青蒿素与DNA作用的电化学机理

在体积分数为20%乙醇的Britton-Robinson缓冲溶液(pH=7.4)中,利用循环伏安法和紫外可见吸收光谱法研究了青蒿素与DNA的相互作用。电化学研究表明,DNA的存在能导致青蒿素在银电极上-0.672 V处的还原峰电流下降,峰电位正移。通过对比双链DNA(dsDNA)和单链(ssDNA)与青蒿素作用,得出青蒿素可嵌插到DNA分子中,形成非电活性的复合物。电化学方法可计算出DNA与青蒿素的结合比为1∶4,结合常数为3.6×104。电极过程的电化学参数表明,DNA作用前后,α、β值变化不明显,进一步证实了该复合物是非电活性;Ks值变小,表明二者作用后受扩散控制。紫外可见吸收光谱法研究表明,青蒿素对DNA分子发生嵌插作用。通过光谱滴定法可计算二者的结合比和结合常数,同样获得1个DNA结合4个青蒿素分子,结合常数为4.0×104,与电化学方法测定结果相吻合。实验数据显示,青蒿素进入细胞内有可能与细胞核中DNA结合,诱导细胞凋亡。     

谷胱甘肽、表面活性剂共存体系对青蒿素过氧键稳定性的影响

青蒿素的过氧桥键是其抗疟作用的关键部位。采用循环伏安法研究了谷胱甘肽、表面活性剂共存体系对青蒿素过氧键稳定性的影响。实验表明,当青蒿素浓度为1.0mmol/L,谷胱甘肽浓度≥2.0×10-5mol/L时,加入阳离子表面活性剂(1.0×10-5mol/L,DBDAB),在体系中形成了谷胱甘肽-青蒿素-DBDAB三元加合物,该加合物在-0.88V电位下还原,其还原峰电位比游离青蒿素的还原峰电位负移了240mV,其还原反应活化能升高了46·3kJ/moL,使青蒿素的过氧键更趋稳定;而阴离子表面活性剂对体系没有影响。进一步探讨了该三元加合物形成的电极机理。     

青蒿素生物合成的研究III: 青蒿素和青蒿素B生物合成中的关键性中间体-青蒿素

以[15-^3H]青蒿酸为前体用青蒿匀聚浆体进行青蒿素和青蒿素B的生物合成.实验结果表明, 在青蒿植物由MVA生物合成青蒿素和青蒿素B的途径中, 青蒿酸是关键性中间体.     

青蒿素与转铁蛋白相互作用的光谱分析

应用分子荧光光谱与紫外-可见吸收光谱法研究了青蒿素与转铁蛋白分子间的相互作用,发现青蒿素对转铁蛋白有荧光猝灭作用,并对其作用机理做了探讨。依据F ster非辐射能量转移理论,测定了在30℃时,转铁蛋白-青蒿素间的结合常数(K=1.74×105L/mol)和结合位点数(n=0.696),结合距离(r=1.94nm);并采用同步荧光技术考察了青蒿素对转铁蛋白构象的影响。     

抗疟倍半萜过氧化物青蒿素和鹰爪素A的全合成

青蒿素和鹰爪素A是从中药中分离的两个含过氧基团的抗疟活性组分。特别是青蒿素已成为新型的抗疟药物,因而引起合成化学家的极大兴趣。现对该两个化合物的全合成作一综述。     

青蒿截疟组合物与牛血清白蛋白的相互作用

利用荧光光谱法研究青蒿截疟组合物(青蒿素、青蒿乙素、青蒿酸与东莨菪内酯质量比为1∶1∶1∶1的混合体系,AAAS)与牛血清白蛋白(BSA)的相互作用.结果表明,与青蒿素单独作用相比,AAAS对BSA的荧光猝灭作用增强,并以静态猝灭为主;计算了298,303和310 K下的结合常数、结合位点数和热力学参数,表明AAAS与BSA之间具有较强的静电引力,相互作用过程是一个熵增加的自发分子间作用过程.AAAS对BSA的猝灭常数和结合常数均增大.结果表明,AAAS显著增加了青蒿素与血清白蛋白的结合作用,此过程可能是AAAS增加青蒿素抗疟疗效的重要体内环节.     

青蒿素及其一类物结构和合成的研究XIV.6-异脱氧双氢青蒿乙素的内酯构型和反应

根据圆二色谱和化学反应确定6的内酯构型为β-顺式,6用Pd-CaCO3或NaBH4-NiCl2还原时发生SN2'反应而得烯酸10。     

青蒿素及其一类物的结构和合成XI.青蒿乙素及异青蒿乙素的立体选择性合成

本文报道以青蒿酸为原料合成青蒿乙素(1)及其6β-异构体4. 并根据红外光谱丶核磁共振谱丶圆二色散以及有关的化学反应确定了究们的结构和构型.