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141.
在研究大量实验曲线的基础上,指出势阱所有能级均有一定的宽度,电子或空穴在各能级中出现的概率符合正态分布,从理论上分析了I类超晶格和双势垒单势阱的发光光谱与吸收光谱·解释了GaAs/Ga1-xAlxAs多量子阱和超晶格吸收光谱吸收边及量子阱变窄时各吸收峰的“蓝移现象”及GaAs/Ga1-xAlxAs双势垒单量子阱样品的电流—电压特性曲线及电导—电压特性曲线的特征和出现的“负阻效应”· 相似文献
142.
Stability of tokamak plasmas with internal transport barriers against high n ideal magnetohydrodynamic ballooning mode
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A ballooning mode equation for tokamak plasma, with the toroidicity and the Shafranov shift effects included, is derived for a shift circular flux tokamak configuration. Using this equation, the stability of the plasma configuration with an internal transport barrier (ITB) against the high n (the toroidal mode number) ideal magnetohydrodynamic (MHD) ballooning mode is analysed. It is shown that both the toroidicity and the Shaftanov shift effects are stabilizing. In the ITB region, these effects give rise to a low shear stable channel between the first and the second stability regions. Out of the ITB region towards the plasma edge, the stabilizing effect of the Shaftanov shift causes the unstable zone to be significantly narrowed. 相似文献
143.
利用电磁理论对表面传导电子发射显示器件的单个子像素在笛卡尔坐标系内建立合理的电学物理模型,对内部电场强度和电势进行了深入研究,推导出了模型不同部分的面电荷密度、电场强度和电势的表达式.为了形象地表征其电学特性,利用MATLAB 6.5对电场强度和电势的分布情况进行了模拟,从理论上对模拟曲面给出了合理的解释,分析了子像素内部电子的发射机理和电学行为,并与电子多重散射模型和惯性离心模型进行了对比,解释了SED阳极电流形成的重要原因.在误差允许的范围内,本模型有关电场强度分布的结论与惯性离心模型一致.
关键词:
表面传导电子发射显示
遂穿效应
面电荷密度
电场强度 相似文献
144.
简要说明了三代像增强器的特点,分析了微通道板的离子反馈形成机理,给出有效抑制离子反馈对光阴极造成伤害的2种方法,即一种是减少和清除微通道板的吸附气体,另一种是阻止反馈离子反馈到光阴极上。介绍了国外最新的三代像增强器,以及使用优化改进的高性能微通道板显著减薄甚至彻底去除微通道板离子反馈膜的方法,该方法能维持砷化镓光阴极足够长的工作寿命,还介绍了最新发展的体导电微通道板和硅微通道板。指出高可靠性无膜选通砷化镓像增强器技术的实现,不仅需要微通道板在抑制离子反馈方面取得突破,还需要砷化镓光阴极在耐受离子反馈能力上进一步提高,同时还要结合和拓展选通电源的应用。 相似文献
145.
载能离子穿过固体界面引起界面原子迁移使界面原子混合和物质成分变化,从而导致界面发生材料相变。简要介绍了载能离子辐照引起金属/绝缘体界面混合效应及相变现象的主要实验研究进展、低能离子和高能离子辐照引起金属/绝缘体界面现象差异,并对离子辐照引起界面混合及相变的机制进行了初步探讨。When penetrating an interface between two kind of solids, energetic ions can induce atomic diffusion at both sides of the interface and then result in intermixing, atom re-distribution or composition change, as well as phase transformation. Main progress on the study of intermixing and phase change at metal/insulator interface induced by energetic ion irradiations, the difference of phenomena occurred at metal/insulator interfaces induced by high-and low-energy ions were briefly reviewed. Furthermore, the possible mechanisms related to intermixing and phase change at metal/insulator interface produced by energetic ion irradiations were also discussed in short words. 相似文献
146.
Based on scalar diffraction theory, 8-phase-level 256×256 elements diffractive microlens array with element dimension of 50×33 μm2 have been fabricated on the back-side of PtSi(3~5 μm) infrared CCD. The measurement results indicated that the ratio of the signal-to-noise of the infrared CCD with microlens was increased by a factor of 2.8. 相似文献
147.
利用六面顶高压设备制备了高密度、低脆性、纳米级的ZnO块体材料,用MDI/JADE5 X射线衍射仪(Cu靶)和XL30S-FEG场发射扫描电子显微镜对高压样品的相组成、晶粒尺寸及微观形貌进行了表征.利用E55+FRA106/5傅里叶变换激光拉曼光谱仪通过ZnO块体样品位于50—500cm-1之内的拉曼光谱, 研究了极性半导体纳米材料的拉曼光谱学特征.发现在极性半导体ZnO纳米块体材料中,没有出现明显的尺寸限制效应.
关键词:
ZnO纳米块体
拉曼光谱
尺寸限制效应 相似文献
148.
Cluster ions have been recognized as a superb primary species in time of flight secondary ion mass spectroscopy (ToF-SIMS) compared with monatomic primary ions, as they significantly enhance the secondary ion yields from bulk samples. Self-assembled monolayers provide an important system for studying the fundamental mechanism involved in the yield enhancement.We used a gold cluster ion source to analyze a new type of self-assembled monolayer: a fluorocarbon-grafted polyethylene terephthalate. In addition to the structure details, which helped to understand the grafting mechanism, ToF-SIMS analysis revealed that fluorocarbon secondary ion yield enhancements by cluster ions were due to the enhanced sputter efficiency. A larger information depth may also be expected from the enhancement. Both mathematical definitions of damage cross-section and disappearance cross-section were revisited under a new context. Another cross-section parameter, sputter cross-section, was introduced to differentiate the beam induced sputter process from damage process. 相似文献
149.
We present a study of the growth kinetics of pentacene monolayer islands on SiO2 in the submonolayer regime by using Atomic Force Microscopy (AFM). Two distinct growth modes, namely correlated growth (CG) and non-correlated growth (NCG), have been identified by Voronoi tesselation. These two modes are characterized by different island growth kinetics. In the case of correlated growth, the average island size 〈A〉 scales with deposition time t i.e. 〈A〉 ∝ t whereas for non-correlated growth, 〈A〉 ∝ t2. The CG and NCG regimes are defined by the level of re-evaporation which determines the capture zones around the islands: Wigner-Seitz cells for CG and coronas of width λD (λD is the mean diffusion distance on SiO2 before re-evaporation) for NCG. A simple model is proposed to reproduce the experimental growth kinetics in both modes. 相似文献
150.