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51.
52.
赵志伟 《光谱学与光谱分析》2002,22(6):895-897
在化学发光分析中,常常要用到碱性条件下鲁米诺与过氧化氢的反应系统,通过催化剂辣根过氧化物酶使反应顺利进行。如果再加入适当的增强剂,则灵敏度提高且发光时间延长,可改善测定的重现性。实验证明,对位酚类衍生物,如:对叔丁基苯酚,对甲苯酚的发光增强作用明显,其发光效率可上升几十倍,发光时间也获得有效延长。 相似文献
53.
54.
新生MnO2对酸性媒介黑T的吸附 总被引:4,自引:0,他引:4
以化学法合成的新生MnO2为吸附剂,对水中酸性媒介黑T(染料之一)进行了吸附脱色研究,并探讨了影响吸附的因素。结果表明,酸性媒介黑T的脱色率达95%。且PH是影响染料脱色的主要因素。 相似文献
55.
Michel Hébert 《Archive for Mathematical Logic》1991,31(2):133-143
Summary We give a syntactic characterization of (finitary) theories whose categories of models are closed under the formation of connected limits (respectively the formation of pullbacks and substructures) in the category of all structures. They are also those theories whose consistent extensions by new atomic facts admit in each component an initial structure (respectively an initial term structure), and also thoseT for whichM(T) is locally finitely multi-presentable in a canonical way. We also show that these two properties of theories are nonuniform. 相似文献
56.
57.
Srinivasan G. 《物理学报》2006,55(5):2548-2552
讨论了Ni0.8Zn0.2Fe2O4 (NZFO)与锆钛酸铅(PZT)的双层膜结构样品的磁电(ME)效应.NZFO粉料由溶胶-凝胶法制成,再经900℃热压,并高温烧结.在该双层膜中测量到了很强的磁电相互作用.发现横向的磁电效应比纵向效应大一个数量级,并且随NZFO烧结温度的提高而增加.当烧结温度从950℃上升到1380℃时,横向ME电压系数(αE)的最大值变化范围为25.6 mV Am-2≤αE≤199.6 mV Am-2.理论分析显示NZFO-PZT双层膜样品中ME效应源于NZFO与PZT之间相对良好的磁电耦合.
关键词:
镍铁氧体
PZT
热压法
ME效应 相似文献
58.
The breakthrough and stoichiometric SO2 adsorption efficiencies of a biomass supported Na2CO3 system (80 wt %Na2CO3/straw) have reached 48.9% and 80.6% respectively at a desulfurization temperature of 80℃. 相似文献
59.
Let G=(V(G),E(G)) be a graph. A (n,G, λ)‐GD is a partition of the edges of λKn into subgraphs (G‐blocks), each of which is isomorphic to G. The (n,G,λ)‐GD is named as graph design for G or G‐decomposition. The large set of (n,G,λ)‐GD is denoted by (n,G,λ)‐LGD. In this work, we obtain the existence spectrum of (n,P3,λ)‐LGD. © 2002 Wiley Periodicals, Inc. J Combin Designs 10: 151–159, 2002; Published online in Wiley InterScience ( www.interscience.wiley.com ). DOI 10.1002/jcd.10008 相似文献
60.
A simple simulation scheme that simultaneously describes the growth kinetics of SiO2 films at the nanometer scale and the SiOx/Si interface dynamics (its extent, and spatial/temporal evolution) is presented. The simulation successfully applies to experimental data in the region above and below 10 nm, reproduces the Deal and Grove linear-parabolic law and the oxide growth rate enhancement in the very thin film regime (the so-called anomalous region). According to the simulation, the oxidation is governed mainly by two processes: (a) the formation of a transition suboxide layer and (b) its subsequent drift towards the silicon bulk. We found that it is the superposition of these two processes that produces the crossover from the anomalous oxidation region behavior to the linear-parabolic law. 相似文献