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991.
992.
本实验首次观察到用MOCVD方法在GaAs基片上外延生长AlxGa1-xAs/GaAs薄膜结构时,生长中所用的Ⅴ/Ⅲ比对外延层中Al组份x的分布的影响.当Ⅴ/Ⅲ比较低时,外延层中的Al组份出现很明显的层状阶梯形三层分布:靠近基片的一层中x值较低,而在外延层的表面层中x值较高.随着生长中所用的Ⅴ/Ⅲ比增加时,Al组份的分布趋于均匀.利用GaAs的高温热分解和Ga、As离子在晶体中的热扩散及其对外延生长的影响,对这一现象作了初步解释. 相似文献
993.
994.
995.
996.
本文通过补充变量法研究了n-1/n(G)表决系统中可靠度,可用度,以及故障频度等可靠性的一系列指标. 相似文献
997.
998.
LP-MOCVD生长InGaAs/InP应变量子阱的研究 总被引:2,自引:1,他引:1
本文研究了LP-MOCVD对不同x值的In1-xGaxAs/InP生长条件,并且生长了压缩应变为0.5%三个不同阱宽的InGaAs/InP量子阱结构,利用77KPL光谱分析了能级同阱宽的关系,实现最窄阱宽为4.4nm,最小全半高峰宽为17.0mev. 相似文献
999.
区间空间上的非紧Ben—El—Mechaiekh—Deguire—Grans型极大极小定理及… 总被引:2,自引:0,他引:2
1000.
本文借助于马尔可夫骨架过程(MSP)方法研究了SMAP/INID/1单重休假随机服务系统的队长及等待时间等指标的瞬时分布. 相似文献