胶的基本组成为各类多官能团丙烯酸酯类单体；光盘保护涂层用２Ｐ胶主要组分为环氧丙烯酸酯类预聚体。     

利用BaZrO3涂层Al2O3坩锅生长YBa2Cu3O7—δ单晶体

在常规Al     

重复频率激光辐照涂层金属材料的温升

 测量了重复频率YAG激光辐照涂层金属材料(30CrMnSiA钢和LF6M铝金壳体)的前后表面温度, 分析了不同频率激光辐照涂层壳体材料的温升特性。实验结果表明:在相同平均功率的条件下, 激光脉冲频率越高, 对材料的加热效率越明显, 重复频率激光对材料的加热优于连续激光。     

YBCO涂层导体用Ni5W基带的制备和立方织构的发展

为了制作能满足YBCO涂层导体(coated conductor)所需要的高强度、低磁性的立方织构基带,本工作用粉末冶金方法制作了Ni-5at%W合金基带.为评估基带中立方织构的发展,用March-Dollase函数对各种热处理样品的择优取向度进行了研究,结果与用X射线极图法和电子背散射衍射法得到的结果基本一致.研究结果表明,在实验中所用的工艺参数范围内,随总加工率和热处理温度的提高,基带中立方织构百分数明显增高.提高总加工率实际增加了冷加工样品中立方织构晶粒或立方核心的数量.实验中得到了较好的和实用的工艺制度,用这种工艺可以制作出具有99%～100%立方织构百分数,并具有很好一致取向度的Ni5W基带.     

本征导电聚合物涂层及界面

本文结合我们实验研究结果及国外最近的研究进展，对在绝缘基质的表面本征导电聚合物涂层的形成、结构和性能作了扼要的分析，指出了化学反应法中通过单体向整体聚合物表层扩散聚合形成的导电膜、界面的偶联作用和电荷转移作用等几种新近证实的原理，在加速导电聚合物涂层的应用中，具有重要意义。