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991.
强电场电离放电产生羟基等离子体反应过程的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
从强电场等离子体反应室结构、电介质材料及加工工艺等方面出发.研究了在建立强电场并把O2、H2O电离后在分子层次上加工成OH^ 、eaq^-(水合电子)等自由基的等离子体反应过程。用这种方法产生的自由基的浓度、产成量均能满足工程上的需要.达到绿色化学12条原则要求,从源头上解决了环境污染问题。着重研究了羟基治理烟气SO2的绿色资源化的新方法.在无吸收剂、催化剂条件下,仅在0.8s内就能把烟气中SO2、H2O和O2电离后在分子层次上加工成H2SO4。 相似文献
992.
993.
对平面波导工艺过程里出现的点缺陷,如气泡、灰尘颗粒等对平面波导内光场造成的散射提供了一种简单而又实用的计算方法。计算基于格林函数方法,并利用矩量法求解积分方程,采用分块矩阵优化算法,使得算法的计算时间直接与点缺陷大小相关,提高了效率。证明了一定大小的点缺陷在特定的波长处会产生很大的散射损耗,证明点缺陷的散射损耗依赖于缺陷大小和光学性质而与其在波导中的位置无直接关系。以二氧化硅平面波导为例,分析了对中心波长1.55μm的入射光场,分别存在气泡和灰尘颗粒两种点缺陷时,散射损耗随点缺陷大小的关系特性,指出工艺过程特别应该避免某些孔径的点缺陷。 相似文献
994.
阵列像素器件投影显示系统中自动对焦评价函数研究 总被引:11,自引:2,他引:11
数字投影显示已成为现代数字显示领域的主流,阵列像素器件投影成像的的精确会聚,直接决定了显示的效果。阵列像素器件的自动对焦,是实现生产自动化的关键技术。以CCD(电荷耦合器件)采集阵列像素器件的局部投影图像为基础,试验和分析了梯度算子、拉普拉斯算子、Sobel算子、Prewitt算子、方差函数和熵函数评价方法在阵列像素器件大屏幕投影显示系统中自动对焦的作用及性能。实验表明,方差算子具有良好的稳定性和对噪声的不敏感性,调节效果较好,可以作为这一特殊系统中的评价方法。 相似文献
995.
高能X射线聚焦组合透镜的理论研究 总被引:1,自引:2,他引:1
X射线聚焦组合透镜是一种利用折射效应对X射线辐射聚焦的新型元件。针对X射线波段的特性,综合考虑折射和吸收效应得出组合透镜的衍射屏函数,并利用衍射理论推导出X射线组合透镜的设计理论。利用统计学理论中一阶、二阶原点矩表征像面处的光学性能,使设计更简洁。该理论方法可方便地推广到双凹折射单元情况。通过数值计算分析了像向处强度分布的二阶中心矩以及焦点处辐射强度随组合透镜结构参最的变化关系,给出了一种铝基X射线组合透镜的结构参量设计结果。对于设计的组合透镜结构参量,计算了当X射线辐射能量分别为0.93 keV.9.89 keV和29.78 keV时,X射线辐射经过组合透镜后的焦点强度分布。 相似文献
996.
997.
概括地介绍了量子变换理论的基本思想,并就这一基本理论在指数上二次型的正规与反正规乘积表示、二次型哈密顿量的配分函数和波函数,以及量子信息中连续变量系统的纠缠度和保真度的计算做了简要的说明。 相似文献
998.
999.
1000.